专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于DMD的倾斜式高速扫描的3D灰度曝光方法-CN202310737131.7在审
  • 吴春晓 - 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
  • 2023-06-19 - 2023-09-29 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种基于DMD的倾斜式高速扫描的3D灰度曝光方法,包括获取待曝光的灰度图,并进行数据预处理;根据实时获取的触发信号基于预处理后的数据读取特定帧数据,并快速加载到DMD,对DMD的微镜进行若干次周期性翻转操作,得到数字灰度掩模版;同时基于倾斜扫描方式的激光直写系统扫描时,利用DMD多行扫描,并根据不同的倾斜因子进行扫描时多次叠加;最后基于连续激光器依据预设曝光剂量比例进行光度刻蚀,得到最终的8位灰度图形。本发明通过基于DMD的直写系统为倾斜扫描的方式,并利用扫描叠加结合二元脉宽灰度调制方式,实现微纳加工领域加工更精细的微纳3D器件方式。
  • 一种基于dmd倾斜高速扫描灰度曝光方法
  • [发明专利]光刻系统的扫描方法和光刻系统-CN202110019610.6有效
  • 陈国军;吴景舟;马迪 - 江苏迪盛智能科技有限公司
  • 2021-01-07 - 2022-08-23 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种光刻系统的扫描方法和光刻系统,涉及光刻技术领域,所述方法应用于光刻系统,所述光刻系统包括机台、工作台和数字微镜器件DMD,所述DMD设置在所述机台上,所述工作台用于设置被光刻对象,所述方法包括:控制运动主体进行运动,以使所述DMD与所述被光刻对象同时发生第一方向和第二方向上的相对运动,所述运动主体包括以下至少一种:所述DMD、所述机台和所述工作台。避免了现有方案中在需要更改清晰度时需要更换不同参数的DMD成本较高的问题,达到了可以通过调整运动主体的运动速度进而方便快捷的实现清晰度调整的效果。
  • 光刻系统扫描方法
  • [发明专利]一种变焦投影光学系统-CN201710762633.X有效
  • 全丽伟;李建华;龚俊强 - 中山联合光电科技股份有限公司
  • 2017-08-30 - 2023-05-26 - G02B13/18
  • 本发明公开了一种变焦投影光学系统,在投射方向上依次设置有:第一透镜组,第二透镜组,第三透镜组,第四透镜组,等效棱镜,DMD发光芯片;所述第一透镜组,能相对DMD芯片前后移动,所述第一透镜组的光焦度为负;所述第二透镜组,能相对DMD芯片前后移动,所述第二透镜组的光焦度为正;所述第三透镜组,能相对DMD芯片前后移动,所述第三透镜组的光焦度为正;所述第四透镜组,能相对DMD芯片前后移动,所述第四透镜组的光焦度为正
  • 一种变焦投影光学系统
  • [发明专利]椭圆光栏投影镜头-CN201110123927.0无效
  • 李智超;王海湘;马永珍;刘维娜 - 利达光电股份有限公司
  • 2011-05-13 - 2011-09-14 - G02B13/00
  • 本发明公开了一种椭圆光栏投影镜头,具有椭圆光栏和DMD器件,其中:所述DMD器件为菱形像素,在垂直于DMD器件像素铰链方向是椭圆光栏的短轴,椭圆光栏短轴长度尺寸等于投影镜头数值孔径为F/2.4时投影镜头的光栏孔径数值,在平行于DMD器件像素铰链方向是椭圆光栏的长轴,椭圆光栏长轴长度尺寸等于投影镜头数值孔径为F/2.4~F/1.5时投影镜头的光栏孔径数值,所述投影镜头的椭圆光栏的长轴与DMD器件像素铰链方向平行。
  • 椭圆投影镜头

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