专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种ZnTe合金靶材的制备方法-CN202310232401.9在审
  • 张玉玲;朱伟 - 基迈克材料科技(苏州)有限公司
  • 2023-03-13 - 2023-07-04 - C23C4/08
  • 本发明公开了一种ZnTe合金靶材的制备方法,涉及溅射镀膜领域,其技术方案要点是:一种ZnTe合金靶材的制备方法,包括以下步骤S1:将Zn锭和Te锭作为原料,清洗烘干后按原子质量份数装入坩埚中,加入气雾化设备中,温度1300‑1400℃,压力3‑5MPa,制备ZnTe合金粉末;S2:将所述合金粉末球磨后过筛,得到<50um的过筛粉末;S3:将过筛后的粉末用烧结炉进行烧结,烧结温度950‑1100℃,保温4‑7h,得到ZnTe合金烧结粉体;S4:将背靶进行喷砂处理,喷砂用铁砂,目数为:40‑60目;将所述ZnTe合金烧结粉体与背靶通过热喷涂设备进行结合,得到ZnTe合金毛坯靶材;S5:将所述ZnTe合金毛坯靶材进行抛光和加工处理,得到ZnTe合金靶材。本发明能够制备导电性好的ZnTe合金靶材。
  • 一种znte合金制备方法
  • [发明专利]一种维持ZnTe晶体稳定性的方法-CN202010819993.0在审
  • 徐亚东;孙俊杰 - 南京公诚节能新材料研究院有限公司
  • 2020-08-14 - 2020-11-20 - C30B9/12
  • 本发明公开了一种维持ZnTe晶体稳定性的方法,包括采用Te熔剂‑TGSM技术生长ZnTe电光晶体;探索掺杂对Zn空位的补偿原理和效率;选取Zn粒作为退火源,将ZnTe晶体插在石英支架上固定于石英管内的一端,退火源金属Zn粒装入退火管的另一端,将退火管内抽成真空,然后熔封退火管;将退火管装入两段式退火炉,ZnTe晶体在Zn蒸汽氛围中进行退火;退火后,取出退火管,将ZnTe晶体取出,去除晶体的损伤层,并对晶体表面进行打磨抛光改善熔体的对流,优化溶质的分布,生长大尺寸、低缺陷密度ZnTe单晶,优化退火工艺消除ZnTe晶体中微米尺度的Te夹杂,并实现对其电活性缺陷的调控,提高稳定性,提高晶体的电学和光学性能。
  • 一种维持znte晶体稳定性方法
  • [发明专利]一种取向纳米晶ZnTe晶体的制备方法-CN201210080824.5无效
  • 王占勇;钟柳明;金敏;徐家跃;申慧;房永征 - 上海应用技术学院
  • 2012-03-26 - 2012-07-18 - C30B29/48
  • 本发明公开一种取向纳米晶ZnTe晶体的制备方法,即以纯度高于99.999%的金属Zn和Te为原料,在真空中合成ZnTe合金料,合金料经过去离子水清洗,用导电银胶粘结在脉冲激光沉积设备载物台上,作为溅射靶材,在室温下以脉冲激光能量密度为2~5J/cm2溅射ZnTe靶材,靶材与衬底距离设置为5cm,溅射衬底为玻璃、蓝宝石或单晶硅等,将溅射后的薄膜在30~400℃下进行原位退火处理后,即得到取向纳米晶ZnTe所得的取向纳米晶ZnTe晶体,其晶粒尺寸约为20~60nm,且具有<110>和<111>取向。与传统制备方法相比,该方法可通过溅射后退火温度控制、衬底控制实现纳米晶ZnTe晶体取向生长。
  • 一种取向纳米znte晶体制备方法
  • [发明专利]一种碲化锌单晶生长技术-CN200910048393.2无效
  • 徐家跃;金敏;赵洪阳;胡同兵;何庆波;房永征 - 上海应用技术学院
  • 2009-03-27 - 2009-10-07 - C30B11/00
  • 本发明涉及一种ZnTe单晶的底部籽晶法生长技术,即将合成好的高纯富碲多晶ZnTe原料,装入底部事先安置好ZnTe籽晶的PBN坩埚内,然后密封于石英坩埚内,置于三温区下降炉内进行生长晶体,炉温控制在1000晶体生长结束后,通过调整坩埚位置和控制炉温,对晶体实行原位退火,即获得ZnTe单晶。本发明的ZnTe单晶的底部籽晶法生长技术,所用的生长炉结构简单,操作方便,炉膛内部温度梯度可调节,且原位退火可降低热应力引起的晶体缺陷,同时由于炉内多个等效工位,可同时生长多根晶体,降低晶体成本,非常适合规模生产
  • 一种碲化锌单晶生长技术
  • [发明专利]一种提高ZnTe晶体掺杂元素均匀性的方法-CN202010821085.5在审
  • 徐亚东;孙俊杰 - 南京公诚节能新材料研究院有限公司
  • 2020-08-14 - 2020-11-06 - C30B29/48
  • 本发明公开了一种提高ZnTe晶体掺杂元素均匀性的方法,包括如下步骤:采用Te熔剂‑TGSM技术生长ZnTe电光晶体;将晶体在生长炉内低温区保温退火;将晶体锭条取出,进行定向切片,研磨和抛光,然后清洗干净并甩干备用;建立掺杂量与ZnTe晶体电阻率及载流子传输特性的定量关系,获得THz辐射的吸收和散射机理;将晶体切片架在石英支架上固定于石英安瓿内,将安瓿瓶进行内进行抽真空,然后对安瓿瓶的瓶口进行熔封,将安瓿瓶放入退火炉进行均匀性退火通过建立掺杂量与ZnTe晶体电阻率及载流子传输特性的定量关系,获得THz辐射的吸收和散射机理,优化掺杂浓度及设计多阶段组合退火处理工艺,最终获得高均匀性光学品质的ZnTe晶体。
  • 一种提高znte晶体掺杂元素均匀方法

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