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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]载置面清扫方法-CN202110042239.5在审
  • 斋藤良信;右山芳国;柿沼良典;谷山优太;生岛充;椙浦一辉 - 株式会社迪思科
  • 2021-01-13 - 2021-07-20 - B08B7/00
  • 本发明提供载置面清扫方法，使载置被加工物的载置面接近没有灰尘附着的状态。一种载置面清扫方法，当在载置于载置面上的被加工物的一个面上形成由树脂构成的板状的保护部件时对载置面进行清扫，该载置面清扫方法包含如下的工序：在载置被加工物的载置面上载置由树脂形成的片材；对载置面进行加温，并且将片材朝向载置面按压，由此使与载置面接触的片材的正面溶解，利用片材的溶解的正面取入载置面的灰尘；以及使载置于载置面上且通过溶解的正面取入了灰尘的片材从载置面分离，将灰尘从载置面去除。
  • 载置面清扫方法
  • [发明专利]自动搬运装置和具备该自动搬运装置的生产系统-CN201980098766.9有效
  • 村井正树 - 株式会社富士
  • 2019-08-01 - 2023-10-13 - H05K13/02
  • 自动搬运装置具备第一载置面、调整装置、移动装置以及控制部。第一载置面能够载置部件。调整装置与在载置部件的载置台上设置的第二载置面的高度位置以及倾斜位置对应地调整第一载置面的高度以及倾斜度。移动装置使部件从第一载置面向第二载置面移动及/或从第二载置面向第一载置面移动。控制部在自动搬运装置位于进行部件的交接及/或取回的部件交接及/或取回位置、且通过调整装置与第二载置面的高度位置以及倾斜位置对应地调整了第一载置面的高度以及倾斜度时，驱动移动装置，使部件在第一载置面与第二载置面之间移动
  • 自动搬运装置具备生产系统
  • [发明专利]等离子体处理装置-CN201911324897.2在审
  • 上田雄大 - 东京毅力科创株式会社
  • 2018-01-03 - 2020-04-21 - H01J37/32
  • 第一载置台(2)具有载置作为等离子体处理的对象的晶片(W)的载置面(6d)和外周面。第一载置台(2)在载置面(6d)设置有加热器(6c)，在载置面(6d)的背面侧设置有供电端子(31)。第一载置台(2)在在外周面设置有将加热器(6c)与供电端子(31)连接的配线(32)且该配线内包在绝缘物中。第二载置台(7)沿第一载置台(2)的外周面设置，用于载置聚焦环(5)。
  • 等离子体处理装置
  • [发明专利]静电卡盘组件、静电卡盘及聚焦环-CN201880067044.2有效
  • 久野达也;森冈育久;相川贤一郎 - 日本碍子株式会社
  • 2018-10-31 - 2023-09-19 - H01L21/683
  • 静电卡盘组件(15)具备：陶瓷体(22)，其在作为圆形表面的晶片载置面(22a)的外周部具有位置比晶片载置面(22a)低的F/R载置面(28a)；晶片吸附用电极(32)，其埋设于陶瓷体(22)的内部中的与晶片载置面(22a)对置的位置；F/R吸附用电极(38)，其埋设于陶瓷体(22)的内部中的与F/R载置面(28a)对置的位置；用于积存气体的凹凸区域(29)，其设置于F/R载置面(28a)的表面；聚焦环(50)，其载置于F/R载置面(28a)；以及一对弹性环状密封材料(60)，其处于聚焦环载置面(28a)与聚焦环(50)之间且以包围凹凸区域(29)的方式配置于F/R载置面(28a)的内周侧和外周侧。
  • 静电卡盘组件聚焦
  • [发明专利]输送装置、输送方法及食品制造方法-CN202080064591.2有效
  • 伊藤龙一;间宫稔;平山卓 - 株式会社日冷食品
  • 2020-09-28 - 2023-10-03 - B65G15/00
  • 提供输送装置、输送方法以及食品制造方法，能够通过输送体高速地输送输送物体，并且能够将输送物体精度良好地载置于输送体上。捕获器以配置于载置面位于比输送面靠上方的位置的上升位置和载置面位于与输送面相同的高度或者载置面位于比输送面靠下方的位置的下降位置的方式移动。输送物体供给部将第一输送物体载置于载置面，以使第一输送物体在比输送面靠上方的位置由载置面所承接。在第一输送物体被载置在载置面的状态下，捕获器从上升位置朝向下降位置移动，由此第一输送物体由输送面所承接，被输送体朝向下游输送。
  • 输送装置方法食品制造
  • [发明专利]基片载置台和基片处理方法-CN202210046574.7在审
  • 边见笃 - 东京毅力科创株式会社
  • 2022-01-14 - 2022-07-26 - H01J37/20
  • 本发明提供基片载置台和基片处理方法。本发明的基片载置台包括：载置台主体，其具有用于载置基片的载置面；多个孔，其沿纵向形成于所述载置台主体，该多个孔在所述载置面开口；多个支承体，其分别设置于多个孔的每个孔，用于支承基片来使基片在载置面与该载置面的上方的位置之间移动；调节载置台主体和支承体的温度的温度调节部；使各支承体升降的升降机构；和弹性部件，其以可通过变形来使各支承体的纵向的长度变化的方式设置于各支承体，使得成为能够利用停止了升降机构的升降后的各支承体来将基片载置于载置面并且对该基片向上方施力的状态根据本发明，能够以可在基片的面内进行均匀性高的处理的方式将该基片载置于载置台。
  • 基片载置台处理方法
  • [发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台-CN202110738099.5在审
  • 堂込公宏 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-06-30 - 2022-01-07 - H01J37/32
  • 本发明提供能够容易地更换等离子体处理装置的消耗部件的等离子体处理装置和等离子体处理装置的载置台。等离子体处理装置的载置台包括晶片载置面、环载置面、升降销和驱动机构。晶片载置面用于载置晶片。环载置面用于载置第1环和第2环。第2环配置在第1环的外周侧并且配置在与该第1环在上下方向不重叠的位置。环载置面在和第1环与第2环的边界对应的位置具有孔。环载置面设置在晶片载置面的外周侧。升降销能够以第1保持部位于环载置面侧的方式被收纳在环载置面的孔内。驱动机构用于可升降地驱动升降销。
  • 等离子体处理装置载置台
  • [发明专利]搬送台车和搬送方法-CN201110039222.0有效
  • 冈田正博;中河英辉 - 小松NTC株式会社
  • 2011-02-16 - 2011-08-24 - B23Q7/00
  • 搬送台车(1)具有载置工件(W)的第一载置面(20)和第二载置面(30)，第一载置面(20)和第二载置面(30)被分隔开，搬送台车(1)相对于配置在第一载置面(20)和第二载置面(30)的一方侧的工作设备搬出或搬入工件(W)，在第一载置面(20)设有允许将工件(W)向工作设备搬出并限制将工件(W)从工作设备搬入的第一止挡件(21)，在第二载置面(30)设有允许将工件(W)从工作设备搬入并限制将工件(W)向工作设备搬出的第二止挡件
  • 台车方法
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