专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]功率半导体电路-CN201410295545.X有效
  • 哈拉尔德·科波拉;冈特·柯尼希曼;京特·卡岑贝格尔;雅伊尔·多·纳西门托-辛格 - 赛米控电子股份有限公司
  • 2014-06-26 - 2018-08-31 - H03K17/687
  • 本发明涉及一种功率半导体电路,其具有:多个电并联的功率半导体开关,其中,功率半导体电路构造成:在其中单个功率半导体开关中对涉及的功率半导体开关的出现在第一和第二负载电流接头之间的功率半导体开关电压进行监控,和驱控单元,其构造用以产生用于驱控功率半导体开关的驱控信号,驱控单元与功率半导体开关的控制接头和第二负载电流接头电连接,其中,共模扼流圈分别电联接在功率半导体开关电压不被监控的功率半导体开关与驱控单元之间,并且没有共模扼流圈电联接在功率半导体开关电压被监控的功率半导体开关与驱控单元之间。本发明的功率半导体电路实现了功率半导体开关间尽可能均匀的电流分布及对其中一个开关上的开关电压的可靠监控
  • 功率半导体电路
  • [发明专利]一种半导体器件及其制备方法-CN202111351375.9在审
  • 杨天应;刘丽娟;吴文垚 - 深圳市时代速信科技有限公司
  • 2021-11-16 - 2021-12-14 - H01L29/778
  • 本发明公开了一种半导体器件及其制备方法,涉及半导体器件技术领域,本发明的半导体器件,包括衬底,以及设置于衬底上的半导体层,半导体层包括有源区和位于有源区外围的无源区;有源区包括:源极、栅极、漏极,无源区设置有栅极焊盘、漏极焊盘和温度监控焊盘,栅极与栅极焊盘连接,漏极与漏极焊盘连接,还包括设置在温度监控焊盘和源极之间的温度传感器,温度监控焊盘用于连接温度监控电路。本发明提供的半导体器件及其制备方法,能够使得温度传感器的温度变化与半导体器件结温同步,实现准确的温度监控
  • 一种半导体器件及其制备方法
  • [发明专利]光刻胶质量检测方法-CN201611008674.1在审
  • 范荣伟;陈宏璘;龙吟;倪棋梁 - 上海华力微电子有限公司
  • 2016-11-16 - 2017-04-19 - H01L21/66
  • 本发明提供一种光刻胶质量检测方法,包括提供形成有膜层结构的监控半导体衬底,所述膜层结构与当前工艺的半导体衬底的膜层结构相对应;利用所述监控半导体衬底进行光刻工艺,所述光刻工艺利用待检测的光刻胶进行;利用刻蚀工艺去除所述待待检测的光刻胶;在刻蚀工艺后,在所述监控半导体衬底上进行半导体薄膜沉积工艺,在所述监控半导体衬底上形成半导体膜层;对所述半导体膜层进行检测,基于检测结果判断光刻胶质量。
  • 光刻胶质检测方法
  • [发明专利]离子注入设备及监控方法-CN201610608697.X有效
  • 邱裕明;肖天金 - 上海华力微电子有限公司
  • 2016-07-29 - 2018-08-24 - H01J37/317
  • 本发明提供一种离子注入设备及其监控方法,包括:工艺腔体和位于工艺腔体内的承载台,所述承载台用于放置监控半导体衬底,还包括:电磁场提供单元,设置在承载台的两侧,用于在承载台两侧形成电磁场,所述电磁场用于在监控离子注入设备时过滤离子束中的二次电子;接地单元,用于在监控离子注入设备时将监控半导体衬底接地;电子计数器,与所述接地单元电连接,用于在监控离子注入设备时计算监控半导体衬底中的掺杂离子的剂量。本发明解决了利用监控半导体衬底进行高能离子注入监控时由于半导体衬底自身差异、退火工艺不稳定、测量机台不稳定等外界干扰,并且,能够检测检测半导体衬底中实际的掺杂离子的剂量。
  • 离子注入设备监控方法
  • [实用新型]一种适用于半导体机台的远程控制装置-CN202122844154.7有效
  • 耿庆栋;吴芳梅;沈光;于朋飞 - 杭州银湖冠天智能科技有限公司
  • 2021-11-18 - 2022-04-12 - G05B19/042
  • 本实用新型涉及一种适用于半导体机台的远程控制装置,包括若干台半导体机台,半导体机台的输出端通过交换机与控制装置的输入端相连,还包括有远程监控装置,远程监控装置的监控端通过交换机与半导体机台的受控端相连,控制装置和远程监控装置为独立的装置;远程监控装置包括远程处理模块、远程报警模块、远程操控模块以及远程监控模块,远程监控模块的输入端通过交换机与半导体机台的输出端相连,远程监控模块的输出端与远程处理模块的输入端相连,远程处理模块的输出端与远程报警模块的输入端相连,远程操控模块的控制端通过远程处理模块和交换机与半导体机台的受控端相连。本实用新型可以实现对设备的监控和操控,提高远程协调性。
  • 一种适用于半导体机台远程控制装置
  • [发明专利]一种用于半导体制造流程的动态监控方法及系统-CN202210143870.9有效
  • 邹明蓓;朱佰喜;薛抗美;蒋彪;蒋旭霞 - 广州志橙半导体有限公司
  • 2022-02-17 - 2023-04-07 - G06Q10/0639
  • 本发明提供了一种用于半导体制造流程的动态监控方法及系统,其方法包括:确定待制造半导体,并从制造流程数据库中调取待制造半导体的制造流程,并获取制造流程中的制造指标;按照制造指标对待制造半导体相关的历史制造数据进行类型分析,得到每个制造指标的历史数据集,并基于数据分析模型,确定对应制造指标存在的制造异常事件;确定对应异常指标在制造流程中的贯穿流程线,并基于制造异常事件确定贯穿流程线中的异常线程段,并构建异常线程段的异常监控集合;将异常监控集合以及正常监控集合,构建待制造半导体的动态监控集合,实现对待制造半导体在制造过程中的动态监控。通过异常分析,确定异常线程段,并设置监控集合,实现有效动态监控
  • 一种用于半导体制造流程动态监控方法系统
  • [实用新型]一种监控设备的温控结构和监控设备-CN201621380603.X有效
  • 陈健;张烁;谢东杰 - 浙江大华技术股份有限公司
  • 2016-12-15 - 2017-07-14 - G05D23/20
  • 本实用新型提供了一种监控设备的温控结构和监控设备,用以提高监控设备的散热效果,便于图像传感器在合适的温度下工作。一种监控设备的温控结构,监控设备包括壳体,设置在壳体内的图像传感器,监控设备的温控结构包括位于壳体内的供电单元;位于壳体内、且与供电单元电连接的半导体制冷器,半导体制冷器的第一接点处与图像传感器导热连接,半导体制冷器的第二接点处与壳体导热连接。本实用新型提供的监控设备的温控结构,通过设置半导体制冷器以及直接将半导体制冷器设置为与图像传感器导热连接,可以通过半导体制冷器直接给图像传感器制冷或加热,便于图像传感器在合适的温度下工作。
  • 一种监控设备温控结构

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