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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]锂镀敷的检测方法、对二次电池充电的方法和设备以及使用其的二次电池系统-CN201680005885.1有效
发明人：李赫武;金孝美;吴松泽;李松叶 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2016-06-20 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： H01M10/48 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于检测锂镀敷的非破坏性方法、一种通过使用该方法在不发生锂镀敷的条件下对二次电池充电的二次电池充电方法和设备、以及通过使用该方法对二次电池的状态进行检测的二次电池系统，通过所述方法能够在二次电池的实际使用环境中实时检测锂镀敷根据本发明的用于检测锂镀敷的方法是一种通过在对二次电池充电期间对作为SOC的函数的电池电压的变化进行观察来实时检测负极中的锂镀敷，并且将所述电池电压的上升速度减慢的点确定为锂镀敷发生点的方法。
锂镀敷检测方法二次电池充电设备以及使用系统

[发明专利]锂二次电池用锂金属的预处理方法-CN201980018364.3有效
发明人：朴寅台;梁斗景;安志玹 -专利权人：株式会社LG新能源
申请日： 2019-07-16 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01M4/1395 文献下载
摘要：本发明涉及一种锂二次电池用锂金属的预处理方法，所述方法包括：通过对电池进行放电而去除在锂金属上形成的表面氧化物膜的剥离步骤；和通过对所述电池进行充电而在所述剥离步骤中已经去除了所述表面氧化物膜的所述锂金属上补充锂金属的镀敷步骤
二次电池金属预处理方法

[发明专利]用于镀敷基片的装置和方法-CN200410043155.X有效
发明人：关本雅彦;栗山文夫;远藤泰彦;斯蒂芬·斯特劳塞尔 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2004-05-12 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明涉及镀敷装置和方法，通过该装置和方法可以容易地去除形成在镀敷表面上的气泡并且可以改善镀敷表面上的镀敷薄膜的厚度的均匀性。镀敷装置包括用于装载其中装有具有镀敷表面基片的盒的盒台。还设置有用于使基片对准的对准器、用于冲洗和干燥基片的冲洗器－干燥器；以及用于镀敷基片的镀敷单元。镀敷单元包括容纳镀敷液的镀敷器皿、和用于夹持基片以浸入镀敷器皿内的镀敷液中的夹持器。镀敷表面暴露于向镀敷表面喷射镀敷液的喷嘴。
用于镀敷基片装置方法

[发明专利]镀敷装置及镀敷方法-CN202010532732.0有效
发明人：细川孝夫 -专利权人：株式会社村田制作所
申请日： 2020-06-11 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C25D17/16 文献下载
摘要：提供一种镀敷装置及镀敷方法，镀敷装置具备镀敷槽和镀敷部。镀敷部具备：隔壁，其是使镀敷液通过而不使被镀敷物通过的隔壁，构成被镀敷物在其内侧通过的被镀敷物通过区域；喷射部，其向上方喷射镀敷液；混合部，其将镀敷液与被镀敷物混合；阳极，其配设在被镀敷物通过区域的外侧；阴极，其配设在被镀敷物通过区域的内侧，具有使镀敷液与被镀敷物的混合流体朝向上方通过的中空区域；第一遮挡壁，其用于将通过了中空区域的混合流体向下方引导；以及第二遮挡壁，其配设在第一遮挡壁的外侧。
装置方法

[发明专利]镀敷装置及镀敷方法-CN201880073380.8有效
发明人：竹本洋平;赤见丰 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： C25D5/04 文献下载
摘要：本发明涉及在被镀敷物部分地形成镀敷膜的镀敷装置及镀敷方法。镀敷装置具备：可旋转工作的旋转电极；设置于旋转电极、保持镀敷液的镀敷液保持部；和在被镀敷部与旋转电极之间施加电压的电源部。
装置方法

[发明专利]电镀方法及电镀装置-CN200910165717.0有效
发明人：我妻正;吉田喜郎 -专利权人：阿尔卑斯电气株式会社
申请日： 2009-08-06 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： C25D5/00 文献下载
摘要：其中，具有镀敷槽(2)和设置在所述镀敷槽(2)内的阳极板(3)及阴极板(7)，该电镀方法用于在被镀敷物的表面镀敷形成镀敷被膜，在镀敷液(20)中，以在所述阴极板(7)与旋转部(8)之间夹持所述被镀敷物(12)的方式，使旋转部(8)一边旋转一边向两极间供给电流，从而在所述被镀敷物(12)的表面镀敷形成镀敷被膜。由此，与以往相比，在被镀敷物的表面能够均匀地形成镀敷被膜。
电镀方法装置

[发明专利]层叠体-CN201980048410.4在审
发明人：中村健二;今野喜彦;松山浩幸;田井诚;藤田秀一 -专利权人：株式会社有泽制作所
申请日： 2019-09-04 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： B32B27/18 文献下载
摘要：层叠体，其包含基材和镀敷形成层，所述镀敷形成层配置在所述基材的两面的至少一个面上且含有热塑性树脂及镀敷催化剂，所述镀敷形成层还满足下述条件(1)及/或条件(2)。(1)所述镀敷形成层含有使所述镀敷催化剂分散的分散剂。(2)所述镀敷形成层的表面侧的所述镀敷催化剂的存在量比所述镀敷形成层的所述基材侧的所述镀敷催化剂的存在量大。
层叠

[发明专利]半导体基板及其制造方法-CN201880072855.1有效
发明人：渡边拓人;土田克之 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： C23C18/16 文献下载
摘要：本发明的实施方式涉及的半导体基板，在Au电极焊盘上具有无电解Ni镀敷皮膜/无电解Pd镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜、或者无电解Ni镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜。本发明的实施方式涉及的半导体基板的制造方法通过以下的(1)～(6)所记载的工序，在Au电极焊盘上形成无电解Ni镀敷皮膜/无电解Pd镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜、或者无电解Ni镀敷皮膜/无电解Au镀敷皮膜，(1)脱脂工序；(2)蚀刻工序；(3)预浸渍工序；(4)施加Pd催化剂的工序；(5)无电解Ni镀敷工序；(6)无电解Pd镀敷工序以及无电解Au镀敷工序、或者无电解Au镀敷工序。
半导体及其制造方法

[发明专利]吸入镀敷装置-CN201680001020.8有效
发明人：川崎美智雄 -专利权人：株式会社艾里亚设计;联策科技股份有限公司
申请日： 2016-06-21 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： C25D17/08 文献下载
摘要：本发明提供一种吸入镀敷装置，其可执行前处理步骤、镀敷步骤、以及至少包含水洗部及干燥部的后处理步骤，在吸入镀敷装置中，执行所述镀敷步骤的镀敷部至少由容纳用以镀敷工件的镀敷液的镀敷槽、夹持所述工件的上端并对工件进行通电的多个夹具、使该多个夹具沿所述镀敷槽移动的传送装置、以及在所述镀敷槽中循环镀敷液的循环部所构成。所述夹具的对工件加以夹持的前端部的不与工件接触的部分于规定范围内经绝缘处理，使所述夹具的经绝缘处理的规定范围与工件一同浸渍于所述镀敷槽的镀敷液中。本发明包含加持工件的夹具部分的改善以及有关镀敷液的液循环的改善。
吸入装置

[发明专利]镀敷构件及其制造方法-CN200780036767.8无效
发明人：野村隆史;坂野充 -专利权人：丰田自动车株式会社
申请日： 2007-12-28 - 公布日： 2009-09-02 - 主分类号： C25D21/12 文献下载
摘要：本发明可以获得如下的镀敷构件，其能够在采用无铅的镀敷材料的同时，抑制在镀敷层(16)中产生晶须的情况，并且焊接性良好。为此，在基材(15)的表面具有由无铅的材料(Sn-Cu合金等)构成的镀敷层(16)的镀敷构件中，将所述镀敷层(16)设为2层以上的层结构(a1～a3)，使形成各层的镀敷粒子(P1～P3)的平均粒径在各层各不相同，并且在假定用最大平均粒径的镀敷粒子(P3)填充单位体积(20)时，将此时的镀敷粒子在单位体积中所占的比例定义为镀敷粒子体积率100％时，所述镀敷层(16)的镀敷粒子体积率设为80～90％。
构件及其制造方法

[发明专利]基板镀敷夹具以及利用它的镀敷装置-CN201280072382.8有效
发明人：吉冈润一郎;村山隆史 -专利权人：株式会社JCU
申请日： 2012-04-20 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： C25D17/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种在基板的镀敷处理中使用的镀敷夹具以及镀敷装置，其目的在于提供一种具有基板支架的旋转驱动单元并且与支承部一体地相对于镀敷槽可拆装的镀敷夹具，以及利用该镀敷夹具的镀敷装置。该镀敷夹具的特征在于，包括形成为可挂装在镀敷槽侧壁上的方式的支承部、以及将该支承部设置成垂直旋转自如的基板支架，并具备所述基板支架的旋转单元。
基板镀敷夹具以及利用装置

[发明专利]镀敷颗粒物质的方法-CN02815810.5有效
发明人：布瑞德·度肯;波利·H·摩寇斯;当肯·P·贝奇特 -专利权人：麦克达米德股份有限公司
申请日： 2002-07-31 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： B05D7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种无电镀敷颗粒物质的方法，其中在镀敷容器中通过搅拌将颗粒与无电镀敷溶液(无还原剂组分)混合。如果必要，可将活性剂物种直接加入镀敷溶液中。然后将还原剂组分加入镀敷溶液以引发镀敷。在颗粒上得到可靠的镀敷而无镀敷溶液的不稳定。
颗粒物质方法

[发明专利]镀敷装置和镀敷装置的制造方法-CN202180049901.8在审
发明人：富田正辉 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-05 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：容易维护在面朝下式的镀敷装置的下部配置的镀敷装置和镀敷装置的制造方法。镀敷装置具备：镀敷槽，其用于保持镀敷液；基板保持架，其使被镀敷面向下而保持基板；以及拉出单元，其是在水平方向上拔出自如地装配于上述镀敷槽的拉出单元，且具有在上述镀敷槽内与上述基板相向配置的阳极和具有使上述阳极暴露的开口部并能够调节上述开口部的开口尺寸的可变阳极遮罩
装置制造方法

[其他]镀敷装置-CN201490000516.X有效
发明人：郑光春;温雄龟;韩英求 -专利权人：印可得株式会社
申请日： 2014-01-16 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种镀敷装置，所述镀敷装置包含：被镀敷材移送部，其移送包含被镀敷图案的被镀敷材；及阴极辊，其至少外表面具有导电性，包含沿一方向延长的旋转轴，且以所述旋转轴的延长方向与所述被镀敷材的移送方向彼此构成倾斜角度并成为交叉的方向的方式配置根据本实用新型，可提高镀敷品质，形成均匀的镀敷层，并可减少阴极辊与被镀敷材的接点不良。
装置

[发明专利]镀敷装置、镀敷单元以及镀敷流水线-CN201510850029.3在审
发明人：桥场耕治;菊川范夫 -专利权人： YKK株式会社
申请日： 2015-11-27 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本发明提供能够应对各种各样制品的镀敷装置、镀敷单元以及镀敷流水线。镀敷装置(3)包括：箱形的镀槽(31)，其上方敞开；阳极部(34)，其配置在镀槽(31)内；阴极部(33)，其配置在镀槽(31)的上方；以及摆动装置(32)，其用于使阴极部(33)摆动，能够在静止镀敷状态和滚镀状态间切换，该静止镀敷状态是将用于保持镀件的静止镀敷用夹具(8)悬吊在阴极部(33)上的状态，该滚镀状态是将用于收纳镀件的滚筒用夹具(9)安装于镀槽(31)的状态。
装置单元以及流水线

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