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- [发明专利]剥离层形成用组合物-CN202110782191.1在审
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江原和也;进藤和也
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日产化学工业株式会社
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2016-02-08
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2021-09-17
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C08L79/08
- 本发明涉及剥离层形成用组合物.本发明提供一种层叠体,其为依次层叠基体、剥离层和树脂基板而成的层叠体,所述剥离层与基体的剥离性小于与树脂基板的剥离性,所述剥离层由剥离层形成用组合物形成,所述剥离层形成用组合物包含:使芳香族二胺与芳香族四羧酸二酐反应得到的聚酰胺酸、和有机溶剂,上述芳香族四羧酸二酐包含含有酯键的芳香族四羧酸二酐。其包含:使芳香族二胺与芳香族四羧酸二酐反应得到的聚酰胺酸、和有机溶剂,上述芳香族二胺包含含有醚键的芳香族二胺,和/或上述芳香族四羧酸二酐包含含有醚键的芳香族四羧酸二酐。
- 剥离形成组合
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