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- [发明专利]曝光控制装置-CN202010673146.8有效
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西岛征和
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丰田自动车株式会社
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2020-07-14
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2022-03-11
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H04N5/235
- 本公开涉及曝光控制装置，其搭载于具备灯具的车辆的摄像头。该曝光控制装置具备：曝光设定单元，其按各帧期间设定摄像头的曝光时间，并且按各预定期间使摄像头的曝光时间周期性地变化，该预定期间是与灯具的光量的变化周期相同或者其整数倍的长度的期间、且是包含多个帧期间的期间；和调整单元，其设置校准期间，该校准期间是用于设定曝光时间的期间。曝光设定单元在校准期间中将多个帧期间中的曝光时间设定为恒定，基于在校准期间中通过摄像头拍摄到的多个图像各自的明亮度的程度，设定多个帧期间各自中的曝光时间。
- 曝光控制装置
- [发明专利]曝光控制装置-CN98106305.5无效
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赖俊颍
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致伸实业股份有限公司
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1998-03-30
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2003-06-25
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H04N5/335
- 本发明涉及一种曝光控制装置与方法，其特点是，当CCD模块曝光后，可利用计数器分别送出三激发信号，各别对CCD模块中的红光感测器、绿光感测器及蓝光感测器加以激发和以撷取所需的图像信号，由于馈入各CCD感测器的激发信号各自独立，且各CCD感测器仅针对某特点的激发信号反应，因此可避免CCD受其他不相关的激发信号牵制，大幅增加曝光时间，由此延长了电子元件的寿命，降低了生产成本，提高了产品的竞争力。
- 曝光控制装置
- [发明专利]一种乳腺机及乳腺机自动曝光控制方法-CN201710279048.4在审
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邹鲁民
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北京友通上昊科技有限公司
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2017-04-25
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2017-07-28
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A61B6/00
- 本发明实施例提供了一种乳腺机及乳腺机自动曝光控制方法，乳腺机包括高压发生器、DIOS自动曝光控制装置、DIOS控制装置、压力控制装置及终端等部件；压力控制装置使目标物压迫至最佳压迫强度，并将目标物的厚度传输至终端，终端根据目标物的厚度计算出最佳的曝光参数，通过DIOS控制装置，传输曝光参数中的曝光时间长度至DIOS自动曝光控制装置，传输曝光参数中的电流值和电压值至高压发生器；高压发生器按所获得的曝光参数产生X射线进行曝光，当曝光时间到达DIOS自动曝光控制装置所获得的曝光时间长度后，DIOS自动曝光控制装置控制高压发生器结束曝光，本发明实施例，实现了自动曝光控制，避免了人为设定曝光参数所造成的过曝光或欠曝光的问题。
- 一种乳腺自动曝光控制方法
- [发明专利]曝光控制装置和曝光控制方法-CN200410083768.6有效
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仓根治久
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精工爱普生株式会社
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2004-10-19
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2005-04-27
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G03B7/091
- 一种曝光控制装置和曝光控制方法。曝光控制装置(1)在使图像传感器(11)的快门速度和PGA(12)的增益的校正量按照曝光误差的大小来变化的同时，将其调整成使曝光误差在曝光容许范围内。并且，曝光控制装置(1)根据从微控制器(30)输入的控制灵敏度，使图像传感器(11)的快门速度和PGA(12)的增益的校正量按照规定的不同变化率来变化。并且，曝光控制装置(1)在使曝光误差收敛到曝光容许范围内之后，在发生闪烁现象的情况下，设定低的控制灵敏度。因此，根据本发明的曝光控制装置(1)，为了从摄影图像中检测出目标信息，能够进行合适的曝光控制。
- 曝光控制装置方法
- [发明专利]曝光系统与曝光工艺-CN201310545591.6在审
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林承叡;陈右儒;高振宽;郑竹均
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群创光电股份有限公司
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2013-11-06
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2015-05-20
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G02F1/1337
- 本发明揭露一种曝光系统与曝光工艺。其中，曝光系统是对一组立液晶面板进行曝光工艺。组立液晶面板具有一应连续曝光时间。曝光系统包括一光源装置、一快门装置以及一控制装置。光源装置可发射一光线照射于组立液晶面板。快门装置位于光线的光路径上。控制装置控制光源装置或快门装置，进而控制照射于组立液晶面板的光源照度，控制装置令组立液晶面板于曝光工艺中具有多个接受第一光源照度的第一曝光时间与多个接受第二光源照度的第二曝光时间，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间交错排置，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间的加总实质等于应连续曝光时间。
- 曝光系统工艺
- [发明专利]曝光装置及曝光方法-CN202010854084.0有效
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朱天宇;杜卫冲
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中山新诺科技股份有限公司
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2020-08-24
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2023-06-06
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光装置及曝光方法，曝光装置包括机架、第一曝光组件、第二曝光组件、监测组件和控制器，第一曝光组件和第二曝光组件均设在机架上，第一曝光组件和第二曝光组件之间形成曝光区；监测组件设在机架上，监测组件用于监测基板的位置；控制器与第一曝光组件、第二曝光组件和监测组件电性连接。曝光方法能够应用于前述的曝光装置。该曝光装置，基板通过曝光区时，第一曝光组件和第二曝光组件分别对基板的相对两侧进行曝光，实现双面曝光，曝光效率高；同时，监测组件实时监测基板的位置，控制器根据基板的实时位置及时调整第一曝光组件和第二曝光组件的曝光路径，以提高曝光精度。
- 曝光装置方法
- [实用新型]摄影自动曝光控制系统-CN201120240752.7有效
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徐帅;许洪翔
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山东新华医疗器械股份有限公司
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2011-07-09
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2012-05-30
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A61B6/00
- 摄影自动曝光控制系统，属于医疗设备技术领域。包括自动曝光控制装置，所述自动曝光控制装置分别与滤线栅、平板探测器相互电联接；所述自动曝光控制装置经前置放大装置与电离室相互电联接；所述自动曝光控制装置与高压发生器相互电联接，所述高压发生器分别与X射线球管、遮光器相互电联接；所述自动曝光控制装置包括曝光停止输出模块、电源模块、电路控制器模块。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：在曝光停止输出模块中设置有采集电路，采集在普通曝光模式下电离室输出的干扰信号，并将这一信号滤除，有利的避免了X射线剂量测量设备在普通曝光模式下的缺点，将普通曝光模式与自动曝光模式有效的结合起来
- 摄影自动曝光控制系统
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