专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种石墨烯动态调控表面等离激元等离子频率的方法-CN202210144024.9在审
  • 张翼飞;冯明明;王卿璞 - 山东大学
  • 2022-02-17 - 2022-06-10 - G02F1/01
  • 本发明涉及一种石墨烯动态调控表面等离激元等离子频率的方法,包括:(1)制备动态调控表面等离激元等离子频率的器件,具体是指:在衬底层由下自上依次生长传输线金属层、周期性石墨烯凹槽层、调控石墨烯电导率的栅介质层;(2)通过给步骤(1)制备的动态调控表面等离激元等离子频率的器件施加直流偏置改变石墨烯的电导率,动态调控表面等离激元的等离子频率。本发明通过离子液体辅助形成的电双层电容器给石墨烯施加偏压改变石墨烯的电导率,而表面等离激元的等离子频率与周期性凹槽的槽深直接相关,石墨烯电导率与石墨烯凹槽的等效槽深正相关,电导率的变化引起等效槽深的改变,因此实现对等离子频率的动态调控。
  • 一种石墨动态调控表面离激元等离子体频率方法
  • [发明专利]一种半导体等离子频率测量方法-CN201210216218.1有效
  • 杨涛;黄维;蔡祥宝;李兴鳌;刘辉;何浩培;周馨慧;王建云 - 南京邮电大学
  • 2012-06-28 - 2012-10-10 - G01N21/55
  • 本发明公开了一种半导体等离子频率测量方法。本发明首先将两个金属刀片平行设置在待测半导体表面上方,然后向其中一个刀片刃口与待测半导体表面之间的狭缝发射宽频电磁波,在待测半导体表面激发出表面等离子波,并利用设置在另一刀片外侧的光谱分析装置接收耦合出的电磁波;通过调整宽频电磁波频率以及两个刀片的间距,使得光谱分析装置刚好不能接收到入射宽频电磁波的全部频率信号,记录下此时光谱分析装置所能探测到的最大频率值;将该最大频率值乘以,即为待测半导体的等离子频率。本发明方法利用表面等离子波在半导体表面的传播特性对半导体等离子频率进行准确实时地测量,具有实现成本低、对半导体无损伤、测量范围广等优点。
  • 一种半导体等离子体频率测量方法
  • [发明专利]太赫兹表面等离子波温度控制开关及其控制方法-CN201010578297.1无效
  • 杨涛;何浩培;仪明东;黄维;李兴鳌 - 南京邮电大学
  • 2010-12-08 - 2011-09-07 - H01P1/15
  • 太赫兹表面等离子波温度控制开关及控制方法涉及到一种太赫兹表面等离子波温度控制装置,和利用本征半导体等离子频率随温度变化的特性调制太赫兹表面等离子波的一种方法。该开关包括一个等离子频率在常温下处于太赫兹波段的本征半导体晶片(2)、两个平行放置的刀片(3)、以及一个温度控制器(5),两个刀片(3)垂直于本征半导体晶片(2),两个刀片(3)的刀口离本征半导体晶片(2)上表面的距离小于最大频率的太赫兹表面等离子波(4)在空气中的衰减距离,采用刀片(3)将太赫兹波转化为太赫兹表面等离子波,以及过程相反的转化,通过温度控制器(5)控制本征半导体晶片(2)温度,从而改变该本征半导体的载流子浓度
  • 赫兹表面等离子体温度控制开关及其方法

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