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[发明专利]衬底处理装置、衬底保持件及载置件-CN201680079936.5在审
发明人：平野敦士;竹林雄二;加我友纪直;境正宪;岛田真一 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-09-26 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：提供下述构成：具备安装有载置衬底的载置部的支柱、和没有安装载置部的辅助支柱的衬底保持件设置为辅助支柱的直径小于支柱的直径，当通过载置部保持衬底时，衬底的端部与支柱之间设置为分开规定长度。
载置部衬底衬底保持件辅助支柱衬底处理装置气体消耗载置件晶舟载置

[发明专利]衬底保持件、用于光刻设备的支撑台、光刻设备和器件制造方法-CN201480073555.7有效
发明人： M·霍本;T·波耶兹 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2014-11-20 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：衬底台(WT)支撑衬底保持件(WH)，衬底(W)被夹持到衬底保持件(WH)以用于曝光。所述衬底台(WT)具有多个e销(30)，所述多个e销与所述衬底保持件的中心间隔开并且绕所述衬底保持件的中心分布以用于在曝光之前将衬底接纳和降低至所述衬底保持件上、以及在曝光之后升高衬底离开所述衬底保持件
衬底保持用于光刻设备支撑

[发明专利]衬底保持器、包括衬底保持器的承载件系统、和光刻设备-CN202180065545.9在审
发明人： K·F·布斯特雷恩;A·杰斯波特森;P·范栋恩;I·阿灿 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-08-20 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种用于将衬底保持在衬底保持位置中的衬底保持器，包括：框架；多个表面夹紧装置，所述多个表面夹紧装置被布置在所述框架上以在衬底的上表面处夹紧衬底，其中所述多个表面夹紧装置分别具有待布置在所述衬底的所述上表面上的夹紧垫，所述表面夹紧垫能够至少在大体上垂直于由所述表面夹紧垫保持的衬底的所述上表面的第一方向上相对于彼此移动；和一个或更多个致动器，所述一个或更多个致动器用于使所述表面夹紧垫在所述第一方向上相对于彼此移动。
衬底保持包括承载系统光刻设备

[发明专利]衬底保持器的辐射屏蔽件-CN201280057542.1有效
发明人： E·谢罗;M·哈平;J·温克勒 -专利权人： ASMIP控股有限公司
申请日： 2012-11-15 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种反应腔室包括：定位在反应腔室内的衬底支承构件、具有第一区域和第二区域的反应腔室、定位在第二腔室内并可随衬底支承构件移动的屏蔽件，其中，屏蔽件邻近于衬底支承构件的至少底部表面。
衬底保持辐射屏蔽

[发明专利]衬底处理装置、半导体器件的制造方法以及加热部-CN201610084003.7有效
发明人：村田等;和田优一;八幡橘;吉田秀成;西堂周平 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2016-02-06 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种衬底处理装置，其能够缩短处理炉内的温度稳定时间。该衬底处理装置具有：保持多张衬底的衬底保持件；设在衬底保持件的下方的隔热部；收纳衬底保持件并处理衬底的处理室；设在处理室的周围并对处理室内从侧部加热的第1加热部；处于处理室内并设在衬底保持件与隔热部之间的第2加热部，第2加热部具有：大致环状的发热部；和从发热部向下方延伸的下垂部，发热部收在直径比衬底小的环状区域内。
衬底处理装置半导体器件制造方法以及加热

[发明专利]光刻设备和器件制造方法-CN200880100971.6有效
发明人： A·J·布里克;A·L·H·J·范米尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2008-07-25 - 公布日： 2010-06-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备，包括：照射系统，该照射系统被配置以调节辐射束；图案支撑件，该图案支撑件被配置以保持图案形成装置，所述图案形成装置被配置以对所述辐射束进行图案化，用于形成图案化的辐射束；衬底保持件，该衬底保持件被配置以保持衬底，所述衬底保持件包括与所述衬底接触的支撑表面；投影系统，该投影系统被配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底上；和清洁系统，该清洁系统包括清洁单元，所述清洁单元被构造和布置以在所述衬底保持件的所述支撑表面上产生基团
光刻设备器件制造方法

[发明专利]化合物半导体膜成膜用衬底的移载装置和移载方法以及化合物半导体膜的成膜系统和成膜方法-CN201480034510.9在审
发明人：森崎英介;木元大寿 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：移载装置(170)包括：支承衬底保持件(40)的支承部(70)；在衬底保持件(40)的衬底保持部(80)能够使衬底升降的升降部件(91)；和遮蔽部件(82)，其随着升降部件(91)的升降而升降，在升降部件(91)接收衬底(W)时介于衬底(W)与升降部件(91)之间，在衬底(W)被衬底保持部(80)保持时，在衬底(W)的背面侧遮蔽衬底保持件(40)的用于插通升降部件(91)的孔(81)。而且，在升降部件(91)上升了的状态下，利用输送装置(201)将衬底(W)载置在遮蔽部件(82)上，或者对遮蔽部件(82)上的衬底(W)进行输送。
化合物半导体膜成膜用衬底装置方法以及系统

[发明专利]具有改进衬底保持件及门闩锁协助机构的衬底容器-CN201680065404.6有效
发明人： A·M·蒂班;C·斯缇克浩斯尔 -专利权人：恩特格里斯公司
申请日： 2016-09-12 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明揭示一种衬底容器，其具有安装到偏置致动连杆组的衬底保持件及具有闩锁协助的门组合件。本发明揭示用于将所述衬底保持件偏置于衬底非接合位置中的各种配置。所述偏置帮助防止所述衬底保持件归因于摩擦力而意外停机，所述摩擦力可能抵消原本所依赖用来脱离的重力。所述组合件也可包含积极地将所述衬底保持件固定到所述致动连杆组的保持夹。所述闩锁协助提供递送所存储能量以协助将所述门组合件闩锁于所述衬底载体及从所述衬底载体解锁所述门组合件的弹簧。所述闩锁协助进一步提供将所述闩锁机构偏置在解锁或完全闩锁配置中的偏心力。
具有改进衬底保持门闩协助机构容器

[发明专利]衬底清洗装置-CN202210659024.2在审
发明人：筱原智之;冈田吉文;冲田展彬;筱原敬;石井淳一;中村一树;髙桥拓马 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-06-10 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的衬底清洗装置包含衬底保持部、第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。衬底保持部以水平姿势保持圆形状的衬底。第1清洗件在俯视时，以通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面。第2清洗件在俯视时，通过接触于衬底外缘的第2点来清洗衬底的外周端部。定义通过第1点与第2点的假想性第1直线、及通过衬底的中心且与第1直线平行的假想性第2直线。第3清洗件配置在衬底的下方且隔着第2直线而与第1清洗件及第2清洗件相反的区域，清洗衬底的下表面。
衬底清洗装置

[发明专利]衬底处理装置、加热器及半导体器件的制造方法-CN201580076770.7有效
发明人：村田等;八幡橘;和田优一;山口天和;西堂周平 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2015-02-25 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：解决手段为具有：保持衬底的衬底保持件；处理室，对保持于衬底保持件的衬底进行处理；第一加热器，从处理室外加热处理室内；和第二加热器，以位于衬底保持件内的方式设置，并从衬底的背面侧加热衬底，第二加热器具有支柱部；环状部，其连接于支柱部，形成为直径比衬底的直径小的圆弧状；一对连接部，其将环状部的各个端部连接于支柱部，和设置于环状部的内部的发热体。
衬底处理装置加热器半导体器件制造方法

[发明专利]衬底处理装置、加热器、存储介质及衬底处理方法-CN202110189926.X在审
发明人：村田等;八幡橘;和田优一;山口天和;西堂周平 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2015-02-25 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理装置、加热器、存储介质及衬底处理方法。缩短处理炉内的温度稳定时间。解决手段为具有：保持衬底的衬底保持件；处理室，对保持于衬底保持件的衬底进行处理；第一加热器，从处理室外加热处理室内；和第二加热器，以位于衬底保持件内的方式设置，并从衬底的背面侧加热衬底，第二加热器具有支柱部；环状部，其连接于支柱部，形成为直径比衬底的直径小的圆弧状；一对连接部，其将环状部的各个端部连接于支柱部，和设置于环状部的内部的发热体。
衬底处理装置加热器存储介质方法

[发明专利]衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质-CN201810961475.5在审
发明人：吉田秀成;佐佐木隆史;三村英俊;冈嶋优作 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质。本发明的技术能够提高衬底的面间均匀性。衬底处理装置具备：在制品晶片支承区域的上下具有虚设晶片支承区域的衬底保持件；收容衬底保持件的处理室；气体供给部，其具有管状的喷嘴和设置于喷嘴的气体供给孔并对衬底保持件实施气体供给，其中，管状的喷嘴以沿着衬底保持件而在上下方向上延伸的方式配置；和将处理室的气氛排气的排气部，在衬底处理装置中，气体供给孔构成为使得其上端位于比被虚设晶片支承区域支承的最上方的虚设晶片低的位置。
衬底处理装置衬底保持件喷嘴虚设半导体器件气体供给孔晶片支承面间均匀性气体供给部在制品晶片方式配置气体供给上下方向支承区域排气部上端衬底晶片支承排气制造收容延伸

[发明专利]用于将具有电路或类似物的平面衬底固定在安装位置中的方法和装置-CN200880018589.0有效
发明人： M·古耶诺特;A·盖斯勒 -专利权人：罗伯特·博世有限公司
申请日： 2008-05-07 - 公布日： 2010-03-24 - 主分类号： H05K7/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将具有电路或类似物的平面衬底固定在安装元件中的安装位置中的方法，其中，保持件为了固定对平面衬底加载。本发明提出，采用可激活的扩张件作为保持件。本发明还涉及一种特别是用于实施所述方法的装置，该装置包括至少一个具有电路(5)或类似物的平面衬底(4)，该平面衬底固定在安装元件(1)上的安装位置中，其中，保持件(20)为了固定对所述平面衬底加载。在这里，所述保持件(20)被设计成可激活的扩张件(21)。
用于具有电路类似物平面衬底固定安装位置中的方法装置

[发明专利]流体处理系统、方法以及光刻设备-CN202180061113.0在审
发明人： C·M·鲁普斯;C·W·J·贝伦德森;E·H·E·C·尤姆麦伦;D·A·维斯梅耶 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-14 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B06B1/00 文献下载
摘要：一种光刻设备，具有衬底保持件，被配置成保持衬底，以及投影系统，被配置成将辐射束投影到由衬底保持件保持的衬底上。也具有流体处理系统，被配置成将浸没液体约束于所述投影系统的一部分与所述衬底的所述表面之间的空间中，由此所述辐射束能够通过传递穿过所述浸没液体而照射所述衬底的所述表面。设置有激励装置以在所述衬底中产生朝向所述浸没液体传播的表面声波。
流体处理系统方法以及光刻设备

[发明专利]衬底保持设备-CN200910139060.0有效
发明人：金子一秋;田中洋;池田真义;涩谷阳介 -专利权人：佳能安内华股份有限公司
申请日： 2009-05-15 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底保持设备，其包括：构造成保持衬底的衬底保持机构；加热机构；以及热传导构件，该热传导构件插入衬底保持机构和加热机构之间以与它们接触，并将由加热机构产生的热传导至衬底保持机构，其中热传导构件具有向衬底开口的凹进的截面
衬底保持设备

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