专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]激光参数监测与矫正系统和方法-CN201910609933.3有效
  • 陈檬;张携;马宁;王晋;季凌飞 - 北京工业大学
  • 2019-07-08 - 2021-09-24 - G01M11/02
  • 本发明公开了一种激光参数监测与矫正系统和方法,该系统包括:激光器系统、组件、检测矫正组件、信号处理电路和上位机;激光依次通过第一、第二、功率矫正单元和第三,再由第一电动镜架和第二电动镜架反射到第四;第一反射光被光电二极管接收,第二反射的光入射至光束质量分析仪,第三反射的光入射至功率计,第四透射的光入射至光束指向探测器单元,第四反射的光经衍射元件到达激光加工数控机床;
  • 激光参数监测矫正系统方法
  • [发明专利]一种痕量气体浓度检测的光谱系统-CN201911068497.X在审
  • 廉玉生;刘子龙;郭得民 - 苏州智曜科技有限公司
  • 2019-11-05 - 2020-05-29 - G01N21/31
  • 本发明公开了一种痕量气体浓度检测的光谱系统,光源发出的光线经准直后,形成不同角度的平行光,入射到光学吸收腔,在物镜和场之间进行多次折返,被光学吸收腔内气体吸收后的光线,入射至非对称三角共路结构的束板上,入射至束板的光线被1:1为两路,一路由束板透射至第一平面反射,经第一平面反射反射至第二平面反射,再经过第二平面反射反射至束板,最后由束板透射至会聚;另一路由束板反射至第二平面反射,经第二平面反射反射至第一平面反射,再由第一平面反射反射至束板,最后由束板反射至会聚;会聚将两路光线会聚,并成像至线阵探测器上。
  • 一种痕量气体浓度检测光谱系统
  • [实用新型]一种痕量气体浓度检测的光谱系统-CN201921885918.3有效
  • 廉玉生;刘子龙;郭得民 - 苏州智曜科技有限公司
  • 2019-11-05 - 2020-11-06 - G01N21/31
  • 本实用新型公开了一种痕量气体浓度检测的光谱系统,光源发出的光线经准直后,形成不同角度的平行光,入射到光学吸收腔,在物镜和场之间进行多次折返,被光学吸收腔内气体吸收后的光线,入射至非对称三角共路结构的束板上,入射至束板的光线被1:1为两路,一路由束板透射至第一平面反射,经第一平面反射反射至第二平面反射,再经过第二平面反射反射至束板,最后由束板透射至会聚;另一路由束板反射至第二平面反射,经第二平面反射反射至第一平面反射,再由第一平面反射反射至束板,最后由束板反射至会聚;会聚将两路光线会聚,并成像至线阵探测器上。
  • 一种痕量气体浓度检测光谱系统
  • [实用新型]一种变划内红点与倍率的组合瞄准-CN202222942520.7有效
  • 孙文辉;卢思航;汪东 - 西安华科光电有限公司
  • 2022-11-05 - 2023-02-10 - F41G1/14
  • 本实用新型涉及一种变划内红点与倍率的组合瞄准,包括支架,所述支架的前部上方设置有定位槽,所述定位槽内设置有内红点瞄准;所述支架的后部上方设置有倍率翻转机构,所述倍率翻转机构活动连接有倍率;该变划内红点与倍率的组合瞄准,当倍率翻开时,倍率翻转机构中的磁铁不接触磁控开关,此时内红点中的划图案为点圈速瞄模式;当倍率翻回时,磁铁接触磁控开关,内红点中的划图案变成狙击模式;该组合瞄准具有反射式瞄准和望远式瞄准的优点:在仅使用红点瞄准的状态下,无出瞳距离、视差小、视野大、划简单明了、瞄准迅速;在使用组合瞄准的状态下,划板诸元齐全,远程瞄准更加精确。
  • 一种变分划内红点倍率组合瞄准
  • [实用新型]一种避免激励光光源损伤的受激散射增强装置-CN201520975780.1有效
  • 任芝;焦键 - 华北电力大学(保定)
  • 2015-11-28 - 2016-04-06 - H01S3/30
  • 一种避免激励光光源损伤的受激散射增强装置,该装置包括:激励光光源(1),偏振(2),四之一波片(3),受激散射介质(4),以及全反射(5),它们的设置关系为:激励光光源(1),偏振(2),四之一波片(3),受激散射介质(4),以及全反射(5)沿光路依次设置,其中除偏振(2)外,其余元件均与光路垂直相交,偏振(2)与光路成45度角设置,所述激励光光源为线偏振光源,设置偏振(2)的摆置方向,使得激励光源(1)发出的线偏振激励光可全部透射所述偏振(2)。
  • 一种避免激励光源损伤散射增强装置
  • [发明专利]一种大角度眼底扫描OCT光路结构-CN202210976966.3在审
  • 余文超;陶钧 - 重庆贝奥新视野医疗设备有限公司
  • 2022-08-15 - 2022-11-11 - G02B26/10
  • 本发明公开了一种大角度眼底扫描OCT光路结构,包括接目镜、OCT成像模块、第一、反射和切换组,所述接目镜设置第一的反射光路或透射光路上,所述反射设置在第一与OCT成像模块之间,且用于将OCT成像模块的光反射到第一上,所述切换组设置在第一与接目镜之间;当把切换组切入到第一与接目镜之间时,OCT成像模块能用于眼前节的OCT成像,当将切换组切出时,OCT成像模块能用于眼底的当把切换组切入到第一与接目镜之间时,OCT成像模块能用于眼前节的OCT成像,当将切换组切出时,OCT成像模块能用于眼底的OCT成像,与现有技术相比,在眼前节和眼底成像时,操作方便,不需要改变OCT
  • 一种角度眼底扫描oct结构
  • [发明专利]一种激光干涉仪-CN202011053058.4有效
  • 苏炎;李昱;陈居凯 - 苏州众为光电有限公司
  • 2020-09-29 - 2022-04-15 - G01B9/02015
  • 本发明提供一种激光干涉仪,包括激光发生器、调整装置、第一、第一角锥反射、第二角锥反射、第二、压缩透镜、接收器、检测装置;第一为偏振分光包括基层和膜系,膜系结构包括三个膜堆均由非四之一波长光学厚度的高折射率膜层和低折射率膜层交替堆叠;激光发生器发出的激光经调整装置后进入第一,第一将激光分为参考光和测量光,参考光反射后出射,测量光反射后出射,两束光经第一反射后汇合成集合光束,进入第二;集合光束经第二分成第一光束和第二光束,第一光束传送至接收器用于位置测量,第二光束投影到检测装置用来观测参考光斑和测量光斑的重合度。
  • 一种激光干涉仪
  • [实用新型]一种共聚焦低杂光荧光检测光学系统-CN201720152729.X有效
  • 孔令琴;齐秀峰 - 安迈斯(北京)科技有限公司
  • 2017-02-21 - 2017-11-28 - G01N21/64
  • 本实用新型公开了一种共聚焦低杂光荧光检测光学系统,包括光源组、准直、光阑、激发滤光、聚光、荧光物、发射滤光、会聚,接收光阑、光电接收器、光陷阱,所述荧光检测光学系统由光源组发出的光信号通过准直和光阑,将原发散的光束整形成为一束平行光,并依次入射通过激发滤光,所述将入射光的一部直接透射到光陷阱,另一部改变光的传播方向,反射到聚光上,通过聚光投射到待检测的荧光物上,所述荧光物可发射荧光信号,并通过上方设置的聚光将荧光信号入射到上,所述将入射荧光信号直接透射,并入射到发射滤光上,然后通过会聚和接收光阑投射到光电接收器上。
  • 一种聚焦低杂光荧光检测光学系统
  • [发明专利]日盲紫外成像式测距装置-CN201310250649.4有效
  • 李想;朱曦;孔夏丽 - 江苏紫峰光电科技有限公司
  • 2013-06-21 - 2013-09-25 - G01R31/12
  • 本发明提供一种日盲紫外成像式测距装置,包括第一、第二、反射、可见光成像模块和日盲紫外成像模块,日盲紫外成像模块设置有镜头和像面,第一、第二、反射均与所述镜头的主光轴成45度角且各子午面互相重合,第一、第二及日盲紫外成像模块在一路入射光路上依次排列且第一和第二位于所述镜头的前方,反射、第二及日盲紫外成像模块在另一路入射光路上依次排列并且反射与可见光成像模块分设于日盲紫外成像模块的两侧
  • 紫外成像测距装置
  • [发明专利]一种用于太赫兹频率的测量方法-CN201510012846.1有效
  • 胡旻;吴振华;丁德成;徐伟康;刘盛纲 - 电子科技大学
  • 2015-01-09 - 2018-05-18 - G01J9/04
  • 该方法首先将待测太赫兹波入射第一,使折射波的出射方向垂直于第一;使第一的折射波垂直入射第二,再分别测量出第二的出射波与第一的折射波能量大小,实时记录;通过缓慢的平行移动第二,增大或缩小两分光之间的距离;将同一时刻第二出射波与第一折射波能量大小相除,得到的数值以第二的位置值为横坐标绘制成一个波形图,而相邻波峰之间第二移动的距离即为待测太赫兹波的波长
  • 一种用于赫兹频率测量方法

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