专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种N型聚合半导体材料、制备方法及应用-CN202011390292.6有效
  • 冯逸丰;袁建宇;李斌;袁鑫 - 苏州大学
  • 2020-12-02 - 2022-03-08 - C08G61/12
  • 本发明公开了一种N型聚合半导体材料、制备方法及应用,属于有机聚合半导体材料领域。本发明提供的聚合在经典的D‑A型结构的基础上,通过引入氟或氯原子基团对给体材料进行改性,提高一种新型结构的聚合半导体材料,它具有分子间排列有序性好,光学带隙宽的特征。将本发明提供的N型聚合半导体材料与P型材料PT8共混,得到的聚合聚合混合膜应用于有机聚合太阳能电池,能有效提升共轭半导体聚合的性能,采用氯仿作为加工溶剂,其光电转换效率达到9.04%,制备得到高性能太阳能电池
  • 一种聚合物半导体材料制备方法应用
  • [发明专利]用于图案化半导体组件的光阻及半导体组件的制造方法-CN201010276294.2无效
  • 王建惟;谢铭峰;张庆裕 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2010-09-06 - 2011-07-06 - G03F7/039
  • 本发明揭露一种用于图案化半导体组件的光阻及半导体组件的制造方法,其中所述用于图案化半导体组件的光阻包括聚合以及光酸产生剂,其中此聚合具有一骨架,此骨架为可断裂的,且此光酸产生剂不与此聚合键结。其次,一种半导体组件的制造方法,其包括提供基材。材料层形成于前述基材上。光阻材料形成于前述材料层上。此光阻材料具有聚合及光酸产生剂,且此聚合包括一骨架。然后,前述光阻材料是经图案化而形成图案化光阻层。以前述图案化光阻层为掩膜,对前述材料层进行一制程。之后,对前述图案化光阻层经处理而使前述聚合的骨架断裂。随后,移除前述图案化光阻层。
  • 用于图案半导体组件制造方法

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