专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]激光干涉光刻系统-CN201911050180.3有效
  • 王磊杰;朱煜;张鸣;徐继涛;李鑫;成荣;杨开明;胡金春 - 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司
  • 2019-10-31 - 2020-11-24 - G03F7/20
  • 本发明属于光学仪器仪表设备技术领域,公开了一种激光干涉光刻系统,包括激光器、第一反射镜、光栅分束器、第二反射镜、第一万向反射镜、第一透镜、第二万向反射镜、第二透镜、分光棱镜、控制模块、角度测量模块、第三透镜和基底;所述控制模块包括信号处理端、控制器和驱动器,信号处理端与角度测量模块连接,控制器分别与信号处理端和驱动器连接,驱动器分别与第一万向反射镜和第二万向反射镜连接;激光器发出光源经过该系统分成两束光聚焦在基底上曝光本发明以扫描干涉光刻方式制作的光栅尺寸不会受到曝光光斑大小的限制,可制造出大尺寸的渐变周期光栅。
  • 激光干涉光刻系统
  • [发明专利]一种激光干涉光刻系统-CN201811433077.2有效
  • 顾芯铭;刘雨哲;周延民 - 吉林大学
  • 2018-11-28 - 2021-04-09 - G03F7/20
  • 本申请属于微纳结构技术领域,特别是涉及一种激光干涉光刻系统。现有的激光干涉光刻系统分光后光强不相等,分光元件太多,调整困难,系统可靠性低。本申请提供了一种激光干涉光刻系统,包括依次排列的双束激光产生组件、若干光束整形组件和若干干涉组件;所述双束激光产生组件包括若干光束产生单元,所述光束产生单元之间设置有偏振镜和Q开关;所述光束整形组件包括依次排列的扩束准直单元和光束整形单元;所述干涉组件包括分光单元和偏振态调制单元。分光后光强相等,分光元件简洁,容易调整,系统可靠性高。
  • 一种激光干涉光刻系统
  • [发明专利]一种激光干涉光刻系统及硅透镜阵列制备方法-CN202210922160.6在审
  • 吴青晴;邹快盛 - 苏州大学
  • 2022-08-02 - 2022-10-21 - G03F7/20
  • 本申请属于光学技术领域,提出了一种激光干涉光刻系统及硅透镜阵列制备方法,利用激光干涉光刻系统,将微结构图形分批依次写入光刻胶中,再通过后续的显影、热熔、刻蚀工艺加工出大口径的硅透镜阵列;激光干涉光刻系统中利用角度微调楔角镜和相位补偿楔角镜调节全息光路中光束的相对位置改变干涉条纹的间距与占空比本申请激光干涉光刻系统可调整性强、曝光面积大,可一次曝光出大口径的硅基片,最终硅透镜的尺寸最小可达到几百纳米,单次曝光可制作的硅透镜数量多,成本大幅降低,工程实用性强。
  • 一种激光干涉光刻系统透镜阵列制备方法

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