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- [发明专利]离子注入设备及监控方法-CN201610608697.X有效
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邱裕明;肖天金
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上海华力微电子有限公司
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2016-07-29
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2018-08-24
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H01J37/317
- 本发明提供一种离子注入设备及其监控方法,包括:工艺腔体和位于工艺腔体内的承载台,所述承载台用于放置监控半导体衬底,还包括:电磁场提供单元,设置在承载台的两侧,用于在承载台两侧形成电磁场,所述电磁场用于在监控离子注入设备时过滤离子束中的二次电子;接地单元,用于在监控离子注入设备时将监控半导体衬底接地;电子计数器,与所述接地单元电连接,用于在监控离子注入设备时计算监控半导体衬底中的掺杂离子的剂量。本发明解决了利用监控半导体衬底进行高能离子注入监控时由于半导体衬底自身差异、退火工艺不稳定、测量机台不稳定等外界干扰,并且,能够检测检测半导体衬底中实际的掺杂离子的剂量。
- 离子注入设备监控方法
- [实用新型]一种监控设备的温控结构和监控设备-CN201621380603.X有效
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陈健;张烁;谢东杰
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浙江大华技术股份有限公司
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2016-12-15
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2017-07-14
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G05D23/20
- 本实用新型提供了一种监控设备的温控结构和监控设备,用以提高监控设备的散热效果,便于图像传感器在合适的温度下工作。一种监控设备的温控结构,监控设备包括壳体,设置在壳体内的图像传感器,监控设备的温控结构包括位于壳体内的供电单元;位于壳体内、且与供电单元电连接的半导体制冷器,半导体制冷器的第一接点处与图像传感器导热连接,半导体制冷器的第二接点处与壳体导热连接。本实用新型提供的监控设备的温控结构,通过设置半导体制冷器以及直接将半导体制冷器设置为与图像传感器导热连接,可以通过半导体制冷器直接给图像传感器制冷或加热,便于图像传感器在合适的温度下工作。
- 一种监控设备温控结构
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