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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种用于光阻喷嘴的清洗槽体结构及其应用-CN201410174612.2有效
发明人：汪武平;毛智彪;杨正凯 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：一种用于光阻喷嘴的清洗槽体结构及其应用，包括清洗槽壳体、防清洗液飞溅腔、喷嘴清洗腔、清洗液排出口、清洗液管路、新增清洗液管路、氮气吹扫管路和负压抽气管路；清洗液沿清洗液管路和新增清洗液管路向喷嘴清洗腔内部偏下的方向冲洗喷嘴头部，使喷嘴头部得到全面的清洗；倾斜布置的氮气吹扫管路和负压抽气管路能减少清洗液飞溅到防清洗液飞溅腔的情况，并能防止清洗液或者最终清洗液残留在喷嘴清洗腔内。本发明的槽体结构及其应用既能保证喷嘴头部的清洗效果，也能避免污染物的残留，保证光阻喷嘴喷光阻时的质量不受影响。
一种用于喷嘴清洗结构及其应用

[发明专利]IGBT模块表面残留助焊剂清洗方法-CN202111067992.6在审
发明人：杨幸运;陶少勇;陈小磊;罗凯 -专利权人：安徽瑞迪微电子有限公司
申请日： 2021-09-13 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： B23K3/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种IGBT模块表面残留助焊剂清洗方法，包括步骤：S1、提供清洗液喷淋装置；S2、在IGBT模块从清洗机的清洗液中移出后，由清洗液喷淋装置对IGBT模块进行喷淋冲刷作业。本发明的IGBT模块表面残留助焊剂清洗方法，通过设置清洗液喷淋装置，可以有效去除IGBT模块表面残留的助焊剂，减少清洗液更换的频率，便于产品制成的成本控制；冲刷后的模块表面不会有明显的助焊剂残留，转移下一道工序后能保证生产良率的提高
igbt 模块表面残留焊剂清洗方法

[发明专利]靶材的处理方法-CN201811621515.8在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;罗明浩;寿奉粮 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： C23G1/12 文献下载
摘要：一种靶材的处理方法，包括：提供靶材以及清洗液，所述清洗液为化学溶剂；将所述靶材放入所述清洗液浸泡处理。使用化学方法处理所述靶材，使所述靶材与所述清洗液发生化学反应，从而所述靶材表面的残留物会被溶解在所述清洗液中，从而达到去除所述靶材表面残留的目的，所述处理过程简单方便，减小能耗。
处理方法

[发明专利]封闭式柔性智能炮管擦洗方法和装置-CN200910096712.7有效
发明人：唐志峰;倪敬;徐正达;骆苏军 -专利权人：杭州浙大精益机电技术工程有限公司
申请日： 2009-03-12 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： F41A29/00 文献下载
摘要：包括机头部件、转接套、端盖部件、刷筒部件、清洗液发泡及喷射装置和管内摄像装置。通过管内摄像装置检测炮管内壁残留物的积聚和分布，设定控制参数；将清洗液通过发泡装置、喷嘴和刷筒部件引入到炮膛与残留物反应，通过泡沫清洗液的刷筒部件的机械运动；清洗液由空气泵将空气压入清洗液罐与清洗液混合产生；待清洗液与残留物反应后，通过刷筒部件上刷毛与炮膛内壁的反复摩擦，将残留物去除；根据清洗后管内摄像装置检测结果，自动选择重复清洗；更换刷筒部件上的毛刷盘，实现炮膛内壁的清渣、擦干、涂防锈油工作。
封闭式柔性智能炮管擦洗方法装置

[实用新型]一种封闭式柔性智能炮管擦洗装置-CN200920115416.2无效
发明人：唐志峰;倪敬;徐正达;骆苏军 -专利权人：杭州浙大精益机电技术工程有限公司
申请日： 2009-03-12 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： F41A29/00 文献下载
摘要：包括机头部件、转接套、端盖部件、刷筒部件、清洗液发泡及喷射装置和管内摄像装置。通过管内摄像装置检测炮管内壁残留物的积聚和分布，设定控制参数；将清洗液通过发泡装置、喷嘴和刷筒部件引入到炮膛与残留物反应，通过泡沫清洗液的刷筒部件的机械运动；清洗液由空气泵将空气压入清洗液罐与清洗液混合产生；待清洗液与残留物反应后，通过刷筒部件上刷毛与炮膛内壁的反复摩擦，将残留物去除；根据清洗后管内摄像装置检测结果，自动选择重复清洗；更换刷筒部件上的毛刷盘，实现炮膛内壁的清渣、擦干、涂防锈油工作。
一种封闭式柔性智能炮管擦洗装置

[发明专利]研磨系统及研磨方法-CN202110536151.9在审
发明人：闵源;徐永 -专利权人：广州粤芯半导体技术有限公司
申请日： 2021-05-17 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：所述研磨系统包括研磨装置和清洗液供给装置，所述研磨装置具有研磨垫，所述清洗液供给装置用于提供清洗研磨垫的清洗液；其中，清洗液供给装置包括加热控制单元，所述加热控制单元用于调控清洗液的温度，使得注入到研磨垫上的清洗液的温度在高于室温的设定温度范围内利用该清洗液供给装置提供的高于室温的清洗液清洗研磨垫，可以有效去除研磨垫表面的残留物，有助于提高清洁效果和研磨质量。所述研磨方法采用上述的研磨系统，在清洗前将清洗液的温度调控到高于室温的设定温度范围内，可以有效去除研磨垫表面的残留物，有助于提高清洁效果和研磨质量。
研磨系统方法

[发明专利]一种去除光阻蚀刻残留物的清洗液-CN201210451687.1有效
发明人：刘兵;彭洪修;孙广胜;颜金荔 -专利权人：安集微电子科技(上海)股份有限公司
申请日： 2012-11-12 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了一种去除光阻蚀刻残留物的清洗液及其组成。这种去除光阻蚀刻残留物的清洗液含有氟化物，有机溶剂，水，氧化剂以及螯合剂。本发明所公开的去除光阻蚀刻残留物的清洗液不含有任何无机或有机纳米或微米颗粒。该清洗液在去除晶圆上的光阻残留物同时，对于基材如金属铝，非金属二氧化硅等基本无腐蚀，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。
一种去除蚀刻残留物清洗

[实用新型]模具清洗设备-CN201220697016.9有效
发明人：滑鹏高;任富疆 -专利权人：天津联欣盈塑胶科技有限公司
申请日： 2012-12-14 - 公布日： 2013-05-22 - 主分类号： B29C33/72 文献下载
摘要：一种模具清洗设备，包括清洗液箱、清洗液出液管、清洗液回流管，净水箱、净水出水管、净水回流管和电机；清洗液箱、清洗液出液管、模具管道和清洗液回流管形成清洗液循环管道，净水箱、净水出水管和净水回流管形成净水循环管道；电机与换向阀连接，换向阀分别连接清洗液出液管和模具管道。本实用新型可有效地清理管道内残留的污垢，以提高模具的清洗效率和清洗质量。
模具清洗设备

[发明专利]一种去除光阻残留物的清洗液-CN201210480049.2在审
发明人：刘兵;彭洪修;孙广胜;颜金荔 -专利权人：安集微电子科技（上海）有限公司
申请日： 2012-11-22 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于去除光阻残留物的清洗液。该去除光阻残留物的清洗液含有季胺氢氧化物，醇胺，溶剂以及聚醚改性有机硅。该清洗液能够更为有效地去除晶圆上的光阻残留物，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。
一种去除残留物清洗

[实用新型]清洗装置-CN202320928028.6有效
发明人：南忙苍;王兴东;曹辉 -专利权人：瑞浦兰钧能源股份有限公司
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： B08B9/032 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种清洗装置，包括第一储液装置、第二储液装置和打液驱动结构。第一储液装置与负压化成管连接，内有能将电解液结晶溶解的第一清洗液；第二储液装置与第一储液装置并联连接，其内的第二清洗液与第一清洗液、电解液结晶互溶；打液驱动结构能依次与第一储液装置、第二储液装置连通，以依次驱动两种清洗液输入负压化成管内通过采用第一清洗液对负压化成管进行预清洗，然后再采用第二清洗液对负压化成管进行再次清洗，不仅可以提高清洗效果，并且第二清洗液与电解液结晶、第一清洗液相溶，还可以使第二清洗液能与负压化成管内残留的第一清洗液和电解液结晶一同排出，减少杂质残留。
清洗装置

[发明专利]一种快速清洗茶垢的清洗液-CN201410367853.9在审
发明人：许忠;许腾龙 -专利权人：芜湖野树林生物科技有限公司
申请日： 2014-07-29 - 公布日： 2014-11-05 - 主分类号： C11D7/60 文献下载
摘要：本发明公开了一种快速清洗茶垢的清洗液，其含有以下物质及重量份：苹果酸8-15％；碳酸水58-75％；碳酸钠5-10％；醋酸5-15％；维生素C1-4％；氟化钠4-8％。利用该清洗液能快速清除茶垢，将清洗液倒入杯内摇晃即可清洗干净，清洗操作简便，残留在杯内的所有成分都可食用，不用担心清洗液残留问题，健康环保。
一种快速清洗

[发明专利]一种去除残留光刻胶的方法-CN201210452177.6无效
发明人：孙庆东 -专利权人：孙庆东
申请日： 2012-11-13 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明涉及一种去除残留光刻胶的方法，其特征在于，所述方法步骤如下：配备清洗液：取浓硫酸和双氧水以1:5的比例混合；将配备出的清洗液放入自动冷却装置中，打开机械臂开关及循环水开关，使清洗液迅速降温至室温，关上开关；将待清洗的芯片放至清洗液中，浸泡5分钟；将清洗完的芯片放入烘干机内烘干。本发明能够快速的将清洗液冷却至常温，使双氧水能够保持最大的功效，保证了清洗液的纯度，从而使残留光刻胶去除的更为彻底，保证了芯片的良率。
一种去除残留光刻方法

[发明专利]超滤膜的清洗方法-CN201710591430.9有效
发明人：高新;蔡斌;周俊;李涛宏;徐辉;田黎黎 -专利权人：湖南军信环保股份有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： B01D61/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种超滤膜的清洗方法。该清洗方法主要处理无机垢包裹有机垢的超滤膜污染形态，包括以下步骤：（1）配制酸性清洗液；（2）酸洗：用酸性清洗液对超滤膜进行循环清洗，控制清洗液pH值为1.5～3，清洗温度控制在38～41℃；（3）一次冲洗，去除超滤膜内残留的酸性清洗液；（4）配制碱性清洗液；（5）碱洗：用碱性清洗液对超滤膜进行循环清洗，控制清洗液pH值为10.5～11.5，清洗温度控制在38～41℃；（6）二次冲洗，去除超滤膜内残留的碱性清洗液
超滤膜清洗碱性清洗液酸性清洗液去除循环清洗清洗液配制超滤膜处理系统残留垃圾渗滤液水流量稳定运行一次冲洗运行压力无机垢有机垢有机物碱洗酸洗冲洗截留污染保证

[发明专利]一种超滤膜的化学清洗方法-CN201710591513.8有效
发明人：高新;蔡斌;周俊;李涛宏;徐辉;田黎黎 -专利权人：湖南军信环保股份有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： B01D65/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种超滤膜的化学清洗方法。该化学清洗方法主要处理有机垢包裹无机垢的膜污染形态，包括以下步骤：（1）配制碱性清洗液；（2）碱洗：用碱性清洗液对超滤膜进行循环清洗，控制清洗液pH值为10.5～11.5，清洗温度控制在38～41℃；（3）一次冲洗，去除超滤膜内残留的碱性清洗液；（4）配制酸性清洗液；（5）酸洗：用酸性清洗液对超滤膜进行循环清洗，控制清洗液pH值为1.5～3，清洗温度控制在38～41℃；（6）二次冲洗，去除超滤膜内残留的酸性清洗液
超滤膜碱性清洗液酸性清洗液化学清洗去除循环清洗清洗液配制清洗超滤膜处理系统残留垃圾渗滤液水流量稳定运行一次冲洗运行压力膜污染无机垢有机垢有机物碱洗酸洗冲洗截留保证

[发明专利]自动分析装置-CN201980004351.0在审
发明人：盐谷圭;赤濑弘树;小西励;坂口昌昭 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： G01N35/02 文献下载
摘要：在对重复使用的反应容器内进行清洗时，虽然在用清洗针头吸引前进行粗吸，但由于粗吸后的液量与清洗针头的位置、大小的个体差异导致清洗液残留，有可能对分析结果造成影响。本发明提供一种自动分析装置，使用光来分析试料，清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的反应容器的清洗液供给喷嘴；对所提供的清洗液进行吸引的清洗液吸引喷嘴；设置于清洗液吸引喷嘴的下端的清洗针头；在用清洗针头进行吸引前预先对反应容器内的液体进行吸引的粗吸喷嘴，在粗吸后，使液体残留以使得反应容器的底面不露出。
自动分析装置

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