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[发明专利]自动聚焦装置-CN200910246348.8有效
发明人：长滨龙也;冈部宪嗣;松宫贞行 -专利权人：株式会社三丰
申请日： 2009-11-27 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G02B7/28 文献下载
摘要：本发明涉及一种自动聚焦装置，其包括物镜、观察光学系统、在物镜的光轴方向上移动物镜的驱动机构、用于使光穿过物镜照射待测物体的待测面的照明光学系统光路、和图案投射光学系统光路。在所述图案投射光学系统光路上设置有电子控制遮光器、形成有预定图案的图案投射板、和投射透镜。
自动聚焦装置

[发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202110080755.7在审
发明人：柳泽博隆 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：投射光学系统和投影仪。提供能够缩短投射距离的投射光学系统。投射光学系统具有：第1光学系统，其具有第1透镜；以及第2光学系统，其具有光学元件，配置于第1光学系统的放大侧。第1透镜在第1光学系统中配置于最靠放大侧。光学元件具有第1透过面、配置于第1透过面的放大侧的第1反射面、配置于第1反射面的放大侧的第2反射面、以及配置于第2反射面的放大侧的第2透过面。第2反射面在沿着第1光学系统的第1光轴的方向上配置于第1透镜的放大侧的第1面与第1反射面之间。第2透过面在沿着第1光轴的方向上相对于第2反射面配置于与第1光学系统所在的一侧相反的一侧。
投射光学系统投影仪

[实用新型]投射用光学系统以及投射型显示装置-CN201620133306.9有效
发明人：天野贤 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-02-22 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： G02B13/06 文献下载
摘要：本实用新型提供在形成中间像的投射用光学系统中实现了小型化、并且为广角且良好地修正了各种像差的具有高投射性能的投射用光学系统以及具备该投射用光学系统的投射型显示装置。该投射用光学系统从缩小侧起依次由使图像显示元件上的图像成像为中间像的第一光学系统、利用反射面将光路弯折的第一光路弯折机构、将中间像成像到放大侧共轭面上的第二光学系统构成，第二光学系统从缩小侧起依次由具有正光焦度的第一透镜组
投射用光系统以及显示装置

[发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202110088018.1有效
发明人：守国荣时 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：提供投射光学系统和投影仪，能够缩短投射距离。投射光学系统具有：第1光学系统；以及第2光学系统，其具有光学元件并且配置在第1光学系统的放大侧。光学元件具有第1透过面、配置在第1透过面的放大侧的第1反射面、配置在第1反射面的放大侧的第2反射面以及配置在第2反射面的放大侧的第2透过面。第2反射面具有凹形状。第1光学系统的第1光轴与第2反射面的第2光轴交叉。
投射光学系统投影仪

[发明专利]投射光学系统和投影仪-CN202110063256.7有效
发明人：守国荣时;渡边果步 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2021-01-18 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：投射光学系统和投影仪。能够缩短投射距离。投射光学系统具有：第1光学系统；以及第2光学系统，其具有光学元件，配置于第1光学系统的放大侧。第1光学系统具有第1透镜和配置于第1透镜的缩小侧的第2透镜。光学元件具有第1透过面、配置于第1透过面的放大侧的反射面、以及配置于反射面的放大侧的第2透过面。第1透镜的两面是非球面。第2透镜的两面是非球面。光学元件、第1透镜和第2透镜中的至少一方在沿着第1光学系统的第1光轴的光轴方向上移动。
投射光学系统投影仪

[发明专利]投影仪及投影仪的发光控制方法-CN201310261881.8有效
发明人：水野贤五 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2013-06-27 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： G03B21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够对投影仪投射的光的白平衡进行适当地调整的投影仪以及投影仪的发光控制方法。投影仪（1）具备：多个激光光源（42）、（43）；对多个激光光源（42、43）发出的光进行调制并投射的投射部（20）；使从投射部（20）投射的调制光（28）的投射状态光学性地变化的投射光学系统（23）；使投射光学系统（23）的状态变化的投射光学系统驱动部（34）；将投射光学系统（23）的状态与用于调整调制光（28）的白平衡的各个激光光源（42、43）的发光量的调整值相关联地进行存储的存储部（15）；以及基于与投射光学系统
投影仪发光控制方法

[发明专利]投影机、投射单元和电子黑板-CN201210137948.2有效
发明人：守国荣时 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2011-03-04 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： G03B21/10 文献下载
摘要：本发明提供一种用于实现通过超短距离的接近投射来映出图像，以及通过中长距离的投射来映出图像的投影机和用于该投影机的投射单元。还提供一种能够降低重量、耗电、成本、抑制进深尺寸，并且便利性高的电子黑板。该投影机包括：包含将图像光出射的出射光学系统的主体部（2）；和将从出射光学系统出射的图像光向被照射面投射的投射单元（3），投射单元（3）具备：转换图像光的像的倍率的变倍光学系统；和使来自变倍光学系统的图像光反射进行广角化的广角化镜，变倍光学系统针对构成相对于出射光学系统的光轴倾斜的像面的像进行倍率转换。
投影机投射单元电子黑板

[发明专利]投影机、投射单元和电子黑板-CN201110053418.5有效
发明人：守国荣时 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2011-03-04 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G03B21/10 文献下载
摘要：本发明提供一种用于实现通过超短距离的接近投射来映出图像，以及通过中长距离的投射来映出图像的投影机和用于该投影机的投射单元。还提供一种能够降低重量、耗电、成本、抑制进深尺寸，并且便利性高的电子黑板。该投影机包括：包含将图像光出射的出射光学系统的主体部(2)；和将从出射光学系统出射的图像光向被照射面投射的投射单元(3)，投射单元(3)具备：转换图像光的像的倍率的变倍光学系统；和使来自变倍光学系统的图像光反射进行广角化的广角化镜，变倍光学系统针对构成相对于出射光学系统的光轴倾斜的像面的像进行倍率转换。
投影机投射单元电子黑板

[发明专利]投射光学系统和投影仪装置-CN201580059225.7有效
发明人：松尾恭彦 -专利权人：株式会社日东
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： G02B17/08 文献下载
摘要：投射光学系统(10)是从缩小侧的第一像面(5)向放大侧的第二像面(6)进行投射的光学系统。该投射光学系统(10)具有：第一光学系统(11)，其包括多个透镜，将由从缩小侧入射的光在该第一光学系统(11)的内部成像的第一中间像(51)在比该第一光学系统(11)靠放大侧的位置处成像为第二中间像(52)；第二光学系统(12)，其包括第一反射面(M1)，该第一反射面(M1)位于比第二中间像(52)靠放大侧的位置处，具有正的折射力；以及玻璃块(30)，其配置于第一光学系统(11)与第一反射面(M1)之间，从第一光学系统(11)到达第二中间像(52)的光线通过该玻璃块(30)。
投射光学系统投影仪装置

[实用新型]投射用光学系统及投射型显示装置-CN201821320553.5有效
发明人：天野贤 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-08-15 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： G03B21/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种由反射光学系统与折射光学系统的组合来构成且形成中间像，并且不使反射光学系统大型化而实现广角化且具有高性能的投射用光学系统及投射型显示装置。本实用新型的投射用光学系统从放大侧依次由1片凸面反射镜(M)及配置在该凸面反射镜(M)的缩小侧的多个透镜构成的第1光学系统(G1)以及第2光学系统(G2)构成。第1光学系统(G1)的最靠放大侧的透镜是负透镜。将凸面反射镜(M)的近轴曲率半径设为Mr，将第1光学系统(G1)的最靠放大侧的负透镜的焦距设为fL1时，优选满足条件式：0＜Mr/fL1＜4.5。
光学系统凸面反射镜投射投射型显示装置反射光学系统透镜本实用新型放大负透镜优选满足条件折射光学系统焦距广角化缩小侧中间像近轴配置

[发明专利]眼科装置-CN202310216890.9在审
发明人：冈本圭一郎;边光春 -专利权人：株式会社多美
申请日： 2023-03-08 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： A61B3/103 文献下载
摘要：眼科装置具有测量光学系统、运算装置、光束偏转部件和驱动装置，测量光学系统具有投光光学系统和受光光学系统，投光光学系统具有向受检眼的眼底部投射点状的光束的光源；受光光学系统具有接收来自受检眼的眼底部的反射光的受光元件；运算装置根据受光元件的输出计算受检眼的眼睛屈光力；光束偏转部件被配置于测量光学系统的光路，用于使从光源投射的光束偏转；驱动装置驱动光束偏转部件，以使由光源投射的光束对受检眼进行环状扫描。光束偏转部件设置为：当由驱动装置驱动时由光源投射的光束的行进方向在受检眼与光束偏转部件之间交叉。据此，不管受检眼的眼轴长度如何，都能适当地向受检眼的眼底部投射光束。
眼科装置

[发明专利]光源装置、检测装置和电子设备-CN202080018996.2在审
发明人：佐藤拓海;池应敏行;泉谷一磨;植野刚 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2020-03-11 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G02B19/00 文献下载
摘要：一种光源装置，包括光源和投射光学系统。光源包括多个光发射器。投射光学系统被配置为发射从光源发射的光。对应于投射光学系统的放大率相对较大的被照射区域的光源的光发射区域中的每单位面积的光发射量大于对应于投射光学系统的放大率相对较小的被照射区域的光发射区域中的每单位面积的光发射量。
光源装置检测电子设备

[发明专利]投影光学系统和采用该投影光学系统的投影显示装置-CN200710004318.7无效
发明人：小沼修 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2007-01-22 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： H04N5/74 文献下载
摘要：本发明提供了一种投影光学系统和一种采用该投影光学系统的投影显示装置。投影光学系统包括：显示装置，用于显示将要被投射到图像显示区域上的图像；第一光学系统和第二光学系统，按顺序地沿着从屏幕到显示装置的光路设置。当第一光学系统的光轴是参考轴时，显示装置的图像显示区域相对于参考轴平行偏心地设置，第二光学系统相对于参考轴偏心地设置。因此，在图像显示区域上显示的图像被放大并被投射到相对于参考轴偏心的位置上。投影显示装置包括照射单元和投影光学系统，所述照射单元用于照射用于形成将要被投射的图像的光。
投影光学系统采用显示装置

[实用新型]投射用光学系统以及投射型显示装置-CN201620136057.9有效
发明人：天野贤 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-02-23 - 公布日： 2016-08-17 - 主分类号： G02B13/06 文献下载
摘要：本实用新型提供在形成中间像的投射用光学系统中实现小型化并且为广角且良好地修正了各种像差的具有高投射性能的投射用光学系统及具备该投射用光学系统的投射型显示装置。该投射用光学系统从缩小侧起依次由使图像显示元件上的图像成像为中间像的第一光学系统和将中间像成像到放大侧共轭面上的第二光学系统构成，第二光学系统从缩小侧起依次由具有正光焦度的第一透镜组、利用反射面将光路弯折的第一光路弯折机构
投射用光系统以及显示装置

[发明专利]平视显示装置以及反射光学系统-CN201680048784.2有效
发明人：横江润也;南原孝启 -专利权人：株式会社电装
申请日： 2016-08-08 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：平视显示装置具备照明光学系统(22)、成像光学系统(10)以及反射光学系统(34)。照明光学系统(22)投射表示信息的光源光。成像光学系统(10)使由照明光学系统(22)投射的光源光投影于投影面。反射光学系统(34)具有：使红外线区域的电磁波透过并反射可见光区域的电磁波的电介质多层膜。反射光学系统(34)构成为：包含来自照明光学系统(22)的光源光的至少一部分波长的对象波长的相位差成为大于‑π/2[rad]且小于π/2[rad]的范围。反射光学系统(34)配置为：在从照明光学系统(22)至成像光学系统(10)的光源光的路径上，来自照明光学系统(22)的光源光的偏振光轴α相对于入射面成为0度＜α＜90度＜α＜180度。
平视显示装置以及反射光学系统