专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]带电粒子照射装置-CN202110337554.0在审
  • 佐佐井健蔵 - 住友重机械工业株式会社
  • 2021-03-30 - 2021-10-01 - G21K5/04
  • 本发明的课题在于提供一种能够缩短带电粒子照射时间的带电粒子照射装置。一种带电粒子照射装置(1),其照射带电粒子(B),所述带电粒子照射装置(1)具备:加速器(2),对带电粒子进行加速而生成带电粒子(B);照射部(3),具有能够围绕旋转轴线进行旋转的机架(5),并且照射由加速器(2)生成的带电粒子(B);及传输部(4),具有设置于照射部(3)的外部并减小由加速器(2)生成的带电粒子(B)的能量的能量衰减器(43),并且向照射部(3)传输由加速器(2)生成的带电粒子(B),传输部(4)将具有通过能量衰减器(43)而能量减小的带电粒子(B)的能量分布的该带电粒子(B)传输到照射部(3)。
  • 带电粒子束照射装置
  • [发明专利]带电粒子治疗装置-CN201710559969.6有效
  • 上口长昭 - 住友重机械工业株式会社
  • 2017-07-11 - 2022-02-18 - A61N5/10
  • 一种能够缩短带电粒子治疗所需的时间的带电粒子治疗装置。照射部(2)具备在照射带电粒子(B)的深度方向的规定的层即规定的位置扫描带电粒子(B)的扫描电磁铁(6)。并且,控制部(7)如下控制照射部(2):以第1电流值照射带电粒子(B)而进行扫描之后,并以不同于第1电流值的第2电流值照射带电粒子(B)而进行扫描。通过这种结构,照射部(2)对于剂量较低的区域能够设定第1电流值及第2电流值中较低的电流值来照射带电粒子(B)。另一方面,照射部(2)对于剂量较高的区域能够设定第1电流值及第2电流值中较高的电流值来照射带电粒子(B)。如此,对于各区域能够以与剂量相符的电流值照射带电粒子
  • 带电粒子束治疗装置
  • [发明专利]带电粒子照射装置-CN201480052289.X有效
  • 橘正则 - 住友重机械工业株式会社
  • 2014-07-30 - 2018-11-13 - A61N5/10
  • 本发明提供一种带电粒子照射装置。本发明的带电粒子照射装置具备:加速器,加速带电粒子而射出带电粒子照射部,向被照射照射带电粒子;传输线路,向照射部传输从加速器射出的带电粒子;能量调整部,设置于传输线路,并调整带电粒子的能量;多个电磁铁,设置在传输线路中比能量调整部更靠下游侧;电磁铁电源,对应于多个电磁铁的每一个而设置;及控制部,根据带电粒子的能量而控制电磁铁的参数,电磁铁电源具有存储部,其存储被照射体中的被照射带电粒子的每一层的电磁铁的参数
  • 带电粒子束照射装置
  • [发明专利]带电粒子照射控制装置及带电粒子照射方法-CN201010281816.8有效
  • 西尾祯治;立川敏树 - 国立癌症中心;住友重机械工业株式会社
  • 2010-09-14 - 2012-04-04 - A61N5/10
  • 本发明提供一种带电粒子照射控制装置及带电粒子照射方法,其目的在于谋求带电粒子照射状态/非照射状态的切换的高速化的同时,可以谋求被射出的带电粒子的稳定化。将带电粒子照射状态的加速电压设为基准加速电压,将加速电压切换为大于或小于基准加速电压的设定加速电压,从而改变带电粒子的轨道,使带电粒子(R0)碰撞到其他物体,从而使带电粒子成为非照射状态。仅通过较大或较小地切换加速电压即可成为非照射状态,所以可以谋求照射状态/非照射状态的切换的高速化。并且由于无需进行离子源(21)的电弧放电的ON/OFF控制,所以不受电弧放电上升时的不稳定性的影响,可以谋求带电粒子的稳定化。
  • 带电粒子束照射控制装置方法
  • [发明专利]曝光装置及曝光方法-CN201510673307.2有效
  • 山田章夫;菅谷慎二;黑川正树;濑山雅裕 - 英特尔公司
  • 2015-10-16 - 2018-11-09 - G03F7/20
  • 本发明组合光曝光技术及带电粒子曝光技术而形成复杂且微细的图案。本发明提供一种曝光装置及曝光方法,该曝光装置对与试样上的线图对应的位置照射带电粒子,且具备:射产生部,在线图的宽度方向上产生照射位置不同的多个带电粒子;扫描控制部,使多个带电粒子照射位置沿着线图的长度方向扫描;选择部,在线图上的长度方向的被指定的照射位置选择多个带电粒子中的至少一个带电粒子,使其应照射至所述试样;以及照射控制部,控制将所选择的至少一个带电粒子照射至试样。
  • 曝光装置方法
  • [发明专利]偏转装置-CN200910206598.9无效
  • 中山田宪昭;和气清二 - 纽富来科技股份有限公司
  • 2009-03-25 - 2010-04-07 - G03F7/20
  • 本发明提供一种偏转装置,用于带电粒子描绘装置,能够高准确度地校正因试样的带电效应导致的带电粒子位置偏移。具备:偏转器,使向载物台上的试样照射带电粒子偏转;位置偏移量分布计算构件,根据被照射带电粒子照射区域的带电量分布、以及不被照射带电粒子的非照射区域的带电量分布,计算试样上的带电粒子的位置偏移量的分布
  • 偏转装置
  • [发明专利]粒子治疗系统、粒子照射切换方法以及存储介质-CN202010013645.4有效
  • 小野大辅;伊藤友纪 - 株式会社日立制作所
  • 2020-01-07 - 2022-06-03 - A61N5/10
  • 本发明涉及粒子治疗系统、粒子治疗方法以及计算机程序。本发明能够切实地验证基于所选择的照射方式的粒子照射粒子治疗系统(100)具有:对粒子加速的带电粒子产生装置(200)、向目标照射带电粒子产生装置(200)加速的粒子照射装置(500)、控制带电粒子产生装置(200)以及照射装置(500)的控制装置(600),控制装置(600)控制带电粒子产生装置(200)以及照射装置(500),以便通过切换至少2种不同的照射方式向目标照射粒子,进而,在切换照射方式后,根据所切换的照射方式并通过带电粒子产生装置(200)以及照射装置(500)试验性地照射粒子并验证该粒子
  • 粒子束治疗系统照射切换方法以及存储介质
  • [发明专利]测量装置和观测条件的设定方法-CN201780082429.1有效
  • 荒木亮子;津野夏规;中村洋平;笹岛正弘;中村光宏;扬村寿英 - 株式会社日立高新技术
  • 2017-05-12 - 2021-07-30 - H01J37/22
  • 本发明提供一种照射带电粒子来观察试样的测量装置,其特征在于,包括:输出带电粒子粒子源;使带电粒子聚焦的透镜;对从照射带电粒子的试样发射的发射电子的信号进行检测的检测器;和基于观测条件对带电粒子的输出和发射电子的信号的检测进行控制的控制装置,作为所述观测条件,控制装置设定用于控制带电粒子照射周期的第1参数、用于控制脉冲状的带电粒子的脉冲宽度的第2参数、用于在脉冲状的带电粒子照射时间内控制发射电子的信号的检测时刻的第3参数,第3参数是基于从带电粒子照射位置发射的多个发射电子的信号各自的强度之差而决定的
  • 测量装置观测条件设定方法

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