专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]成型用材料-CN98810644.2有效
  • 岸根充;北市雅纪;野口刚;田中义人;荒木孝之;入江贞成 - 大金工业株式会社
  • 1998-11-05 - 2003-08-06 - C08F293/00
  • 根据本发明,可以提供一种由多元链段化聚合构成的、用于例如半导体相关制造装置用密封材料等的成型用材料,该材料的柔软性、弹性、密封性、耐药品性、耐热性等弹性体的特性维持不变,且机械特性(特别是在高温时等该成型用材料是由多元链段化聚合构成,该聚合中,具有弹性聚合链段和非弹性聚合链段,该弹性聚合链段能够向聚合整体赋予柔软性,且构成单元的95摩尔%以上为全卤烯烃单元。
  • 成型用材
  • [发明专利]超临界流体原位制备石墨烯/聚合复合材料的方法-CN201410479312.5有效
  • 高寒阳;胡国新 - 上海交通大学
  • 2014-09-18 - 2016-11-09 - C08F120/24
  • 本发明涉及超临界流体原位制备石墨烯/聚合复合材料的方法,将聚合单体溶解到超临界流体中,利用超临界流体与聚合单体同时对石墨进行插层,以超临界流体作为聚合介质引发聚合反应生成,促进石墨层间距的显著扩大,在超临界压力的快速泄压过程中插层后的石墨最终被快速地层层剥离,制备得到石墨烯分散良好的聚合导电导热复合材料。与现有技术相比,本发明制备得到的石墨烯/聚合复合材料,由于聚合的包裹,石墨烯层与层之间避免了重新堆叠,解决了石墨烯极易团聚的问题;而对于聚合,该方法可使得石墨烯均匀地分散在高分子材料之中,从而得到功能化的新型导电导热复合材料
  • 临界流体原位制备石墨聚合物复合材料方法
  • [发明专利]一种聚合密封材料-CN201610629749.1在审
  • 王海连;邵春明;高艳林 - 巨化集团技术中心
  • 2016-08-02 - 2016-12-21 - C08L27/18
  • 本发明主要公开了一种聚合密封材料,所述聚合密封材料包括:聚合70~95%,聚苯酯0~10%,硅藻土5~20%,其它填料0~20%,加工助剂为固体物料总量的15~21%,所述聚合、本发明中由于含有硅藻土,在密封材料的制备过程中,硅藻土呈竹状中空结构,比表面积大且粒径细而均匀,容易吸附聚合分子且在分子链之间形成连接点,能有效提高材料在一定压力下的抗变形能力,进而改善聚合材料的蠕变性能
  • 一种聚合物密封材料
  • [发明专利]聚合不稳定端基的稳定化处理方法-CN201811636530.X有效
  • 孟祥青;王汉利;朱倩;徐清钢;侯兴志 - 山东华夏神舟新材料有限公司
  • 2018-12-29 - 2021-06-29 - C08F8/20
  • 本发明属于高分子材料领域,具体涉及一种聚合不稳定端基的稳定化处理方法,先将聚合粉料与氟化试剂混合反应,进行预处理,然后将预处理的聚合粉料造粒,再将聚合粒料与氟化试剂混合反应;包括以下步骤:(1)将聚合粉料和氟化试剂加入反应釜内进行反应,得到预处理的聚合粉料;(2)将预处理的聚合粉料经造粒机造粒,得到聚合粒料;(3)将聚合粒料和氟化试剂加入到反应釜内进行反应,得到稳定的聚合产品;其中,所述的氟化试剂为SF4和无水HF。本发明采用两步法氟化工艺减少了聚合中的不稳定端基,解决了聚合高温稳定性差、重金属离子含量高的问题。
  • 聚合物不稳定稳定处理方法
  • [发明专利]装置的光刻图案化-CN201580053607.9有效
  • 特伦斯·罗伯特·欧图尔;约翰·安德鲁·德弗兰科;弗兰克·沙维尔·伯恩 - 正交公司
  • 2015-07-31 - 2019-07-16 - H01L51/56
  • 公开了使装置图案化的方法,其使用具有至少两个聚合层的抗蚀剂前体结构。第一聚合层包含第一聚合材料,其含量为至少50%重量并且基本可溶于第一氢醚溶剂或第一全氟化溶剂,但相对于第一氢醚溶剂和第一全氟化溶剂二者在第二氢醚溶剂中溶解度基本较低。第二聚合层包含第二聚合材料,其含量低于第一聚合材料并且基本可溶于第一或第二氢醚溶剂,但相对于第一和第二氢醚溶剂二者在第一全氟化溶剂中溶解度基本较低。
  • 装置光刻图案

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