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[实用新型]一种可进行废料回收的电脑转轴研磨机-CN202123310900.0有效
发明人：张小星;刘强;陈利秀;杨政颖;杨孟钧 -专利权人：昆山利东精密工业有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可进行废料回收的电脑转轴研磨机，包括研磨机台、研磨机构和转轴装夹机构，研磨机台的上表面四周均设置有挡板，研磨机台的上表面成型有多个废料落孔，研磨机台的下方一体设置有废料收集箱，转轴装夹机构包括主动旋转轴座、从动旋转轴座和伸缩驱动组件，主动旋转轴座和伸缩驱动组件分别设置在研磨机台的左右两侧，从动旋转轴座连接设置在伸缩驱动组件上，研磨机构包括研磨轮、XY轴驱动组件、竖向台和研磨驱动电机，本实用新型的研磨机台在使用时能对产生的研磨液进行自动回收，且通过转轴装夹机构能自动实现对待研磨的转轴进行装夹，与现有的转轴研磨机相比，本实用新型自动化程度较高，具有较高的使用价值。
一种进行废料回收电脑转轴研磨机

[实用新型]一种硅晶圆研磨防护装置-CN202321246710.3有效
发明人：侯承明;施宁娣;薛伸伸;曹海洋 -专利权人：百克晶半导体科技（苏州）有限公司
申请日： 2023-05-22 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种硅晶圆研磨防护装置。硅晶圆研磨防护装置，包括：安装在研磨机台上的横梁，所述横梁上安装有升降柱，所述升降柱由安装在所述横梁上的液压缸驱动，所述升降柱上安装有防护罩，所述防护罩与所述研磨机台相适配。本实用新型提供的硅晶圆研磨防护装置通过设置在研磨盘的升降柱上安装与研磨机台相适配的防护罩，能够将研磨机台上方全包围覆盖，防止粉尘、碎晶屑等异物进入研磨机台内，避免废水四处飞溅，污染周围的待研磨晶片、夹具等物料，同时，防护罩跟随研磨盘同步升降，方便硅晶圆的上下料以及方便对研磨机台的维护作业。
一种硅晶圆研磨防护装置

[实用新型]一种研磨机台的冷却装置及研磨机台-CN202123347985.X有效
发明人：冯惠敏 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种研磨机台的冷却装置及研磨机台，其中所述冷却装置用于对研磨机台进行物理降温，所述研磨机台包括研磨盘、设置在研磨盘上的研磨垫、废水排液系统、驱动马达以及传动皮带，所述冷却装置的两端与所述废水排液系统连通本实用新型通过在研磨机台的驱动马达上增设冷却装置，因地制宜地利用研磨机台工作时产生的源源不断的废水对驱动马达进行冷却，从而提高对驱动马达的散热效果，减少驱动马达过热损坏几率，降低更换驱动马达的生产成本，增加机台工作效率，且该冷却装置结构简单，改造成本低。
一种研磨机台冷却装置

[实用新型]一种半自动无心研磨机-CN201420427582.7有效
发明人：高国兴 -专利权人：珠海市钧兴机电有限公司
申请日： 2014-07-31 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种半自动无心研磨机，其研磨机台设有油压启动装置和自发式气动拆卸装置；油压启动装置设于研磨机台的侧面，包括油压缸和启动传动杆，油压缸的上端与启动会动杆的中部传动连接，下端与固定在研磨机台侧面上的油压缸固定座转动连接；启动传动杆的一端与砂轮把手传动连接，其上设有电子传感器，研磨机台的侧面设有感应触发件，并位于电子传感器下方；自发式气动拆卸装置包括气缸和顶杆，气缸安装在位于研磨砂轮和研磨导轮之间的研磨机台的机壳上，顶杆的一端安装在气缸的伸缩部上，另一端伸入至研磨机台的研磨工作区内，并位于研磨砂轮和研磨导轮之间。这样本无心研磨机即可对工件进行半自动研磨，加工品质稳定，研磨效率高。
一种半自动无心研磨机

[发明专利]制造系统-CN200510051212.3无效
发明人：李良伦;陈承先;黄雅仪;陈其贤 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2005-03-02 - 公布日： 2006-03-08 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种制造系统，包括研磨机台、检测机台及控制装置。该研磨机台是通过机械方式移除一基材上的导电物质。该检测机台是通过非破坏性测试方法，测量该导电物质中引起的电磁信号。该控制装置是与该研磨机台及该检测机台耦接，用以在研磨制程进行中，依据测量得到的该电磁信号，决定该导电物质的残余厚度及移除率，并据以调整该研磨机台的第一制程参数。使用本发明提供的制造系统，可使后一研磨制程的研磨量依据前一研磨制程的结果来进行调整，从而提高化学机械研磨的平坦化效果。
制造系统

[实用新型]双倍产量的化学机械研磨机台-CN201220065209.2有效
发明人：唐强;朱海青;李佩 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2012-02-27 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种双倍产量的化学机械研磨机台，包括研磨机构、清洗机构以及晶圆进出机构，所述研磨机构是双晶圆同步研磨机构，所述清洗机构是双晶圆同步清洗及甩干机构，所述晶圆进出机构带动两片晶圆在所述研磨机构由于研磨机构采用双晶圆同步研磨机构，所述清洗机构采用双晶圆同步清洗及所述晶圆进出机构带动两片晶圆在所述研磨机构、清洗机构之间传输，与现有技术中的化学机械研磨机台同步只能对一片晶圆进出处理不同，本实用新型提供的双倍产量的化学机械研磨机台可以对两片晶圆进行同步处理，因而，在相同处理速度的前提下，使得化学机械研磨机台的产量翻倍，有效提高了生产效率。
双倍产量化学机械研磨机台

[实用新型]一种硅晶圆研磨防护装置-CN202222707329.4有效
发明人：吴泓明;钟佑生;黄郁璿;景中正;张旭鹏;杨强杰;张辉 -专利权人：郑州合晶硅材料有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种硅晶圆研磨防护装置，所述硅晶圆研磨采用研磨机台，所述研磨机台上设有横梁；所述防护装置包括两个分体设置的半圆形防护罩单元、以及连接件；两个所述防护罩单元形状、大小与所述研磨机台相适应，分别罩于所述横梁的两侧，与所述横梁无间隙配合将所述研磨机台封闭；所述防护罩单元上设有排气孔。本申请通过设置防护罩单元和连接件，可与机台横梁无间隙贴合，将机台上方完全封闭，避免非研磨液类物质(粉尘、碎晶屑、异物等)进入研磨加工环境(机台缝隙、研磨定盘、研磨液管路、晶片表面等)，有助于提高晶圆研磨品质
一种硅晶圆研磨防护装置

[发明专利]研磨机台及研磨方法-CN201810542757.1在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;沈佳迪 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2018-05-30 - 公布日： 2018-10-16 - 主分类号： B24B37/26 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种研磨机台及研磨方法。所述研磨机台包括：研磨头；设置在所述研磨头下方的研磨台；放置在所述研磨台上的研磨垫；以及所述研磨垫上设置有沟槽。
研磨机台研磨研磨垫研磨头研磨台

[发明专利]降低晶圆被刮伤的方法、化学机械研磨机台及清洗器-CN201410118108.0有效
发明人：蒋德念;邢杰;张弢 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-03-27 - 公布日： 2017-03-01 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种降低晶圆被刮伤的方法、化学机械研磨机台及清洗器。化学机械研磨机台，其包括研磨盘、研磨头清洗器和研磨液晶体清洗器，研磨头清洗器用于清洗研磨头，研磨液晶体清洗器用于清洗积聚在所述化学研磨机台上下盖板上刮伤晶圆的研磨液晶体。本发明通过设置研磨液晶体清洗器用于清洗积聚在所述化学研磨机台上下盖板上刮伤晶圆的研磨液晶体，该研磨液晶体清洗器可以是基于现有化学研磨机台的研磨头清洗器结构改制而成，也可以是额外配置的结构。由于研磨液晶体清洗器清洗掉了上下盖板上的研磨液晶体，避免了研磨液晶体对晶圆的划伤，提高了产品的良率。
降低晶圆被刮伤方法化学机械研磨机台清洗

[实用新型]一种高效化工原料破碎研磨机-CN202122493059.7有效
发明人：林易 -专利权人：瑞润化工（南通）有限公司
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： B02C17/16 文献下载
摘要：本申请涉及化工生产设备领域，一种高效化工原料破碎研磨机，包括研磨机机台、研磨腔体、研磨转子体、进料管和出料管；研磨机机台的底部腔体内安装有研磨电机，研磨机机台的顶部腔体内设有从动轮，顶部腔体的外侧还安装有电控箱；研磨转子体包括中心的转轴、转轴上安装的棒销和涡轮；转轴贯穿研磨机机台的从动轮并与之固定连接；研磨腔体套装在研磨转子体外，且研磨腔体与顶部腔体侧面的盖体固定连接，研磨腔体的远离顶部腔体的设有圆形密封盖，且密封盖上分别设有连接有进料管和出料管，研磨腔体顶部连接有气体储存罐，气体储存罐与研磨腔体的连接管道上设有压力表。本申请有效提高研磨机的研磨效率和耐磨性，延长其使用寿命。
一种高效化工原料破碎研磨机

[实用新型]液体回收装置-CN201921253050.5有效
发明人：黄景山;裴雷洪;刘鹏 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2019-08-05 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种液体回收装置，包括：液体收集结构，其设置在晶圆化学机械研磨机台边缘旁侧，且位于晶圆化学机械研磨机台研磨液喷头下方，其能将晶圆化学机械研磨机台研磨液喷头流出的液体回收；液体导入结构，其一端连接液体收集结构，其另一端置于储液结构中；储液结构，其布置在晶圆化学机械研磨机台边缘旁侧，其用于存储回收的液体；送风装置，其设置在储液结构的旁侧，其能向储液结构内输送新风。本实用新型能收集预流的研磨液并通过扩散蒸发件和送风装置使回收研磨液中的超纯水蒸发，然后将剩余的研磨液输送回研磨机台再次利用，能大幅降低生产成本。
液体回收装置

[实用新型]自动研磨过滤装置-CN201220654499.4有效
发明人：陈玉仁 -专利权人：厦门市上好仁真食品工业有限公司
申请日： 2012-12-03 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： B01D33/03 文献下载
摘要：本实用新型的自动研磨过滤装置，包括：一机台，该机台上设有一研磨机和一电机，机台内设有一机械传动组件；一研磨机，该研磨机上设有一进料斗和一出料斗，研磨机内设有研磨盘；一电机，该电机通过机械传动组件将动力传递至研磨机的研磨盘；一机械传动组件；一支架，该支架与所述机台固定连接，该支架通过若干减震弹簧连接一振动泵和一过滤网；一振动泵，该振动泵设置在过滤网上方，带动过滤网整体震荡；一过滤网，该过滤网位于上述研磨机的出料斗下方；及若干减震弹簧本实用新型用于实现物料研磨和半固体物料的过滤的自动化作业。
自动研磨过滤装置

[发明专利]一种化学机械抛光系统及其工作过程-CN201811581768.7有效
发明人：夏文羽;吴科;同小刚;陈智;文静;张传民 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2018-12-24 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供一种化学机械抛光系统，涉及集成电路生产工艺，包括：研磨液供给装置、研磨液循环装置和研磨机台，所述研磨液循环装置位于连通所述研磨液供给装置与所述研磨机台的研磨液流通管路中，其中当化学机械抛光系统正常工作时，所述研磨液供给装置提供研磨液，研磨液通过所述研磨液流通管路和所述研磨液循环装置供给所述研磨机台以进行化学机械抛光；当化学机械抛光系统发出故障报警后，所述研磨液供给装置停止工作，所述研磨液循环装置供应研磨液给所述研磨机台以进行化学机械抛光
研磨液化学机械抛光系统研磨液供给装置研磨液循环装置研磨机台化学机械抛光流通管路集成电路生产故障报警生产效率成品率晶圆连通

[实用新型]一种刀具段差鱼尾研磨机-CN202023018454.1有效
发明人：陈勇 -专利权人：东莞市梵宇自动化科技有限公司
申请日： 2020-12-15 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种刀具段差鱼尾研磨机，包括机台以及设于机台的托料机构、段差研磨机构和鱼尾研磨机构，段差研磨机构包括旋转板、段差研磨电机和段差研磨砂轮，旋转板设于机台的上表面，旋转板可绕竖直轴线转动，段差研磨电机设于旋转板，鱼尾研磨机构包括鱼尾固定板、鱼尾研磨电机和鱼尾研磨砂轮，鱼尾固定板设于机台的上表面，鱼尾研磨电机设于鱼尾固定板，鱼尾研磨砂轮通过转轴与鱼尾研磨电机传动连接，段差研磨砂轮和鱼尾研磨砂轮均设有研磨面和研磨边沿，段差研磨砂轮和鱼尾研磨砂轮的研磨面相对设置，托料机构位于段差研磨砂轮和鱼尾研磨砂轮之间，提高研磨效率，同时提高研磨精度，有效提高砂轮利用率，降低生产成本。
一种刀具鱼尾研磨机

[发明专利]一种保持研磨机台研磨率平衡的方法-CN201510703181.9在审
发明人：吴科;文静;张传民 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2015-10-26 - 公布日： 2016-03-16 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械研磨领域，具体涉及一种保持研磨机台研磨率平衡的方法，所述研磨机台包括研磨盘、研磨垫、研磨头和研磨垫修整器，所述方法包括：提供一待研磨的半导体器件；将所述半导体器件放置于所述研磨机台上，以对所述半导体器件进行化学机械研磨工艺；其中，利用所述研磨头的加压功能，通过调整研磨头对于研磨盘的压力，来弥补研磨垫与研磨垫修整器随着寿命变化而导致的研磨率的损失，从而保持研磨率的平衡。
一种保持研磨机台平衡方法

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