专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]蚀刻气体-CN201080054665.0无效
  • 高田直门;毛利勇 - 中央硝子株式会社
  • 2010-11-19 - 2012-08-22 - C07C19/08
  • 本发明公开一种含有CHF2COF而成的蚀刻气体。该蚀刻气体可以含有选自O2O3、CO、CO2、F2、NF3、Cl2、Br2、I2、XFn(式中,X表示Cl、I或Br、n为1≤n≤7的整数)、CH4、CH3F、CH2F2、CHF3、N2、He、Ar、Ne、Kr等、或选自CH4C2H2C2H4C2H6、C3H4C3H6、C3H8、HI、HBr、HCl、CO、NO、NH3、H2等、或选自CH4、CH3F、CH2F2、CHF3中的至少1种气体作为添加物该蚀刻气体不仅对抗蚀剂的选择比、加工形状等蚀刻性能优异,且容易获得,实质上不副产对环境有负担的CF4
  • 蚀刻气体
  • [发明专利]4‑(N,N′‑双(4‑羧基苄基)氨基)苯磺酸钴配合物及合成方法-CN201710241253.1有效
  • 肖瑜;易茗 - 桂林理工大学
  • 2017-04-13 - 2017-07-18 - C07C309/46
  • 本发明公开了一种4‑(N,N′‑双(4‑羧基苄基)氨基)苯磺酸钴配合物{[Co(HL)]·(H2O)2}n及合成方法。该钴配合物{[Co(HL)]·(H2O)2}n的分子式为:C22H21CoNO9S,分子量为:534.39g/mol,H3L为分析纯4‑(N,N′‑双(4‑羧基苄基)氨基)苯磺酸。称取0.220g‑0.440g分析纯H3L于带有20mL聚四氟乙烯里衬的不锈钢反应釜中,加入10mL‑15mL分析纯乙醇和3滴醋酸,在磁力搅拌器上搅拌15min,称取分析纯无水乙酸钴0.088g‑0.176g于釜中,继续搅拌至溶液均一后,置于密闭烘箱中,在120℃恒温条件下反应72h,以5℃/h的速率降至室温,得到深紫色透明的块状晶体C22H21CoNO9S。
  • 羧基苄基氨基苯磺酸钴配合合成方法
  • [发明专利]乙烯-四氟乙烯-(甲基)丙烯酸酯共聚物-CN200980118303.0无效
  • 邱伟明;A·拉哈文皮莱;P·M·墨菲;J·L·N·S·弗拉特 - 纳幕尔杜邦公司
  • 2009-05-20 - 2011-04-27 - C08F220/24
  • 本发明公开了共聚物组合物,所述共聚物组合物包含按以下重量百分比共聚的单体:(a)约20%至约95%的式(I)的单体、或单体的混合物:CnF2n+1(CH2)x[(CF2CF2)y(CH2CH2)z]m-L-C(O)-C(R)=CH2 (I)其中R为HCl、F或CH3;L为O、S、NH、S-(CH2)rO、S-(CH2)rNH、OC(O)NH-CH2CH2O、NHC(O)NHCH2CH2O、S-(CH2)rOC(O)NHCH2CH2O、或S(CH2)rNHC(O)NHCH2CH2O;下标n为1至约6的整数;下标x为1至约6的整数;下标y、z和m各自独立地为1、2或3、或它们的混合;并且下标r为1至约10;并且其中所述碳氟-碳氢链段(式(I),不包括L-C(O)-C(R)=CH2)中的碳总数在约8至约22范围内,和(b)约5%至约80%的至少一种下列单体:(i)(甲基)丙烯酸烷基酯单体,所述单体具有约6至约18个碳的直链、支链或环状烷基;或(ii)式(II)的单体(R2)2N-R3-O-C(O)-C(R)=CH2 (II)其中R为HCl、F或CH3;每个R2独立地为C1-C4烷基;并且R3为直链或支链的C1-C4二价亚烷基
  • 乙烯甲基丙烯酸酯共聚物

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