专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]真空镀膜-CN202320547291.0有效
  • 卢鹏;马淑莹 - 光驰科技(上海)有限公司
  • 2023-03-20 - 2023-08-08 - C23C14/54
  • 本实用新型属于真空镀膜技术领域,具体公开了一种真空镀膜真空镀膜,包括镀膜体,镀膜体内部设置有镀膜腔,还包括真空调节机构,真空调节机构用于调节镀膜腔的真空度,真空调节机构包括:过渡腔体,具有过渡腔、连通口及抽气口,连通口间隔设置有至少两个,且连通口能够连通过渡腔和镀膜腔,抽气口与过渡腔连通;调节组件,至少部分连通口处设置有调节组件,调节组件用于调节对应连通口的开度;真空泵,与抽气口对接,以通过过渡腔对镀膜腔抽真空。本实用新型公开的真空镀膜,能够在不改变真空泵运行状态的基础上,镀膜过程中实时对真空度进行调节,提高调节效率和调节便利性,且能够提高镀膜腔内的真空均匀性,提高镀膜效果。
  • 真空镀膜
  • [实用新型]真空镀膜-CN202320546417.2有效
  • 裴蓓;渡边优;余龙;吕启蒙;曹永军 - 光驰科技(上海)有限公司
  • 2023-03-20 - 2023-08-08 - C23C14/34
  • 本实用新型公开了一种真空镀膜,涉及真空镀膜技术领域。该真空镀膜包括真空镀膜室、导轨和靶材移动小车,靶材移动小车上安装有靶材单元,靶材移动小车滑设于导轨,以使靶材单元能够进出真空镀膜室。靶材单元通过靶材移动小车运送至真空镀膜室内,为真空镀膜提供溅射靶材。在对靶材单元进行维护时,靶材移动小车将靶材单元移出真空镀膜室。
  • 真空镀膜
  • [实用新型]真空镀膜-CN201220720688.7有效
  • 郑维隆;郑裕泡;李初转;金影群;刘中位 - 温州百盛工艺品有限公司
  • 2012-12-24 - 2013-06-19 - C23C14/24
  • 真空镀膜,包括箱体,所述箱体内设置有真空镀膜室,所述箱体上设置有抽真空接口,所述箱体顶端设置有蒸发控制系统控制器、膜厚控制系统控制器、温度控制系统控制器,所述蒸发控制系统控制器与设置在真空镀膜室内的电弧蒸发装置连接,所述温度控制系统控制器与设置在箱体内的加热器及测温器电连接,所述膜厚控制系统控制器与蒸发装置及设置在真空镀膜室内中部的挡板的驱动装置连接,所述箱体一侧开设有密封门。本实用新型的有益效果:本实用新型提供的真空镀膜镀膜质量监控及调节系统比较完善,使镀膜层质量提高,不易脱落。
  • 真空镀膜
  • [发明专利]真空镀膜-CN202110693607.2在审
  • 郑新源;戴铭志;牛晶华;程爽;张莉;袁青松;刘园园 - 上海天马有机发光显示技术有限公司
  • 2021-06-22 - 2021-10-12 - C23C14/24
  • 本申请提供了一种真空镀膜,属于显示屏电子元件镀膜技术领域,该真空镀膜包括腔体;支撑柱,设置在腔体内;载盘,包括连接部件和载板,载板通过连接部件与支撑柱连接,以使载板可沿支撑柱的轴向转动,载板呈环状并具有第一镂空部本申请所提供的真空镀膜中第一晶振能够更靠近基板承载区,由于基板放置于基板承载区,因此第一晶振能够更靠近基板,第一晶振检测到的蒸镀速率与镀膜厚度与基板实际的蒸镀速率与镀膜厚度更接近,从而第一晶振能够更准确检测基板的蒸镀速率与镀膜厚度
  • 真空镀膜
  • [实用新型]真空镀膜-CN201521109097.6有效
  • 段元成;毛祖献;容春华 - 苏州金研光电科技有限公司
  • 2015-12-29 - 2016-05-25 - C23C14/30
  • 本实用新型公开了一种真空镀膜,其包括一真空室,所述真空室内设置一用于承载产品的承载支架以及一镀膜用的电子枪,所述承载支架和电子枪之间设置一镀膜材料,其特征在于:包括一中空的防污罩,所述镀膜材料设置在所述防污罩中本实用新型的真空镀膜在电子枪前加装一个防污罩,挡住向坩埚周围挥发的膜料分子,使真空室衬板保持清洁,在防污罩脏污后更换一个防污罩继续生产,节省了清洁衬板的时间。
  • 真空镀膜
  • [实用新型]真空镀膜-CN201120356043.5有效
  • 林建利 - 漳州市天利达计时有限公司
  • 2011-09-22 - 2012-05-30 - C23C14/22
  • 本实用新型涉及一种真空镀膜,其特征在于:包括半圆柱形镀膜室,所述半圆柱形镀膜室的两侧均铰接有与半圆柱形镀膜室相配合的半圆柱形工件室,所述半圆柱形工件室内设有用于放置工件的工件架,所述工件架的旋转轴由半圆柱形镀膜室上方的电机驱动旋转,所述半圆柱形镀膜室的侧壁上设有用于抽真空的排气口,所述排气口经排气管路与真空气泵相连接,所述半圆柱形镀膜室的底板上设有用于熔融工件架上金属丝的电源接柱。该真空镀膜的结构简单,不仅镀膜效果好,而且工作效率高。
  • 真空镀膜

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