专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种用于金属加工的抛光-CN201621250604.2有效
  • 余敬阳 - 昆山精诚得精密五金模具有限公司
  • 2016-11-22 - 2017-06-13 - B24B27/00
  • 本实用新型公开了一种用于金属加工的抛光,包括输送带、传动轮、研磨钻机、机架、注料桶、伸缩杆、注料手柄、抛光连杆、鼓风机、电动机、控制器、保护架、翻合轴、传动带、研磨滑杆、卷取辊、抛光盘、注水桶、撑板、本实用新型的有益效果是该种抛光的输送带上设有若干个研磨钻机,该研磨钻机可在抛光进行端面抛光时对金属产品进行更全面的研磨,避免因输送带速度不稳定导致研磨不细致,保证了抛光端面抛光的高效性与高质量;该抛光的柱面抛光系上设有研磨滑杆,该研磨滑轴在抛光进行柱面抛光时沿滑轴滑动对产品进行研磨,保证了柱面抛光研磨的精确性;该抛光操作方便,牢固耐用,稳固牢靠,各构件连接灵活。
  • 一种用于金属加工抛光机
  • [发明专利]一种全自动化研磨抛光生产线-CN202211388758.8在审
  • 许亮;陈永福;彭成辉;彭翌 - 宇环数控机床股份有限公司
  • 2022-11-08 - 2023-03-07 - B24B27/00
  • 一种全自动化研磨抛光生产线,其特征在于,包括:输送线,用于输送待加工工件和已加工工件;研磨抛光,用于对待加工工件进行打磨抛光处理;工业机器人,通过自动化系统和数控系统程序控制,用于吸附并转运待加工工件、已加工工件及研磨抛光中的游星轮;移动轨道,设于多台研磨抛光之间,所述工业机器人安装在移动轨道上,并沿移动轨道在多台研磨抛光之间移动;一次定位工装,用于对研磨抛光中的游星轮进行粗定位;二次定位工装,用于对研磨抛光中的游星轮及待加工工件进行精定位。
  • 一种自动化研磨抛光生产线
  • [发明专利]一种碳化硅单晶的研磨抛光方法-CN202310290748.9在审
  • 詹军 - 南京孚克讯新材料有限公司
  • 2023-03-23 - 2023-07-14 - B24B37/11
  • 本发明提供一种碳化硅单晶的研磨抛光方法,包括S1、采用抛光,将清洗干燥完的碳化硅单晶置于抛光平台上,设定抛光抛光平台的旋转速度为50~80rpm,磨盘的磨料粒径为20~30um,磨盘的转速为30~40rpm,磨盘的压力为300~500g/cm;启动抛光研磨60~90min;启动抛光研磨60~90min包括:S1.1、启动抛光,使抛光平台旋转360°后向相反的方向旋转360°,如此循环研磨20~40min;S1.2、启动抛光,使抛光平台沿着同一个方向一直旋转,研磨50~80min;S2、对研磨的碳化硅单晶进行清洗干燥;S3、采用抛光,对碳化硅单晶进行抛光。本发明的研磨方式研磨的碳化硅单晶的效率更高,达到同一个粗糙所用时间更短。
  • 一种碳化硅研磨抛光方法
  • [实用新型]一种铸件内外径研磨装置-CN201520943752.1有效
  • 李诚源 - 广兴机械科技(惠州)有限公司
  • 2015-11-23 - 2016-06-15 - B24B27/00
  • 本实用新型涉及一种铸件内外径研磨装置,包括外径抛光和内径抛光组成;外径抛光包括外径抛光机架,外径抛光机架上设有装夹铸件的可偏摆气动夹具和外径抛光装置,内径抛光包括内径抛光机架,内径抛光机架上设有内径装夹定位圆盘,内径装夹定位圆盘上方设有抛光电机驱动的粗抛叶轮和细抛叶轮。本实用新型用于脱蜡铸造行业的铸件内外径研磨装置,可以对管形件进行有效的内、外径研磨,以使其粗糙度能够达到指定要求,本装置抛光研磨时间只需要十数秒至一分钟内即可完成抛光、省时省力、降低劳动强度、成本低、抛光时间短、抛光效率高。
  • 一种铸件外径研磨装置
  • [实用新型]一种研磨抛光装置-CN202120764945.6有效
  • 乔晓东;楚殿军;李大龙;翟蕊 - 嘉兴浩宇等离子体科技有限公司
  • 2021-04-14 - 2021-12-10 - B24B31/06
  • 本实用新型涉及抛光研磨技术领域,具体是涉及一种研磨抛光装置,包括震动研磨抛光,其顶部设有盖子,升降减震机构,设置在所述盖子上,减震支撑机构,设置在所述震动研磨抛光的顶部,高温压缩,设置在靠近震动研磨抛光的旁侧,并且所述高温压缩靠近震动研磨抛光的一端设有至少一个传输气管,本发明与现有技术相比具有的有益效果是通过升降减震机构和减震支撑机构的配合实现了自动开盖和关盖的问题,无需人工进行操作,通过高温压缩对震动研磨抛光内部进行输送高温压缩空气来蒸发水气,解决了因湿气影响抛光效果和返工率的问题。
  • 一种研磨抛光装置
  • [实用新型]一种快速降温的抛光磨液桶-CN201620126675.5有效
  • 张兴祥 - 东莞市顺怡隆机械科技有限公司
  • 2016-02-18 - 2016-09-28 - B24B57/00
  • 本实用新型公开了一种快速降温的抛光磨液桶,包括研磨抛光,过滤口;所述研磨抛光的上方设有定压筒,所述定压筒上安装有夹紧装置,且定压筒与研磨抛光通过第一导管连接,所述定压筒的右端安装有出水管道,所述研磨抛光的内部安装有研磨浆收集器,所述研磨浆收集器的左侧设置有研磨盘,所述过滤口安装在研磨抛光上,所述过滤器的下方安装有研磨液筒,所述第二加液砂泵的后侧安装有污泥泵,所述污泥泵与圆形铁管通过第四导管连接,所述第四导管上安装有控制阀门本实用新型在研磨液筒的上下两侧安装有底第一加液泵和第二加液泵,实现了快速对研磨桶内部进行降温,提高了研磨液质量,保证了研磨的效果。
  • 一种快速降温抛光机磨液桶
  • [实用新型]磁力研磨抛光-CN201720044086.7有效
  • 蒙齐任 - 东莞市东元研磨机械有限公司
  • 2017-01-16 - 2017-09-05 - B24B31/02
  • 本实用新型公开了磁力研磨抛光,包括架体,所述架体正表面的左侧设置有连接板,所述连接板的一端贯穿架体,所述架体正表面的前侧设置有作业腔,所述作业腔的底部设置有输送板,所述作业腔的顶部设置有挡板,所述作业腔的右侧设置有成品槽本实用新型通过大磁极和小磁极多序多列大小错位排列,提高了研磨工件的尺寸,这样研磨抛光的使用效果更好,解决了研磨抛光在使用的过程中,因研磨工件尺寸太短,从而造成研磨抛光在对加工件研磨的过程中,使用了大量的时间,从而导致研磨抛光出现研磨效率不高的问题,从而大大提高了研磨抛光研磨效率。
  • 磁力研磨抛光机
  • [实用新型]一种小透镜弧摆高精度研磨抛光-CN201720119883.7有效
  • 何宜斌 - 上饶市恒泰光学设备制造有限公司
  • 2017-02-09 - 2017-08-29 - B24B13/00
  • 本实用新型公开了一种小透镜弧摆高精度研磨抛光,包括抛光主体,所述抛光主体的底部安装有固定座台,且所述固定座台与抛光主体固定连接,所述固定座台的一侧安装有碎屑放置箱,所述碎屑放置箱的侧面安装有拉手,所述抛光主体的顶部安装有固定支架,且所述固定支架与抛光主体固定连接,该种小透镜弧摆高精度研磨抛光,安装了碎屑放置箱和风机,风机将物件抛光下来的碎屑进行吸附,通过导管传递到碎屑放置箱内部进行储存,有利于减少操作次数,提高小透镜弧摆高精度研磨抛光的工作效率,安装了透镜和重力摆锤,透镜度将磨砂轮抛光的部位进行放大处理,重力摆锤检测小透镜弧摆高精度研磨抛光的水平偏移度,有利于工作精度。
  • 一种透镜高精度研磨抛光机
  • [发明专利]一种镨钕稀土生产用滚筒式抛光-CN202310046612.3在审
  • 陈睿文;陈宗华;罗林生;钟海辉;刘金长 - 上犹东进稀土金属冶炼工贸有限公司
  • 2023-01-31 - 2023-06-23 - B24B31/03
  • 本发明涉及稀土加工领域,尤其涉及一种镨钕稀土生产用滚筒式抛光。提供一种不易使结块的镨钕合金粉末卡在缝隙处的镨钕稀土生产用滚筒式抛光。一种镨钕稀土生产用滚筒式抛光,包括有安装架、电机、研磨抛光和集料机构等;安装架右侧顶部安装有电机,安装架上设有用于研磨抛光镨钕合金的研磨抛光,安装架上还设有用于收集的集料机构。本发明通过研磨抛光,由于滚筒与滚轴采用非同心设置,滚轴的圆心位置要比滚筒偏下一点,使得滚筒与滚轴之间的上部缝隙与下部缝隙不一样大,从而使研磨抛光时结团镨钕合金粉末不容易卡在滚筒与滚轴的缝隙之间。
  • 一种稀土生产滚筒抛光机
  • [实用新型]一种双面平面研磨抛光-CN201720264028.5有效
  • 贺德荣;胡皱文 - 贺德荣
  • 2017-03-17 - 2018-01-09 - B24B7/17
  • 本申请公开了一种双面平面研磨抛光。本申请的双面平面研磨抛光,包括上磨盘、下磨盘和游星轮,以及三个独立运行的驱动装置,即第一驱动装置、第二驱动装置、第三驱动装置;第一驱动装置独立的驱动上磨盘转动,第二驱动装置独立的驱动下磨盘转动,第三驱动装置独立的驱动游星轮转动本申请的双面平面研磨抛光,采用三个独立运行的驱动装置,分别对上磨盘、下磨盘和游星轮进行独立的控制,使得双面平面研磨抛光不仅可以进行双面抛光,还可以任选的对其中一个面进行单面抛光,提高了双面平面研磨抛光的使用效率
  • 一种双面平面研磨抛光机
  • [实用新型]一种研磨抛光-CN201020202573.X无效
  • 吕俊;徐国斌 - 嘉兴海盛电子有限公司
  • 2010-05-25 - 2011-02-09 - B24B37/00
  • 本实用新型涉及研磨领域,具体地说是一种研磨抛光。该研磨抛光包括床身、上磨盘、下磨盘、砂液容器、砂液管和立柱,所述上磨盘与立柱相连,所述上磨盘上设有若干通孔,其特征在于所述砂液容器中的砂液经砂液管流向上磨盘的上表面。本实用新型的目的是提供一种砂液流程短、流速适当、砂液分布均匀、重量轻的研磨抛光,该研磨抛光的结构简单、操作性好。
  • 一种研磨抛光机

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