[发明专利]磁复制用主载体无效

专利信息
申请号: 02124920.2 申请日: 2002-06-25
公开(公告)号: CN1393855A 公开(公告)日: 2003-01-29
发明(设计)人: 西川正一;安永正 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G11B5/86 分类号: G11B5/86;G11B5/84
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 复制 载体
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种载置有磁复制在从属介质上的复制信息的磁复制用主载体。

背景技术

在磁记录介质中,通常,随着信息量的增加,希望有记录许多信息的大容量、廉价并且最好在短时间内可读出所需部位的所谓可高速存取的介质。作为这样的一个实例,已知在硬盘装置或软盘装置中使用的高密度磁记录介质(磁盘介质),为了实现其大容量化,磁头准确地扫描狭窄的磁道宽度,用高的S/N比再生信号的所谓跟踪伺服技术发挥了很大的作用。为了进行这种跟踪伺服,在磁盘中,以某种间隔记录跟踪用的伺服信号、地址信息信号、再生时钟信号等作为所谓的预格式化。

作为准确而有效地进行这种预格式化的方法,将主载体载置的伺服信号等信息磁复制在磁记录介质上的磁复制方法已在特开昭63-183623号公报、特开平10-40544号公报、特开平10-269566号公报等中公开。

这种磁复制通过准备具有与要复制到磁盘介质等磁记录介质(从属介质)上的信息相对应的、由表面有磁性层的多个凸部构成的图形的主载体,在将该主载体与从属介质密合的状态下,施加复制用磁场,从而将与主载体的凸部图形载置的信息(例如伺服信号)相对应的磁性图形复制到从属介质上,从而可使主载体与从属介质的相对位置不变化地进行静音记录,可准确地进行预格式化记录,并且具有记录所需时间非常短的优点。

磁复制中使用的主载体通过在硅基板、玻璃基板等上进行照相化学腐蚀制造法、溅射、蚀刻等处理,形成磁性体的凹凸图形而成。

另外,认为可以应用在半导体等中使用的平版印刷技术或者制造光盘刻印机中使用的刻印制作技术,制作磁复制用主载体。

为了提高上述磁复制中的复制品质,如何使主载体与从属介质无间隙地密合成为重要的课题。也就是说,如果密合不良,会产生未进行磁复制的区域,一旦没有进行磁复制,则在复制到从属介质上的磁信息中会发生信号遗漏,信号质量下降,记录的信号为伺服信号时,存在不能充分获得跟踪功能,可靠性下降的问题。

另外,在上述磁复制中,为了由平坦的主载体以从单侧或两侧夹持地方式压接从属介质,并使之密合,必须以高标准除去尘埃。这是因为在密合部,如果存在尘埃,则不仅不能稳定地进行磁复制,也会存在损伤主载体或从属介质的可能性。

另外,在磁复制中,为了对主载体和从属介质施加较强的压力,实现全面密合,反复进行多次磁复制,密合次数增多时,则通过该工序,在基板上制作的软磁性层剥落,其存在于密合部,复制信号质量降低,同时,成为主载体的耐久性劣化的主要原因。

作为主载体的磁性层发生剥离等的原因,例如磁性层与从属介质的磁性层、保护层、润滑剂层的化学亲和力大、磁性层自身对外力脆等。即,使主载体与从属介质密合,进行磁复制后,与该从属介质剥离之际,作为密合部的主载体的磁性层与从属介质的润滑剂层、保护层、磁性层间的化学亲和力大,因此在主载体的磁性层上施加与基板侧相反的力,反复进行该操作,会产生剥离,另外,反复使用中,主载体因承受冲击等外力,磁性层也会产生局部剥离或脱落。

作为减少主载体的磁性层剥离等的方法,在特开2000-195048公报或特开2001-14665公报等中公开了在主载体的磁性层表面设置DLC膜(类金刚石碳膜,diamond like carbon)的方法,或者再在成为与从属介质的接触面的最上层设置润滑剂层的方法等。通过设置DLC膜或润滑剂层,能够在某种程度上减少主载体的磁性层的剥离等,不言而喻,充分提高了耐久性,磁性层的剥离等并不是变得完全没有。另外,以往的磁性层多由于因剥离等导致的剥离物等的尺寸变大,一旦产生剥离,由于这种剥离物等,发生复制不良,复制性能降低。

另外,在磁性层剥离等的场所遍布范围较宽时,复制信号的脱落量超过容许范围,主载体变得不能使用。该主载体为昂贵的主载体,用1块主载体可以在几块从属介质上进行复制,这对于抑制制造成本非常重要。

另一方面,即使在磁性层剥离等情况下,剥离等的场所小,剥离物、脱落物的尺寸小的情况下,对复制信号的欠缺、密合性不良导致的复制不良等的影响也小,因而与复制品质的降低无关,即使作为主载体也认为可继续使用。

发明内容

本发明鉴于上述事实,其目的在于提供一种耐久性提高并且抑制了复制不良的磁复制用主载体。

本发明的磁复制用主载体在形成于基板上的图形上设有软磁性层,其特征在于,所述基板与软磁性层的附着力为1×109N/m2以上,同时,所述基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度Do随着离开表面的距离加大而变少,相对于图形形成深度部位的氧元素浓度Dh,成为Do>Dh的关系。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/02124920.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top