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[发明专利]清洗水的制备方法及清洗水-CN01141915.6有效
发明人：高桥政之;中川善一;西村清司;广川载泰 -专利权人：高桥金属股份有限公司
申请日： 2001-09-21 - 公布日： 2002-05-08 - 主分类号： C02F9/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种比已知的电解获得的碱性水具有更高防锈效果,且可获得安全性与清洗品质并存的清洗水。本发明涉及一种清洗水的制备方法,其特征为具有以下过程将原水中的硫酸根离子浓度设为0.2mmol/dm3以下、和/或氯化物离子浓度设为0.5mmol/dm3以下,以及钙离子浓度设为1.0mmol/dm3以下及镁离子浓度设为1.0mmol/dm3以下;此后,将原水中的碳酸钠浓度调整为0.1至10.0mmol/dm3以下;将原水电解而得pH值为8.0以上13.0以下,和/或获得氧化还原电位为100mV至1000mV的清洗水。
清洗制备方法

[发明专利]餐具清洗机-CN200810085893.9有效
发明人：大山真;乾浩章;贯名康之;宫内隆 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2005-04-04 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： A47L15/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种餐具清洗机，其具有：供被清洗物装入的清洗槽；储存清洗水的清洗水储存部分；使储存于所述清洗水储存部分的清洗水微粒化而飞散到所述清洗槽中的超声波振动部分；和用于使储存于所述清洗水储存部分的清洗水中在所述超声波振动部分的振动下从水面升起的清洗水回收到所述清洗水储存部分的清洗水回收部分，其中，由所述清洗水回收部分回收的清洗水被导向所述清洗水储存部分内的清洗剂装有部。
餐具清洗

[实用新型]清洗水刀-CN202223194231.X有效
发明人：杨美高;杨少刚;邓鹏辉 -专利权人：深圳市八零联合装备有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及水刀技术领域，公开了清洗水刀。清洗水刀包括：开口壳体和盖板，盖板盖设至开口壳体的开口处以形成水刀壳体，开口壳体与盖板之间能够形成多个在第一方向上间隔设置的水汽腔体、以及能够形成沿第一方向延伸的水汽出口，且每个水汽腔体均与水汽出口连通，待清洗件可移动地位于水汽出口的下方，第一方向与水刀壳体的长度方向相平行；进水管及进气管，每个水汽腔体内至少设置有一个进水管和一个进气管，进水管用于选择性地向水汽腔体内提供水，进气管用于选择性地向水汽腔体内提供气体，以能够在水汽腔体内形成用于清洗待清洗件的水汽清洗物。该清洗水刀能够根据待清洗件的尺寸调整水汽出口的水汽喷射区域，使清洗水刀的节能性较好。
清洗

[实用新型]一种擦洗砂开采循环清洗装置-CN201920277709.4有效
发明人：母宇宽 -专利权人：通辽市大林型砂有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： B08B3/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种擦洗砂开采循环清洗装置，包括清洗主体，所述清洗主体一侧设置有沉淀池，且清洗主体和沉淀池一侧开设有清洗水进口和清洗水出口，并且清洗主体和沉淀池另一侧开设有污水出口和污水进口，所述清洗主体和沉淀池之间通过清洗水进口、清洗水出口、污水出口、污水进口和水管相互连通，且清洗水进口和清洗水出口之间连接的水管中部连接有水泵，所述清洗水进口和清洗水出口分别与清洗主体和沉淀池纵向对称轴相互重合，且清洗水进口和清洗水出口分别靠近清洗主体底部侧壁和沉淀池顶部侧壁该擦洗砂开采循环清洗装置通过清洗主体一侧设置的沉淀池对清洗水进行沉淀，使得清洗水不再与擦洗砂相互接触，从而提高后续擦洗砂清洗效果。
沉淀池清洗清洗水出口清洗水进口擦洗开采循环清洗装置污水出口污水进口清洗水水管本实用新型纵向对称轴底部侧壁顶部侧壁清洗效果重合连通水泵沉淀

[实用新型]一种清洗装置及包含其的清洗设备-CN202320748418.5有效
发明人：刘云皓;李文俊;俞会根 -专利权人：北京卫蓝新能源科技有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及带材清洗设备领域，公开了一种清洗装置及包含其的清洗设备。该清洗装置包括清洗组件和挡水板，挡水板设置在清洗组件的侧面，并使得回溅的清洗水能够与挡水板接触，挡水板的底部朝向挡水板的挡水侧弯折形成兜水槽，且兜水槽的出水口伸出待清洗材料的侧面。该清洗设备包括上述清洗装置。本实用新型提供的清洗装置还包括挡水板，使用时，清洗组件提供的清洗水作用在待清洗材料上，回溅的至少部分清洗水被挡水板阻挡，并滑落至兜水槽内，再从待清洗材料的侧面流走，减少使用后的清洗水回溅到待清洗材料上，确保待清洗材料的清洗效果，同时，减少待清洗材料的带水量，便于后续除水工作顺利进行。
一种清洗装置包含设备

[发明专利]清洗水水量调整装置、清洗水水箱装置及冲水大便器-CN201410448780.6有效
发明人：篠原弘毅;谷本秀树 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2014-09-04 - 公布日： 2018-04-06 - 主分类号： E03D1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种清洗水水量调整装置，其能够消除作用于贮水部的浮力，能够使贮水部内的清洗水与贮水部外的清洗水水箱内的清洗水进行循环。本发明的清洗水水量调整装置如下，其设置于清洗水水箱装置且能够对排出到便器中的清洗水水量进行调整，清洗水水箱装置具有给水装置，供给清洗水；及排水阀装置，对连通于便器的排水流路进行开闭，其特征为，具有贮水部，配置在该清洗水水箱内且可贮存规定容量的清洗水，形成有贮水部内的清洗水与贮水部外的清洗水可流通的开口；及上浮防止单元，从贮水部延伸，在给水装置向清洗水水箱内进行给水时，对贮水部施加与清洗水水箱内的清洗水对贮水部产生的浮力的朝向呈相反方向的力
清洗水量调整装置水箱冲水大便

[发明专利]清洗装置以及清洗方法-CN201110104046.4有效
发明人：神部和宏;岩丸洋辅 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2011-04-22 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本发明提供一种清洗装置，其具有：清洗槽，其用于浸渍表面附着有油分的被清洗物；清洗水供给装置，其从所述清洗槽的下侧向所述清洗槽内部供给清洗水；回收装置，其上端的开口部设置在比由所述清洗水供给装置向所述清洗槽供给的清洗水的液面低的位置处，并且，从所述开口部对因所述清洗水供给装置向所述清洗槽供给的清洗水而溢出的清洗水以及漂浮在所述清洗水的液面上的油分进行回收；以及接触部件，其配置为与所述清洗水的液面的边缘部接触，与所述清洗水的液面的边缘部接触的部分为玻璃
清洗装置以及方法

[发明专利]光伏电池制造用清洗机-CN201710471245.6在审
发明人：叶春杰;王新华;张昕宇;金浩;张何;何文新;唐昌 -专利权人：浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2017-10-27 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种光伏电池制造用清洗机，包括用于采用药液清洗待清洗件的药液清洗器；用于采用水清洗待清洗件的水清洗器；其中，药液清洗器具有药液清洗槽，药液清洗槽设有第一排放口和第一补液口；水清洗器具有水清洗槽和位于水清洗槽内的喷淋部件，水清洗槽设有第二排放口和第二补液口。本发明公开的光伏电池制造用清洗机，能够在药液清洗槽内完成药液清洗、在水清洗槽内完成水清洗，则药液清洗槽内的药液能够进行多次清洗，水清洗槽内的水能够进行多次清洗，较现有技术采用同一个清洗槽进行药液清洗和水清洗相比，有效提高了药液和水的利用率，降低了药液成本和水成本，从而降低了清洗成本。
电池制造清洗

[发明专利]膜分离活性污泥系统和膜清洗装置-CN201980096724.1在审
发明人：林佳史;今村英二;佐藤祐树;野田清治 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2019-05-27 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：膜分离活性污泥系统从包含污浊物质的被处理水将污浊物质用分离膜在过滤方向上过滤以取得处理水。膜分离活性污泥系统具备清洗分离膜的膜清洗装置。膜清洗装置具备：将清洗分离膜的第1清洗水在与过滤方向相反的方向上向分离膜供给的第1清洗水供给部；将氧化力与第1清洗水不同、清洗分离膜的第2清洗水在相反方向上向分离膜供给的第2清洗水供给部；接收第1清洗水或第2清洗水的选择的接收部；和进行在接收部接收的选择表示第1清洗水的情况下驱动第1清洗水供给部、在接收部接收的选择表示第2清洗水的情况下驱动第2清洗水供给部的控制的控制部。
分离活性污泥系统清洗装置

[发明专利]清洗水水量调整装置、清洗水水箱装置及冲水大便器-CN201410443835.4有效
发明人：篠原弘毅;谷本秀树;陈晶;大神隆;白石成辉 -专利权人： TOTO株式会社
申请日： 2014-09-02 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： E03D1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种清洗水水量调整装置，其能够抑制作用于贮水部的浮力产生，能够使贮水部内的清洗水与贮水部外的清洗水水箱内的清洗水进行循环。本发明的清洗水水量调整装置如下，其设置于清洗水水箱装置且能够对排出到便器中的清洗水水量进行调整，清洗水水箱装置具有给水装置，供给清洗水；及排水阀装置，对连通于便器的排水流路进行开闭，其特征为，具有贮水部，配置在该清洗水水箱内且可贮存规定容量的清洗水，形成有贮水部内的清洗水与贮水部外的清洗水可流通的开口；及开闭阀，在开始清洗之前的待机状态下开放开口，在开始清洗之后的清洗水水箱内的水位下降的状态下封闭开口或减小开口的开口面积
清洗水量调整装置水箱冲水大便

[发明专利]晶片清洗水供给装置-CN202180058848.8在审
发明人：颜畅子 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2021-03-18 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的晶片清洗水供给装置(1)具有：由从供给路(5)供给的超纯水(W)制备晶片清洗水(W1)的晶片清洗水制造部(2)；该制备的晶片清洗水的贮留槽(3)；以及将贮留在该贮留槽(3)中的晶片清洗水(W1)向清洗机(4)的清洗喷嘴(4A)供给的晶片清洗水供给配管(6)。该晶片清洗水供给配管(6)在清洗机(4)侧距清洗喷嘴(4A)的前端距离(t)处分支，与回送配管(7)连接，能将清洗机(4)中剩余的晶片清洗水(W1)回送至贮留槽(3)。这样的晶片清洗水供给装置能削减剩余的晶片清洗水。
晶片清洗供给装置

[发明专利]一种铝合金红冲毛坯及冷挤压毛坯化学镀镍工艺方法-CN201010238682.1无效
发明人：方本利 -专利权人：凤凰光学股份有限公司
申请日： 2010-07-21 - 公布日： 2012-02-01 - 主分类号： C23C18/32 文献下载
摘要：该工序在设定的温度、时间、pH值等操作条件控制下，它包括以下步骤：化学去油→超声波去油→流动水清洗→硝酸酸洗→流动水清洗→超声波去油→流动水清洗→碱洗→流动水清洗→除渍→流动水清洗→微蚀→流动水清洗→除渍→流动水清洗→第一次浸锌→流动水清洗→退锌→流动水清洗→第二次浸锌→流动水清洗→纯水清洗→化学镀镍→流动水清洗→环保钝化→流动水清洗→热纯水清洗→下挂具→抹水→干燥。
一种铝合金毛坯挤压化学工艺方法

[实用新型]一种用于石墨极板的清洗装置-CN201921232187.2有效
发明人：赵莉添;李振新;李雨龙;郭树杰;谷军 -专利权人：河南豫氢动力有限公司
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于石墨极板的清洗装置，包括热风烘干槽、去离子水喷淋清洗槽、去离子水浸泡清洗槽、自来水浸泡清洗槽、自来水喷淋清洗槽和超声波发生器，自来水喷淋清洗槽的左侧设置有自来水浸泡清洗槽，自来水浸泡清洗槽的左侧设置有去离子水浸泡清洗槽，去离子水浸泡清洗槽和自来水浸泡清洗槽下部的内壁上均安装有超声波发生器，去离子水浸泡清洗槽的左侧设置有去离子水喷淋清洗槽，去离子水喷淋清洗槽的左侧设置有热风烘干槽。本实用新型解决了现有清洗设备不能很好的清理所残留下来的石墨粉，造成清洗不干净，残留的石墨粉会二次吸附到石墨板上造成二次污染，导致电导率高的问题。
一种用于石墨极板清洗装置

[实用新型]一种多圆盘浓缩机连续摆动清洗装置-CN202020890358.7有效
发明人：刘建坡;刘建涛;任福军 -专利权人：郑州磊展科技造纸机械有限公司
申请日： 2020-05-25 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： B01D33/19 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多圆盘浓缩机连续摆动清洗装置，包括与多圆盘浓缩机的盘片分别对应布置的清洗水支管，清洗水支管上排布设有指向盘片的清洗水喷嘴；清洗水支管向上与水平布置的清洗水主管连接，清洗水主管穿设在多圆盘浓缩机的上罩处并与其转动配合，清洗水主管的一端连接有驱动其往复转动的驱动机构，清洗水主管往复转动带动清洗水支管往复摆动。本实用新型中清洗水主管在驱动机构的作用下往复转动，清洗水主管往复转动带动清洗水支管在一定范围内不间断来回摆动，扩大了清洗范围，且清洗干净，使盘片扇形板恢复过滤能力。
一种圆盘浓缩连续摆动清洗装置

[发明专利]卫生清洗装置-CN202180004544.3在审
发明人：里井乔行;川滨悠 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2021-05-11 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： E03D9/08 文献下载
摘要：卫生清洗装置具备：清洗喷嘴，其喷出清洗水来清洗人体；清洗水流路，其设于供给源与清洗喷嘴之间，使来自供给源的清洗水向清洗喷嘴流通；以及流量切换机构，其向清洗水流路供给来自供给源的清洗水。该卫生清洗装置还具备：流量传感器，其用于检测清洗水流路的清洗水的流量；换热器，其设于比清洗喷嘴靠上游侧的位置，用于加热清洗水；以及控制部，其用于控制调流阀、流量传感器以及换热器。控制部输入流量传感器所检测的清洗水流路的清洗水的流量，预测清洗水的流量变化，从而控制向换热器的供给电力。由此，能够提供一种能够将清洗水的温度维持为更接近目标温度的卫生清洗装置。
卫生清洗装置

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