专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]双层自聚焦透镜阵列-CN201610847602.X在审
  • 刘宏展;黄蓉;高争光 - 华南师范大学
  • 2016-09-23 - 2016-12-07 - G02B6/32
  • 本发明提供一种双层自聚焦透镜阵列包括:第一层自聚焦透镜阵列,包括多个紧密排列、结构相同、主光轴平行的第一自聚焦透镜元;第二层自聚焦透镜阵列,位于所述第一层自聚焦透镜阵列的下方,包括多个紧密排列、结构相同、主光轴平行的第二自聚焦透镜元,所述第二自聚焦透镜元与所述第一自聚焦透镜元的数量相同、直径相等且主光轴重合;多条耦合光纤,每条耦合光纤与每个所述第二自聚焦透镜元一对一地耦合,以使信号光依次经过所述第一层自聚焦透镜阵列、第二层自聚焦透镜阵列后进入所述耦合光纤;以及连接部,用于连接所述第一层和第二层自聚焦透镜阵列。本发明提供的双层自聚焦透镜阵列能够消除像差和偏移对空间光通信耦合效率的不利影响。
  • 双层自聚焦透镜阵列
  • [实用新型]用于CXP光模块的光学组件-CN201720461722.6有效
  • 张泽学 - 武汉华工正源光子技术有限公司
  • 2017-04-28 - 2017-12-08 - G02B6/42
  • 本实用新型涉及一种用于CXP光模块的光学组件,包括VCSEL芯片阵列、MPD芯片阵列、PD芯片阵列、分光片、VCSEL准直透镜阵列、VCSEL聚焦透镜阵列、PD准直透镜阵列、PD聚焦透镜阵列透镜基体;从VCSEL芯片阵列发射出的光一部分依次经分光片透射、VCSEL准直透镜阵列准直、透镜基体光路转折和VCSEL聚焦透镜阵列聚焦射出,另一部分经分光片反射至MPD芯片阵列;外部输入光束依次经PD准直透镜阵列准直、透镜基体光路转折、PD聚焦透镜阵列聚焦射出至PD芯片阵列。本实施例提供的用于CXP光模块的光学组件带背光监控,可解决现有技术中CXP光模块不能随时监控输出光功率的问题,而且使透镜基体结构较为简化,方便开模及组装。
  • 用于cxp模块光学组件
  • [发明专利]一种基于数字微透镜器件的多聚焦透镜阵列制作方法-CN202210618816.5在审
  • 胡常安;欧阳红梅;吕菲 - 中国测试技术研究院机械研究所
  • 2022-06-01 - 2022-07-29 - G02B3/00
  • 本发明公开了一种基于数字微透镜器件的多聚焦透镜阵列制作方法,涉及光刻技术领域;制作过程包括以下步骤,步骤一:准备制作多聚焦透镜阵列的灰度图,并将灰度图写入到DMD中;步骤二:根据写入到DMD中的多聚焦透镜阵列灰度图,对硅片曝光,将多聚焦透镜阵列写入到硅片上,并且将曝光后的光刻胶显影;步骤三:将写入到硅片上的微透镜阵列烘烤定型;步骤四:采用PDMS膜在硅片上倒模;步骤五:将倒模后的多聚焦透镜阵列烘烤成型;步骤六:对制作的多聚焦透镜阵列进行光学分析本发明的多聚焦透镜阵列制作方法的制作工艺简单、效率高、成本低,采用数字编码灰度掩膜,避免了掩膜的对准误差,提高了多聚焦透镜阵列的制作质量。
  • 一种基于数字透镜器件聚焦阵列制作方法
  • [发明专利]方形孔径自聚焦透镜阵列及其制作方法-CN200610095026.4无效
  • 刘德森;韩艳玲;蒋小平;张玉;边玲 - 西南大学
  • 2006-08-14 - 2008-02-20 - G02B3/00
  • 本发明涉及方形孔径自聚焦透镜阵列及其制作方法,其特征在于:在一个“ㄩ”形框内,设有多个按规则排列成阵列的方形自聚焦透镜,方形自聚焦透镜之间用胶粘接固定,“ㄩ”形框的上面粘接有一块保护玻璃基片。方形孔径自聚焦透镜阵列的制作方法,包括以下步骤:方形玻璃丝的制作、方形自聚焦透镜的制作和方形孔径自聚焦透镜阵列的制作。制作的方形自聚焦透镜,经过像差校正后,折射率分布接近理想状态,成像性能好。理论和实验证明,方形自聚焦透镜的折射率分布不仅与径向坐标r有关,而且与角度坐标θ有关。只要单个方形自聚焦透镜的几何尺寸精度高,制作出的微透镜阵列就会有很高的填充系数,达到95%以上。
  • 方形孔径自聚焦透镜阵列及其制作方法
  • [发明专利]一种光电耦合装置-CN202110845920.3在审
  • 田桂霞;甘飞;汪军;李量;丁晓亮;梁巍 - 亨通洛克利科技有限公司
  • 2021-07-26 - 2021-10-29 - G02B6/42
  • 本发明公开了一种光电耦合装置,其包括FA或PLC阵列,以及玻璃基板、玻璃盖板、折光聚焦透镜、PD阵列和热沉,玻璃基板设于玻璃盖板上,FA或PLC阵列穿设于玻璃基板和玻璃盖板之间,玻璃基板和玻璃盖板的前端设有第一抵接面;折光聚焦透镜的后端设有与第一抵接面抵接的第二抵接面,折光聚焦透镜上设有全反射面,折光聚焦透镜的底部设有球面阵列;PD阵列贴装在热沉上,PD阵列中的PD与球面阵列中的聚焦球面一一对应设置;FA或PLC阵列输出的光由第二抵接面进入折光聚焦透镜,进入折光聚焦透镜的光经过全反射面被反射至聚焦球面,聚焦球面将光聚焦至PD的光敏面,实现与PD的耦合。
  • 一种光电耦合装置
  • [实用新型]一种光电耦合装置-CN202121706398.2有效
  • 田桂霞;甘飞;汪军;李量;丁晓亮;梁巍 - 亨通洛克利科技有限公司
  • 2021-07-26 - 2022-01-25 - G02B6/42
  • 本实用新型公开了一种光电耦合装置,其包括FA或PLC阵列,以及玻璃基板、玻璃盖板、折光聚焦透镜、PD阵列和热沉,玻璃基板设于玻璃盖板上,FA或PLC阵列穿设于玻璃基板和玻璃盖板之间,玻璃基板和玻璃盖板的前端设有第一抵接面;折光聚焦透镜的后端设有与第一抵接面抵接的第二抵接面,折光聚焦透镜上设有全反射面,折光聚焦透镜的底部设有球面阵列;PD阵列贴装在热沉上,PD阵列中的PD与球面阵列中的聚焦球面一一对应设置;FA或PLC阵列输出的光由第二抵接面进入折光聚焦透镜,进入折光聚焦透镜的光经过全反射面被反射至聚焦球面,聚焦球面将光聚焦至PD的光敏面,实现与PD的耦合。
  • 一种光电耦合装置
  • [发明专利]一种光诱导集成相变射频开关-CN202310472250.4在审
  • 帅陈杨;郑月军;付云起;陈强;马燕利;马欣瑜;丁亮 - 中国人民解放军国防科技大学
  • 2023-04-27 - 2023-07-04 - H10N70/20
  • 本申请属于射频开关技术领域,涉及一种光诱导集成相变射频开关,包括:多个激光器、透镜层以及无源相变射频开关;多个激光器在同一平面间隔分布,以形成激光器阵列透镜层分别与激光器阵列以及无源相变射频开关间隔设置,以使激光器阵列的出射激光经透镜层后射入无源相变射频开关;透镜层包括:准直透镜聚焦透镜;准直透镜设在激光器阵列以及聚焦透镜之间,聚焦透镜设在准直透镜以及无源相变射频开关之间;聚焦透镜的出射光的面积等于无源相变射频开关中相变层的面积;准直透镜以及聚焦透镜均为超表面透镜;激光器阵列、准直透镜聚焦透镜以及无源相变射频开关互相平行。
  • 一种光诱导集成相变射频开关

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