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[发明专利]一种膜硫化物污染专用清洗剂-CN201910853755.9在审
发明人：蒋璨 -专利权人：深圳市长隆科技有限公司
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： B01D65/06 文献下载
摘要：本发明有关涉及可去除膜硫垢的清洗剂领域，一种膜硫化物污染专用清洗剂，由如下体积份数的组分构成：主成分10份～60份；次成分20份～50份；助溶剂5份～8份；相稳定剂5份～50份；溶剂10份～80份；其中主成分为氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或其组合；次成分为二甲基二硫醚，脂肪醇聚氧乙烯醚，TX‑10中的一种或其组合。本清洗剂无刺激性、对不锈钢和碳钢腐蚀性小，溶解膜硫垢后清洗剂相体系稳定。同时经过除硫的清洗剂通过冷却降温等简单操作手段，可使体系中的硫形成结晶硫析出清洗剂体系，该清洗剂可继续循环使用，降低了清洗成本。另该清洗剂的制备简单，无危险反应，环境影响极小，使用便利，便于现场操作。
清洗剂脂肪醇聚氧乙烯醚二甲基二硫醚硫化物污染清洗剂领域专用清洗剂环境影响冷却降温氢氧化钾氢氧化钠体系稳定现场操作析出结晶硫可去除稳定剂无危险助溶剂溶剂不锈钢碳钢制备清洗溶解便利

[发明专利]计算机硬盘基片抛光后用的清洗剂组合物-CN201010613494.2有效
发明人：雷红 -专利权人：上海大学
申请日： 2010-12-30 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： C23G1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种计算机硬盘抛光后用的清洗剂组合物，其特征在于该清洗剂含有ZETA电位调节剂；该清洗剂组合物具有以下的组成成分及其重量百分含量：表面活性剂5～15%，ZETA电位调节剂2～8%，缓蚀剂0.2～1.5%，碱性氢氧化钠或氨水0.2～2%，余量为去离子水；本发明的清洗液组合物适合用作计算机硬盘基片化学机械抛光后表面的超精密清洗液；可提高基片的表面平整性和清洁度。
计算机硬盘抛光洗剂组合

[发明专利]一种清洗设备和清洗方法-CN201811555325.0在审
发明人：魏智鹏;史翠芳;冯兵昌;唐芳华;郑宏民 -专利权人：科大科技（广州）有限公司
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： G02C13/00 文献下载
摘要：本发明提供一种清洗设备，在节约资源的情况下对待洗物如眼镜进行清洁。本发明一种清洗设备的技术方案包括：清洗箱、清洗剂暂存箱和清洗剂箱；清洗剂箱用于放置清洗剂，清洗剂箱与清洗剂暂存箱之间设有第一流路，清洗剂通过第一流路由清洗剂箱流入清洗剂暂存箱；清洗剂暂存箱上设有进水口一，用于进水稀释清洗剂；清洗剂暂存箱与清洗箱通过第五流路和第七流路构成循环系统，稀释后的清洗剂通过第五流路进入清洗箱清洁待洗物后，再通过第七流路回流至清洗剂暂存箱。本发明还提供一种眼镜清洗方法。
清洗剂暂存箱清洗剂箱流路清洗设备清洗箱第一流路稀释节约资源循环系统眼镜清洗清洁待洗物进水口进水洗物清洗眼镜

[发明专利]模具清洗剂组合物及模具清洗材料、以及使用其的模具清洁方法-CN201010233007.X有效
发明人：高岛浩一;藤卷要;冈让二 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2010-07-16 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： C11D7/06 文献下载
摘要：本发明涉及模具清洗剂组合物，其为使用成型材料进行反复成型的加热成型用模具的清洗剂组合物，其中含有：作为母材的合成橡胶和/或合成树脂，碱金属盐和/或碱金属氢氧化物，和水和/或有机溶剂。
模具洗剂组合清洗材料以及使用清洁方法

[发明专利]毛发清洗剂组合物-CN200880106186.1有效
发明人：横幕敦司;柏井利之;细川稔;格贝尔尼克·斯蒂芬妮·E -专利权人：狮王株式会社
申请日： 2008-06-30 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： A61K8/891 文献下载
摘要：本发明提供一种毛发清洗剂组合物，其含有在25℃中的粘度为500万mm2/s以上的二甲基聚硅氧烷，在毛发清洗剂组合物中该二甲基聚硅氧烷的分散稳定性优异。
毛发洗剂组合

[发明专利]光催化亲水性膜形成前表面的预处理方法及该方法所用的清洗剂和底漆涂料组合物-CN98805787.5无效
发明人：菅野充诚;早川信;柴户雅博;山本政宏;町田光义 -专利权人：东陶机器株式会社
申请日： 1998-06-04 - 公布日： 2000-07-05 - 主分类号： C11D3/14 文献下载
摘要：本发明公开了得到满意的光催化亲水性膜的方法,包括在形成光催化亲水性膜之前处理基材表面的方法,以及形成光催化亲水性膜的方法,及用于该方法中使用的清洗剂和底漆涂料组合物。该方法包括用指定的清洗剂清洗基材的表面,涂敷光催化亲水性涂料液,然后固化,或者用指定的清洗剂清洗基材的表面,在该基材表面涂敷指定的底漆涂料组合物,形成底涂层,在该底涂层上涂敷光催化亲水性涂料液,然后固化作为清洗剂包括选自表面活性剂,研磨剂,酸,碱中的至少一种物质;作为形成底涂层的底漆涂料组合物,至少包括无机氧化物粒子、硅氧烷或硅氧烷前体和溶剂。
光催化亲水性形成表面预处理方法所用洗剂底漆涂料组合

[发明专利]清洗方法-CN202080045592.2在审
发明人：山田晃平 -专利权人：花王株式会社
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明在一个方式中提供一种能够降低对基板的影响，且树脂掩膜去除性优异的清洗方法。本发明在一个方式中涉及一种清洗方法，其包含使用清洗剂组合物从附着有树脂掩膜的被清洗物剥离树脂掩膜的工序，上述清洗剂组合物含有碱剂(成分A)、有机溶剂(成分B)、螯合剂(成分C)及水(成分D)，成分B是选自二醇醚及芳香族酮中的至少一种溶剂，成分C是具有2个以上的选自羧基及膦酸基中的至少一种酸基的化合物，上述清洗剂组合物在使用时的成分B的含量为1质量％以上且12质量％以下，上述清洗剂组合物在使用时的成分D的含量为65质量％以上且95质量％以下，被清洗物经过了进行如下处理的工序，该处理为使用了树脂掩膜的焊接及镀覆处理中的至少一种处理。
清洗方法

[发明专利]发动机机油清洗剂组合物和清洗发动机的方法-CN201210022146.7有效
发明人：霍鑫;郑弘哲;史志宇;陈新忠 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2012-01-20 - 公布日： 2013-07-24 - 主分类号： C23G5/036 文献下载
摘要：本发明涉及发动机机油清洗剂组合物，以及使用该清洗剂组合物清洗发动机的方法。本发明的发动机机油清洗剂组合物包含10-100重量％的油溶性的聚环氧丁烷和聚环氧丙烷的嵌段共聚物和0-90重量％的选自聚醚胺和烷基二苯胺中的至少一种物质，其中聚环氧丁烷和聚环氧丙烷嵌段共聚物的重均分子量为
发动机机油洗剂组合清洗方法

[发明专利]一种光刻胶清洗剂组合物-CN200910247662.8无效
发明人：王淑敏;肖正龙;俞昌 -专利权人：安集微电子(上海)有限公司
申请日： 2009-12-30 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物。这种光刻胶清洗剂组合物包含季铵氢氧化物，水，烷基二醇芳基醚，二甲基亚砜，缓蚀剂以及表面活性剂。这种光刻胶清洗剂组合物可以除去金属、金属合金或电介质基材上的厚度为20μm以上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料的腐蚀性较低，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景
一种光刻洗剂组合

[发明专利]一种光刻胶清洗剂组合物-CN200910247659.6无效
发明人：王淑敏;俞昌;肖正龙 -专利权人：安集微电子(上海)有限公司
申请日： 2009-12-30 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物。这种光刻胶清洗剂组合物包含季铵氢氧化物，水，烷基二醇芳基醚，二甲基亚砜，缓蚀剂以及表面活性剂。这种光刻胶清洗剂组合物可以除去金属、金属合金或电介质基材上的厚度为20μm以上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料的腐蚀性较低，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景
一种光刻洗剂组合

[发明专利]加油机清洗组合物及加油机清洗剂-CN201811532209.7在审
发明人：申达;程小蓉;刘祥海 -专利权人：广东好顺欧迪斯科技股份有限公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： C11D1/66 文献下载
摘要：一种加油机清洗组合物及加油机清洗剂，涉及清洗剂领域。加油机清洗组合物，按质量百分比计，包括：溶剂油88‑95％、萜烯1‑5％、非离子表面活性剂3‑6％，以及成膜剂0.2‑1％。加油机清洗组合物及加油机清洗剂，挥发性好，不易燃，除油污黄斑快、除黏胶快，对加油机外壳油漆无腐蚀、具有一定防锈功能，且安全环保。
加油机清洗组合物溶剂油清洗剂非离子表面活性剂清洗剂领域质量百分比安全环保防锈功能挥发性黄斑成膜剂除油污无腐蚀萜烯黏胶油漆

[发明专利]一种光刻胶清洗剂组合物-CN200810203714.7无效
发明人：史永涛;彭洪修;曹惠英 -专利权人：安集微电子(上海)有限公司
申请日： 2008-11-28 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物。这种光刻胶清洗剂组合物包含季铵氢氧化物、水、烷基二醇碳原子数目为3～18的烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜和至少一种选自柠檬酸、柠檬酸酯和柠檬酸盐的缓蚀剂。这种光刻胶清洗剂组合物可进一步包含极性有机共溶剂、表面活性剂和/或其它缓蚀剂。这种光刻胶清洗剂组合物可以除去金属、金属合金或电介质基材上的厚度为20μm以上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料的腐蚀性较低，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景
一种光刻洗剂组合

[发明专利]一种光刻胶清洗剂组合物-CN200810203715.1无效
发明人：史永涛;彭洪修;曹惠英 -专利权人：安集微电子(上海)有限公司
申请日： 2008-11-28 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物。这种光刻胶清洗剂组合物包含季铵氢氧化物、水、烷基二醇碳原子数目为3～18的烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜和至少一种选自硼酸、硼酸盐和硼酸酯的缓蚀剂。这种光刻胶清洗剂组合物可进一步包含极性有机共溶剂、表面活性剂和/或其它缓蚀剂。这种光刻胶清洗剂组合物可以除去金属、金属合金或电介质等基材上的厚度为20μm以上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料的腐蚀性较低，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景
一种光刻洗剂组合

[发明专利]清洗剂组合物和成型原料-CN201880031659.X有效
发明人：斋藤勉;加藤泉;阪野元 -专利权人：世纪株式会社
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： B29C33/72 文献下载
摘要：本发明提供一种能够有效率地进行热流道方式的模具的内部的成型原料的置换的清洗剂组合物。清洗剂组合物含有：热塑性树脂100重量份、选自甘油脂肪酸酯、聚甘油脂肪酸酯和山梨糖醇酐脂肪酸酯中的至少一种脂肪酸酯1～20重量份、以及脂肪酸和/或羟基脂肪酸的金属盐1～15重量份。清洗剂组合物用于清洗热流道方式的模具(1)的内部的树脂流路(F)。
洗剂组合成型原料

[发明专利]清洗剂组合物和成型原料-CN201780090754.2有效
发明人：斋藤勉;上原幸一;阪野元 -专利权人：世纪株式会社
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： B29C45/27 文献下载
摘要：本发明提供一种能够有效率地进行热流道方式的模具的内部的成型原料的置换的清洗剂组合物。清洗剂组合物含有：热塑性树脂100重量份、选自甘油脂肪酸酯、聚甘油脂肪酸酯和山梨糖醇酐脂肪酸酯中的至少一种脂肪酸酯1～20重量份、以及脂肪酸和/或羟基脂肪酸的金属盐1～15重量份。清洗剂组合物用于清洗热流道方式的模具(1)的内部的树脂流路(F)。
洗剂组合成型原料