专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种减少氧化涂层氚滞留的方法-CN201110049939.3有效
  • 张鲲;轩伟;王开;康海燕 - 康海燕
  • 2011-03-02 - 2011-07-06 - B05D5/00
  • 本发明公开了一种减少不锈钢试样氧化涂层表面氚滞留的方法,属于涂层涂覆技术领域。本发明公开的减少氧化涂层表面氚滞留的方法,包括在不锈钢试样的氧化涂层表面覆盖一层磷酸盐。本发明的减少氧化涂层表面氚滞留的方法还可以包括后续的热处理过程,以进一步增加磷酸盐覆盖层的致密度和覆盖密度。本发明通过在氧化涂层表面覆盖一层磷酸盐,消除氧化涂层和空气的界面,从而消除与空气相接触的氧化涂层表面所吸收的氚,达到有效减少氧化涂层氚滞留的效果。按照本发明方法,氧化涂层氚吸附量小可以减少到覆盖磷酸盐前的1/10。
  • 一种减少氧化物涂层滞留方法
  • [发明专利]复合材料、其制造方法和锂离子二次电池用负极材料等-CN202080079629.3在审
  • 利根川明央;井上浩文;香野大辅;白镇硕 - 昭和电工株式会社
  • 2020-11-10 - 2022-07-08 - C01B32/21
  • 本发明的复合材料包含碳性材料和覆盖所述碳性材料表面的金属氧化层,所述金属氧化层以岛状散布的海岛结构覆盖所述碳性材料表面,并且所述金属氧化层对所述碳性材料的覆盖率为20%以上且80%以下。另外,本发明的复合材料包含碳性材料、以及覆盖所述碳性材料表面的金属氧化层和无定形碳层,所述金属氧化层以岛状散布于所述碳性材料表面。本发明的复合材料包含碳性材料和覆盖所述碳性材料表面的金属氧化层,所述金属氧化层中存在厚度至少超过10nm的部分,所述金属氧化覆盖面积之中厚度为10nm以下的部分的面积比例为70%以上且99%以下此外,本发明的复合材料包含碳性材料、以及覆盖所述碳性材料表面的金属氧化层和无定形碳层,在所述金属氧化层中存在厚度至少超过10nm的部分,金属氧化层的覆盖面积之中厚度为10nm以下的部分的面积比例为
  • 复合材料制造方法锂离子二次电池负极材料
  • [发明专利]测试键结构及其形成方法-CN201310542821.3在审
  • 陈建奇 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2013-11-05 - 2015-05-13 - H01L23/544
  • 本发明提供一种测试键结构,包括:第一浮栅,第二浮栅、浅沟槽隔离结构,浅沟槽隔离结构表面的氧化—氮化硅—氧化膜,位于所述氧化—氮化硅—氧化膜表面的控制栅,在所述测试键结构中,氧化—氮化硅—氧化覆盖于所述浮栅上表面,也覆盖于所述浮栅侧面以及所述浅沟槽隔离结构的表面,这样的氧化—氮化硅—氧化膜的形貌能够模拟实际FLASH存储单元中的氧化—氮化硅—氧化膜的真实形貌,从而对实际FLASH存储单元中的氧化—氮化硅—氧化膜的成膜质量进行更准确的测试与监控。
  • 测试结构及其形成方法
  • [发明专利]薄膜晶体管及其制造方法-CN201310524437.0无效
  • 林亮宇;郑君丞 - 友达光电股份有限公司
  • 2013-10-29 - 2014-03-12 - H01L29/786
  • 发明提供一种薄膜晶体管及其制造方法,薄膜晶体管包括栅极、栅极绝缘层、源极以及漏极、金属氧化半导体层、第一金属氧化导电层以及第二金属氧化导电层。栅极绝缘层覆盖栅极。源极以及漏极位于栅极绝缘层上。金属氧化半导体层覆盖源极、漏极以与栅极上方的栅极绝缘层,以作为通道层。第一金属氧化导电层位于源极与金属氧化半导体层之间,以使源极与金属氧化半导体层隔离开来。第二金属氧化导电层位于漏极与金属氧化半导体层之间,以使漏极与金属氧化半导体层隔离开来。
  • 薄膜晶体管及其制造方法

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