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[发明专利]用于从聚合物除去异物的方法和设备-CN201310559983.8在审
发明人：托马斯·弗里德兰德 -专利权人：克朗斯股份公司
申请日： 2013-11-12 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： C08J11/06 文献下载
摘要：本发明涉及用于从聚合物除去异物的方法和设备。本发明涉及用于从聚合物组合物除去异物的方法，所述方法包括以下步骤：使聚合物组合物经受选自包括化学试剂、电子束辐射、电磁辐射或其组合的组的媒介，从聚合物组合物除去转变的异物，其中异物通过使聚合物组合物经受媒介而至少部分地转变成便于从聚合物组合物除去的形式本发明进一步涉及用于从聚合物组合物除去异物的设备，所述设备包括：用于使聚合物组合物经受选自包括化学试剂、电子束辐射、电磁辐射或其组合的组的媒介的装置，以及用于从聚合物组合物除去转变的异物的装置，其中异物通过用于使聚合物组合物经受媒介的装置而至少部分地转变成便于从聚合物组合物除去的形式
用于聚合物除去异物方法设备

[发明专利]一种角栓除去剂组合物-CN200680024772.2有效
发明人：黑田茂;森川利哉 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2006-07-05 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： A61K8/898 文献下载
摘要：本发明提供一种角栓除去剂组合物以及使该角栓除去剂组合物担载于无纺布基材上而制得的角栓除去用片，上述角栓除去剂组合物含有具有成盐基的高分子化合物和(a)氨基改性硅酮和/或(b)聚氧化烯·二甲基聚硅氧烷嵌段共聚物该角栓除去剂组合物和角栓除去用片可以不助长从皮肤上剥离面膜时的疼痛而提高角栓除去效果。
一种除去组合

[发明专利]组合物的制造方法-CN201380005771.3有效
发明人：松本隆 -专利权人： DIC株式会社
申请日： 2013-04-05 - 公布日： 2014-10-22 - 主分类号： C09K19/44 文献下载
摘要：准备含有具有特定结构的受阻酚类的化合物、并含有构成液晶材料的化合物的原料组合物，将上述原料组合物溶解在有机溶剂中，或者，不在上述原料组合物中加入有机溶剂而使原料组合物与精制剂接触后，除去上述精制剂，在除去了上述精制剂后的组合物不含有机溶剂的情况下，将其作为目标组合物，在除去了上述精制剂后的组合物包含有机溶剂的情况下，蒸馏除去上述有机溶剂而获得目标组合物。
组合制造方法

[发明专利]抗蚀剂和蚀刻副产品除去组合物及使用该组合物除去抗蚀剂的方法-CN02108303.7无效
发明人：朴东镇;金经大;全相文;黄震虎;孙一现;权相五;田弼权 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2002-03-28 - 公布日： 2003-04-02 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：一种抗蚀剂除去组合物，具有除去抗蚀剂、聚合物、有机金属聚合物和蚀刻副产品如金属氧化物的优异性能，该抗蚀剂除去组合物不侵蚀暴露于组合物中的下层并且在清洗后不留下残余物。该抗蚀剂除去组合物含烷氧基N－羟烷基链烷酰胺和溶胀剂。
抗蚀剂蚀刻副产品除去组合使用方法

[发明专利]口腔用组合物-CN201080018128.0有效
发明人：雫石聪;田中宗雄;清水和正;大泽谦二 -专利权人：罗蒂株式会社
申请日： 2010-04-23 - 公布日： 2012-05-02 - 主分类号： A61K8/97 文献下载
摘要：本发明提供具有舌苔除去效果和强口臭除去效果的口腔用组合物。该口腔用组合物是具有舌苔除去作用的口腔用组合物，其特征是，作为必须成分含有桃金娘科植物的桉树提取物。
口腔组合

[发明专利]用于晶圆再生的材料剥除方法-CN200880016177.3无效
发明人：江平;迈克尔·B·克赞斯基;大卫·W·明赛克 -专利权人：高级技术材料公司
申请日： 2008-03-31 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明是关于用于自其上具有至少一个材料层的不合格微电子装置结构除去该材料层的除去组合物及方法。该除去组合物包括氢氟酸。该组合物实现待除去的材料的实质除去，同时不会损坏待保留的层，以再生、再加工、再循环和/或再使用该结构。
用于再生材料剥除方法

[发明专利]光致抗蚀剂残渣及聚合物残渣除去液组合物-CN201180042398.X无效
发明人：大和田拓央 -专利权人：关东化学株式会社
申请日： 2011-09-02 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供一种除去在具有金属布线的半导体电路元件的制造工序中产生的光致抗蚀剂残渣以及聚合物残渣的光致抗蚀剂残渣及聚合物残渣除去液组合物，以及使用该组合物的残渣除去方法，特别提供不含有含氮有机羟基化合物、氨、氟化合物，含有作为残渣除去成分以金属氧化物为主要成分的残渣除去性优异的熔点25℃以上的脂肪族多元羧酸，能够抑制在清洗装置喷出液体的喷嘴或清洗槽以及腔室的周边附着溶液后，脂肪族多元羧酸通过水的蒸发而再结晶的光致抗蚀剂残渣及聚合物残渣除去液组合物，以及该组合物的残渣除去方法。在含有熔点25℃以上的脂肪族多元羧酸的光致抗蚀剂残渣及聚合物残渣除去液组合物中，含有20℃下的蒸汽压为17mmHg、在结构内具有羟基的可与水混溶的有机溶剂。
光致抗蚀剂残渣聚合物除去组合

[发明专利]生成富集羧酸组合物的方法-CN200680023627.2有效
发明人： P·E·吉布森;K·R·帕克;R·S·奥米德拉 -专利权人：伊士曼化工公司
申请日： 2006-05-18 - 公布日： 2008-10-15 - 主分类号： C07C51/42 文献下载
摘要：提供生产富集的羧酸组合物的方法，所述富集的羧酸组合物由包含羧酸的组合物与富集进料在富集区接触而形成富集的羧酸组合物所生成。本发明还涉及从羧酸组合物中除去催化剂以生成催化剂除去后组合物的方法和所得的组合物。
生成富集羧酸组合方法

[发明专利]钌除去用组合物-CN201980074709.7在审
发明人：柏木一树;大和田拓央 -专利权人：关东化学株式会社
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种可充分除去残存于基板的Ru，并且能够抑制RuO4气体的产生的除去用组合物。一种残存于基板的钌的除去用组合物，其中，25℃时的pH为8以上，包含1种或2种以上的pH缓冲成分。
除去组合

[发明专利]通过利用催化剂除去区和富集区生产富集组合物的方法-CN200680017075.4有效
发明人： P·E·吉布森;K·R·帕克;R·S·奥米拉 -专利权人：伊士曼化工公司
申请日： 2006-05-18 - 公布日： 2008-05-28 - 主分类号： C07C51/47 文献下载
摘要：本发明提供了一种生产富集羧酸组合物的方法，使包含羧酸的组合物与富集料在富集区接触，从而形成富集羧酸组合物。本发明还涉及从羧酸组合物中除去催化剂从而形成催化剂除去后组合物的方法和所得组合物。
通过利用催化剂除去富集生产组合方法

[发明专利]精制薄荷油的方法和由其制得的口香糖-CN95193066.4无效
发明人：桑亚S·约翰逊;迈克尔J·格林伯格 -专利权人： WM·雷格利JR·公司
申请日： 1995-04-21 - 公布日： 2000-11-15 - 主分类号： A23G3/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种精制含薄荷油的组合物的方法，另外，本发明提供了一种生产有薄荷味的口香糖的方法。为达到此目的，提供了一种精制含薄荷油组合物的方法，该组合物包括硫化合物，以除去至少一部分硫化合物。该方法包括使组合物进行蒸馏工艺的步骤，以从组合物中除去至少一部分硫化合物，但不除去超过总组合物的３％。
精制薄荷油方法口香糖

[发明专利]用于除去光致抗蚀剂残渣和/或聚合物残渣的组合物-CN201580046644.7在审
发明人：清野康之 -专利权人：关东化学株式会社
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2017-05-17 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供用于除去半导体电路元件的制作工序中产生的光致抗蚀剂残渣和/或聚合物残渣的组合物以及使用该组合物的除去方法。用于除去光致抗蚀剂残渣和/或聚合物残渣的组合物，其特征在于，包含糖精和水，pH在9.7以下。
用于除去光致抗蚀剂残渣聚合物组合

[发明专利]一种制备富集进料的方法-CN200680017201.6有效
发明人： P·E·吉布森;K·R·帕克 -专利权人：伊士曼化工公司
申请日： 2006-05-18 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： C07C51/48 文献下载
摘要：提供了一种通过使包括羧酸的组合物与富集进料在富集区内接触而形成富集的羧酸组合物，从而制备富集羧酸组合物的方法。本发明还涉及一种从羧酸组合物中除去催化剂以制备后催化剂除去组合物的方法和所得到组合物。
一种制备富集进料方法

[发明专利]光致抗蚀剂残渣、聚合物残渣除去组合物和残渣除去方法-CN200510092787.X无效
发明人：秦贵乡;大和田拓央 -专利权人：关东化学株式会社
申请日： 2005-08-25 - 公布日： 2007-02-28 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供一种除去具有由铝或铝合金形成的金属布线的半导体基板在干蚀刻后和灰化后残留的光致抗蚀剂残渣和聚合物残渣的组合物，以及使用该组合物的残渣除去方法。所述光致抗蚀剂残渣和聚合物残渣除去组合物含有至少1种除氢氟酸以外的氟化合物、至少1种磺酸类和水，所述光致抗蚀剂残渣和聚合物残渣的除去方法包括，其使用含有至少1种除氢氟酸以外的氟化合物、至少1种磺酸类和水的组合物
光致抗蚀剂残渣聚合物除去组合方法

[发明专利]生成催化剂除去后组合物的方法-CN200680017277.9有效
发明人： K·R·帕克;P·E·吉布森;R·S·奥米德拉 -专利权人：伊士曼化工公司
申请日： 2006-05-18 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： C07C51/42 文献下载
摘要：提供了一种生产富集的羧酸组合物的方法，所述富集的羧酸组合物是通过使含羧酸的组合物与富集进料在富集区中接触而形成富集的羧酸组合物而生成的。本发明还涉及从羧酸组合物中除去催化剂以生成催化剂除去后组合物的方法和所得的组合物。
生成催化剂除去组合方法

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