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[发明专利]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201810019624.6在审
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-05-08 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本发明提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
一种汽车窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置

[实用新型]磁控阴极溅射镀膜工艺室-CN201320412833.X有效
发明人：陆仁立 -专利权人：重庆春江镀膜玻璃有限公司
申请日： 2013-07-11 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及玻璃镀膜生产技术领域，公开一种磁控阴极溅射镀膜工艺室，包括依次连通的入口气锁室、入口真空缓冲腔室、磁控阴极溅射镀膜真空腔室、出口真空缓冲腔室和出口气锁室，所述入口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室，磁控阴极溅射镀膜真空腔室包括至少16个溅射单元腔室，所述出口真空缓冲腔室包括至少4个缓冲单元腔室；本实用新型的磁控阴极溅射镀膜工艺室，在磁控阴极溅射镀膜真空腔室两端设置真空缓冲室和锁定室，可有效降低玻璃基片进出磁控阴极溅射镀膜真空腔室造成的气体泄漏，提高磁控阴极溅射镀膜真空腔室的真空度，并使其维持在稳定的水平，从而提高镀膜质量。
阴极溅射镀膜工艺

[实用新型]一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置-CN201820032576.X有效
发明人：崔岸;孙文龙;刘芳芳;张睿;程普;郝裕兴;陈宠 -专利权人：吉林大学
申请日： 2018-01-09 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，包括：装载区、镀膜区和卸载区；所述装载区、所述镀膜区和所述卸载区均设置在真空腔内；所述装载区和所述卸载区关于所述镀膜区对称设置；在镀膜区采用多个磁控溅射阴极结构，并布置多个真空激光测距仪，与多个溅射阴极相对应，通过真空激光测距仪测出镀膜表面与磁控溅射阴极的距离反馈给溅射阴极，控制溅射功率，从而控制不同位置溅射离子的量，以保证一次镀膜就可以达到膜厚均匀性要求。本实用新型提供了一种汽车风窗玻璃真空连续磁控溅射镀膜装置，不仅简化了真空镀膜设备，同时能够自动调节磁控溅射功率，保证带有曲率的玻璃表面镀膜厚度的均匀性。
镀膜区磁控溅射镀膜装置汽车风窗玻璃卸载区装载区磁控溅射阴极本实用新型溅射阴极真空激光测距仪曲率玻璃表面镀膜磁控溅射功率真空镀膜设备膜厚均匀性镀膜表面对称设置溅射功率均匀性真空腔镀膜溅射离子保证反馈

[实用新型]一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜机-CN202222112385.3有效
发明人：张永胜;梁得刚;张永祺;王岩;李坤 -专利权人：苏州迈为科技股份有限公司
申请日： 2022-08-11 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本申请公开了一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜机，属于镀膜设备技术领域。一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜机，包括：真空装置，该真空装置包括真空腔室和抽真空机构；卷绕装置，该卷绕装置设于真空腔室内，卷绕装置包括放卷机构、第一冷却镀膜辊、第二冷却镀膜辊和收卷机构，由放卷机构释放的基材经过第一冷却镀膜辊以及第二冷却镀膜辊并被收卷机构收卷；溅射装置，该溅射装置设于真空腔室内，溅射装置包括第一溅射区域和第二溅射区域；驱动装置，驱动装置设于真空腔室外，驱动装置与放卷机构、第一冷却镀膜辊、第二冷却镀膜辊和收卷机构相连；还包括离子源装置和水冷装置本申请能一次性完成柔性基材的双面镀膜，可以提升生产效率，提高镀膜质量。
一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜

[实用新型]真空磁控溅射镀膜机-CN201720297494.3有效
发明人：朱国朝;袁安素;沈学忠;温振伟 -专利权人：纳狮新材料股份有限公司
申请日： 2017-03-24 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型是关于真空磁控溅射镀膜机。本实用新型一实施例提供一真空磁控溅射镀膜机，其包括真空抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中用于放置镀膜产品的工件转架以及设置在真空室中的磁控溅射装置，其中磁控溅射装置包含与真空室固定连接的磁控靶法兰，其中真空磁控溅射镀膜机还包括设置于磁控溅射装置附近的纳米粉末导入装置。本实用新型实施例提供的真空磁控溅射镀膜机可制作具有高硬度、良好的耐磨损性能以及可包含多种其它性能的涂层。
真空磁控溅射镀膜

[发明专利]一种磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机及其镀膜工艺-CN202010927773.X有效
发明人：林卫良 -专利权人：温岭市华航电子科技有限公司
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机及其镀膜工艺，属于镀金属膜设备技术领域。它解决了现有不同的金属靶材其溅射出的靶材原子在各个靶材表面沉积的问题。本磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机，包括真空室以及设置于真空室内的卷绕系统、溅射源和蒸发炉，卷绕系统包含有至少为两个的镀膜鼓，且相邻两镀膜鼓之间设置有起隔离作用的真空腔，真空腔内的真空度大于真空室的真空度，每个镀膜鼓对应一种溅射源，真空室内位于镀膜鼓的侧方设置有蒸发炉。本发明具有可以有效防止溅射靶材之间发生相互干扰的优点，且该工艺可以配合溅射和热蒸发多重镀膜。
一种磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜及其镀膜工艺

[实用新型]一种真空镀膜装置-CN202223529755.X有效
发明人：方学锋;詹寅杰;杨合林;王震;卢伟 -专利权人：杭州大华仪器制造有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括真空镀膜室以及对真空镀膜室进行抽真空的抽真空装置；其特征是还包括设置在真空镀膜室内的加热基片台、安装在真空镀膜室上且与加热基片台连接用于带动加热基片台进行旋转的旋转机构以及安装在真空镀膜室内的若干溅射靶枪装置该实用新型通过采用多靶溅射结构，多个溅射靶枪装置在下，基片在上，向上溅射成膜，可根据实际需求一次性对基片进行单层或多层镀膜，也采用不同的靶材进行多层镀膜，同时每一个靶枪配备一个独立的挡板机构，当进行溅射时，打开挡板，当不进行溅射或者其他靶枪进行溅射时关闭挡板，避免对其他靶枪的镀膜产生影响。
一种真空镀膜装置

[发明专利]一种超薄基膜的连续式卷绕真空镀膜方法-CN202110345072.X有效
发明人：李成林;杜雪峰;郝明 -专利权人：辽宁分子流科技有限公司
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开一种超薄基膜的连续式卷绕真空镀膜方法，用于新能源动力电池领域中在柔性基膜上制备多层膜层，主要包括：（1）将基膜放置在真空镀膜机的放卷室中的放卷辊上，关闭真空室，对真空室进行抽真空；（2）在真空环境中采用真空穿膜机构使基膜在卷绕系统上真空穿膜；（3）当真空镀膜机的真空蒸发镀膜室和磁控溅射镀膜室中的真空度达到工艺要求时，启动卷绕系统、蒸发装置和磁控靶；磁控溅射镀膜室竖直立式排布，真空蒸发镀膜室呈层叠排布于磁控溅射镀膜室的两侧；基膜走膜依次经过一侧的真空蒸发镀膜室、磁控溅射镀膜室和另一侧的真空蒸发镀膜室，分别进行蒸发镀膜和磁控溅射镀膜，实现在基膜的两面分别镀制多层膜层。
一种超薄连续卷绕真空镀膜方法

[实用新型]磁控溅射镀膜装置-CN202020352887.1有效
发明人：杜志游;郭世平 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种磁控溅射镀膜装置，其中，磁控溅射镀膜装置包括：真空镀膜室；可旋转工件架，可沿其中心轴在所述真空镀膜室内旋转，具有若干个侧壁，所述侧壁用于承载待镀膜工件，所述待镀膜工件具有待镀面，所述待镀面向远离中心轴的方向凸出；至少一个磁控溅射源，设置于所述真空镀膜室内，用于向所述待镀膜工件的表面溅射镀膜材料颗粒，所述磁控溅射源与所述待镀面之间具有间隙。利用所述磁控溅射镀膜装置制出的镀膜均一性好。
磁控溅射镀膜装置

[发明专利]磁控溅射镀膜装置及其工作方法-CN202010197819.7在审
发明人：杜志游;郭世平 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种磁控溅射镀膜装置及其工作方法，其中，磁控溅射镀膜装置包括：真空镀膜室；可旋转工件架，可沿其中心轴在所述真空镀膜室内旋转，具有若干个侧壁，所述侧壁用于承载待镀膜工件，所述待镀膜工件具有待镀面，所述待镀面向远离中心轴的方向凸出；至少一个磁控溅射源，设置于所述真空镀膜室内，用于向所述待镀膜工件的表面溅射镀膜材料颗粒，所述磁控溅射源与所述待镀面之间具有间隙。利用所述磁控溅射镀膜装置制出的镀膜均一性好。
磁控溅射镀膜装置及其工作方法

[发明专利]磁控溅射镀膜装置及其工作方法-CN202010196863.6在审
发明人：杜志游 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种磁控溅射镀膜装置及其工作方法，其中，磁控溅射镀膜装置包括：真空镀膜室；可旋转工件架，可沿其中心轴在所述真空镀膜室内旋转，具有若干个侧壁，所述侧壁用于承载待镀膜工件；至少一个磁控溅射源，设置于所述真空镀膜室内，与所述待镀膜工件之间具有间隙，用于向所述待镀膜工件的表面溅射镀膜材料颗粒；位置调节装置，用于调整所述磁控溅射源的位置，当所述待镀膜工件与所述磁控溅射源相对的位置由中心向边缘转动时，所述位置调节装置调节所述磁控溅射源的位置，使所述磁控溅射源到所述中心轴的距离逐渐变大。利用所述磁控溅射镀膜装置制出的镀膜均一性好。
磁控溅射镀膜装置及其工作方法

[实用新型]磁控溅射镀膜装置-CN202020354281.1有效
发明人：杜志游 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2020-03-19 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种磁控溅射镀膜装置，包括：真空镀膜室；可旋转工件架，可沿其中心轴在所述真空镀膜室内旋转，具有若干个侧壁，所述侧壁用于承载待镀膜工件；至少一个磁控溅射源，设置于所述真空镀膜室内，与所述待镀膜工件之间具有间隙，用于向所述待镀膜工件的表面溅射镀膜材料颗粒；位置调节装置，用于调整所述磁控溅射源的位置，当所述待镀膜工件与所述磁控溅射源相对的位置由中心向边缘转动时，所述位置调节装置调节所述磁控溅射源的位置，使所述磁控溅射源到所述中心轴的距离逐渐变大利用所述磁控溅射镀膜装置制出的镀膜均一性好。
磁控溅射镀膜装置

[实用新型]一种双室磁控溅射电子束镀膜机-CN201620762959.3有效
发明人：何吉刚;马宁;王小军;蒋冰霜;魏琼林;蒙志林;冉从军 -专利权人：成都中科唯实仪器有限责任公司
申请日： 2016-07-19 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双室磁控溅射电子束镀膜机，包括磁控溅射镀膜系统、电子束镀膜系统、转换系统和总控制柜，所述磁控溅射镀膜系统的控制端、所述电子束镀膜系统的控制端和所述转换系统的控制端均与所述总控制柜连接；本实用新型一种双室磁控溅射电子束镀膜机将磁控溅射真空腔体、电子束真空腔体和转换真空腔体连通，使在对镀膜样品进行镀膜时，可以在不破坏真空环境的情况下实现磁控溅射镀膜和电子束镀膜，使多层镀膜的膜层膜间的结合性更好
一种磁控溅射电子束镀膜

[实用新型]一种双室磁控溅射真空镀膜机-CN201921885786.4有效
发明人：吴炳照 -专利权人：无锡福照玻璃镜业有限公司
申请日： 2019-11-04 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，公开了一种双室磁控溅射真空镀膜机，包括镀膜机座，镀膜机座上横向设有磁控基板，磁控基板的前后侧均设有磁控溅射装置，磁控基板的前后侧均铰接有与其侧面磁控溅射装置可罩设密闭配合的镀膜机罩，且镀膜机罩水平翻转，镀膜机罩内侧水平设有载物基台，镀膜机座上设有将镀膜机罩与磁控基板之间封闭腔体抽真空的真空发生装置，镀膜机座上设有与真空发生装置、磁控溅射装置配合的调节控制箱。本实用新型解决了现有磁控溅射真空镀膜机适用范围小，加工效率低的问题。
一种磁控溅射真空镀膜

[发明专利]球罩导电环加工方法-CN202310654642.2在审
发明人：戴辉;刘克武;王奎;王星星;尹士平 -专利权人：安徽光智科技有限公司
申请日： 2023-06-02 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种球罩导电环加工方法包括步骤：步骤一，在真空溅射镀膜机的真空室内，用球罩固定工装将球罩固定，以形成中空空间以及形成使球罩的内球面的一部分露出的镀膜间隙；步骤二，将溅射靶安装在真空溅射镀膜机的靶材基座上，溅射靶具有能够环形溅射的溅射面；步骤三，使球罩固定工装和溅射靶相对彼此运动，以使溅射靶的溅射部伸入球罩固定工装的中空空间中；步骤四，关闭真空室，对真空室抽真空；步骤五，启动溅射电源和溅射气体，溅射气体轰击溅射靶的溅射面以使从溅射面被轰击处的溅射靶的粒子在镀膜间隙进行沉积镀膜以形成导电环；步骤六，镀覆完成之后从真空室取出球罩固定工装且从球罩固定工装中取出已形成导电环的球罩。
导电加工方法

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