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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]髓腔清洁装置和髓腔清洁系统-CN201610792948.4有效
发明人：陈绅豪;孟德松 -专利权人：北京爱康宜诚医疗器材有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： A61B17/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种髓腔清洁装置和髓腔清洁系统，其中，髓腔清洁装置用于对股骨的髓腔进行清洁，髓腔清洁装置包括：支撑杆；清扫部，清扫部可旋转地设置在支撑杆的轴向的一端以对髓腔的内壁进行清扫，清扫部具有用于收纳清扫掉落的骨杂质的收纳空间本发明解决了现有技术中进行完髓腔进行扩大作业后，髓腔的内壁附着骨杂质和髓腔的内壁不平滑的问题。
清洁装置系统

[实用新型]髓腔清洁装置和髓腔清洁系统-CN201621026400.0有效
发明人：陈绅豪;孟德松 -专利权人：北京爱康宜诚医疗器材有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： A61B17/22 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种髓腔清洁装置和髓腔清洁系统，其中，髓腔清洁装置用于对股骨的髓腔进行清洁，髓腔清洁装置包括支撑杆；清扫部，清扫部可旋转地设置在支撑杆的轴向的一端以对髓腔的内壁进行清扫，清扫部具有用于收纳清扫掉落的骨杂质的收纳空间本实用新型解决了现有技术中进行完髓腔进行扩大作业后，髓腔的内壁附着骨杂质和髓腔的内壁不平滑的问题。
清洁装置系统

[发明专利]反应腔清洁方法-CN202111543131.0在审
发明人：陈林;吴长明;冯大贵;王玉新;余鹏;樊士文 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2021-12-16 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本申请涉及半导体集成电路制造技术领域，具体涉及一种反应腔清洁方法。所述反应腔用于对各批次晶圆进行处理工艺，一批次晶圆中包括多组晶圆，每组晶圆中包括多片晶圆；所述反应腔对同一批次晶圆中各片晶圆的处理工艺相同，所述反应腔清洁方法包括：一批次晶圆进行所述处理工艺前，对所述反应腔进行聚合物预处理工艺，清除在前批次晶圆处理工艺结束后积累在所述反应腔中的聚合物；对一组晶圆中的各片晶圆进行所述处理工艺前，清除前片晶圆处理工艺结束后积累在所述反应腔中的聚合物；一组晶圆中的所有晶圆完成所述处理工艺后，清除前组所有晶圆处理工艺结束后积累在所述反应腔中的聚合物，并抽离掉落在所述反应腔中的聚合物。
反应清洁方法

[发明专利]反应腔清洁方法-CN202211175477.4在审
发明人：潘瑜;王玉新;丁佳;欧少敏;陈志远 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2022-09-26 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔清洁方法，所述方法包括：提供一反应腔，所述反应腔用于实现刻蚀工艺，且所述反应腔的腔壁表面形成有保护层；在对一片晶圆进行刻蚀工艺之前，采用第一清洁工艺去除前片晶圆刻蚀工艺结束后于所述保护层表面形成的第一聚合物，并采用第二清洁工艺去除所述保护层。通过本发明解决以现有的清洁方法无法将形成有较多聚合物的反应腔清洁干净的问题。
反应清洁方法

[发明专利]腔室内清洁方法-CN201010264380.1有效
发明人：本田昌伸;花冈秀敏;平野太一;三村高范;岩田学;冈城武敏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-08-20 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种高效率地去除堆积在ESC的外周部的以CF为主要成分且含有Si和Al的肩部堆积物的腔室内清洁方法。
室内清洁方法

[发明专利]腔室清洁系统-CN201710332832.7有效
发明人：韩奎龙;刘大日;姜奉锡;金明珍 -专利权人： STI有限公司
申请日： 2017-05-12 - 公布日： 2019-12-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了一种包括腔室和管的腔室清洁系统，所述管与腔室的主体的顶表面的内侧与主体的侧表面相遇的位置相邻安装，其中，所述管具有在所述管的长度方向上按照预定间隔形成在所述管的外周表面的面向顶表面和侧表面的位置处的多个喷孔
清洁系统

[实用新型]针腔清洁器-CN201120254692.4有效
发明人：龙玉芹;申志华;冯秀娟 -专利权人：龙玉芹;申志华;冯秀娟
申请日： 2011-07-19 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： B08B9/00 文献下载
摘要：一种针腔清洁器，包括清洁牵引端，清洁牵引端上部设置有清洁刀片，所述清洁刀片是螺旋设置的带状刀片，刀片的刀刃朝外。使用时，将本实用新型的牵引端穿过针腔后，牵动牵引端使螺旋状清洁刀片不断在针腔内壁上旋转并穿过针腔以达到去除针腔内壁附着物的功效。可以弥补目前洗涤方法的不足，能够有效地清除针腔内壁上附着的污物或干涸物。本实用新型结构简单，使用方便，可以根据不同针腔或管腔，螺旋状清洁刀片的最大外径可以设置成不同规格。
清洁

[实用新型]工艺腔清洁装置-CN202320982876.5有效
发明人：郭猛猛;张欣;王恒 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种工艺腔清洁装置，包括气柜、等离子发生器及至少一个过滤器，所述气柜的出气口通过一供气管道与所述等离子发生器的进气口连通，所述等离子发生器的出气口与所述工艺腔连通，所述气柜用于供应电离气体通过在所述气柜与所述等离子发生器之间的供气管道上增设过滤器，能够有效避免进入等离子发生器的电离气体受到污染，进而避免所述等离子发生器后端的工艺腔受到污染，从而避免对晶圆造成缺陷。
工艺清洁装置

[发明专利]一种反应腔用清洁装置及反应腔清洁方法-CN202210872847.3在审
发明人：张强 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： B08B9/087 文献下载
摘要：本公开提供一种反应腔用清洁装置及反应腔清洁方法，反应腔用清洁装置包括封盖、清洁部件和控制部，封盖用于将反应腔的开口封闭；清洁部件安装于封盖上，清洁部件包括驱动机构以及与驱动机构相连的清洁部，清洁部位于封盖的一侧，驱动机构用于驱动清洁部运动，以在封盖将开口封闭时，使得清洁部沿反应腔的内壁运动。本公开中，通过在封盖上设置清洁部件，清洁组件的驱动机构能够带动清洁部沿反应腔的内壁运动，以及设置能够控制驱动机构运动作的控制部，实现了通过封盖将反应腔的开口封住的情况下对反应腔中内壁上的沉积物进行清理，提高了清洁速度，还避免了反应腔中的有害气体与颗粒物进入外部环境。
一种反应清洁装置方法

[发明专利]反应腔室清洁装置-CN201810196477.X在审
发明人：董超;程保龙 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-03-09 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： B08B9/093 文献下载
摘要：本发明提供一种反应腔室清洁装置，包括移动框架组件、抽吸组件、过滤组件、吹送组件以及控制组件，通过移动框架组件以及安装在移动框架组件上的抽吸组件、过滤组件、吹送组件以及控制组件，可以实现机械自动化清洁，特别是上吸下吹的清洁，可以高效地清除反应腔室死角区域的颗粒，极大地提高了清洁效率，保证反应腔室内的清洁环境；并且，不需要反应腔室内的温度降到人员可以随意出入的程度，就可以进行反应腔室的机械自动化清洁，从而避免人工清洁方式下降温时间较长的问题
反应腔室移动框架机械自动化抽吸组件过滤组件控制组件清洁装置反应腔吹送清洁室内清洁方式清洁环境清洁效率死角区域稼动率温度降下吹保证

[发明专利]工艺腔的清洁方法-CN202211132885.1在审
发明人：王骏杰;吴智勇 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-09-16 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： B03C3/80 文献下载
摘要：本发明提供了一种工艺腔的清洁方法，对晶圆进行刻蚀工艺后，贯穿静电吸盘的顶针将放置于静电吸盘上的晶圆向上顶起，以将晶圆与静电吸盘分离；在所述顶针向上顶起晶圆的过程中，通过贯穿所述静电吸盘的背氦出气孔向静电吸盘的表面通入清洁气体本发明通过向静电吸盘上的背氦出气孔通入清洁气体，减少静电吸盘上的刻蚀生成物堆积，避免静电吸盘上的背氦出气孔堵塞，从而避免静电吸盘在刻蚀工艺中温度不均，进而提高产品良率。本发明还在将晶圆移出工艺腔之后对工艺腔依次进行了第一清洁工艺和第二清洁工艺，大幅减少了工艺腔中残留的刻蚀生成物，避免刻蚀生成物在下一次刻蚀工艺中污染晶圆。
工艺清洁方法

[发明专利]刻蚀腔的清洁方法-CN202310175438.2在审
发明人：王瑞环;余鹏;祝建;陈垚;汪泽群;陆小豪 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种刻蚀腔的清洁方法，提供刻蚀机台以及包括多个晶圆的晶圆组，选取出其中的N个晶圆，晶圆上均形成有金属互连结构，刻蚀机台中的刻蚀腔包括静电卡盘，静电卡盘上具有多个气孔；依次固定第一至第N‑1个晶圆至静电卡盘上进行刻蚀，在两晶圆刻蚀之间的时间段，在刻蚀腔通入第一清洁气体，利用第一清洁气体电离形成第一等离子体清洁刻蚀腔；移动第N个晶圆至静电卡盘上进行刻蚀，之后在刻蚀腔中通入第第一清洁气体，利用第一清洁气体电离形成第一等离子体清洁刻蚀腔本发明去无晶圆自动干蚀刻清洁中对静电卡盘造成损伤的气体，增加覆盖晶圆的清洁方法，有效清洁刻蚀腔中蚀刻副产物的同时，起到保护静电卡盘的作用。
刻蚀清洁方法

[发明专利]窗户内腔清洁装置-CN202010988533.0有效
发明人：陈金华;谢文进;唐茂川;段超凡;路立地;郑植 -专利权人：重庆大学
申请日： 2020-02-14 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： E06B7/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种窗户内腔清洁装置，其特征在于，窗户内腔清洁装置整体呈竖向的长条形且长度大于窗户玻璃高度，窗户内腔清洁装置具有一个位于前侧的前侧清洁面和一个位于后侧的后侧清洁面，前侧清洁面和后侧清洁面采用柔性的清洁材料得到且高度和窗户玻璃高度一致，前侧清洁面和后侧清洁面被压缩至极限位置时二者宽度小于双层玻璃之间通风内腔宽度，前侧清洁面上下两端各设置有一个螺纹孔。本发明能够方便实现对通风用的双层玻璃的通风内腔进行清洗，以维持玻璃透明度，并具有结构简单，清洗方便快捷高效可靠等优点。
窗户清洁装置

[发明专利]沉积腔室清洁方法-CN202210874547.9有效
发明人：张亚梅;李培培;周伟杰;苏欣;费腾 -专利权人：拓荆科技(北京)有限公司
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种沉积腔室清洁方法，涉及半导体技术领域，沉积腔室包括腔体和清洁组件；所述清洁组件包括第一通道，所述第一通道的一端与所述腔体的底部连通，所述第一通道的另一端用于与等离子体连通；所述第一通道上设有第一阀件在需要清洁腔体的底部时，开启第一阀件，等离子体通过腔体的底部进入腔体内部，使等离子体在腔体的底部的密度较高且能量较高，以较好地清洁腔体的底部，提高腔体的底部清洁效果。
沉积清洁方法

[实用新型]多腔清洁吹气球-CN201220043143.7有效
发明人：刘少勇 -专利权人：刘少勇
申请日： 2012-02-10 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： B08B5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种多腔清洁吹气球，包括由依容积从大到小顺序串联的多个相通的腔体组成，在最大的腔体的端部设置进气阀门，在最小的腔体的端部设置出气杆，或者，由并列设置的多个不相通的腔体组成，各个腔体分别包括独立的进气阀门及独立的子出气杆，各个子出气杆集中并排设置，形成整个多腔清洁吹气球的出气杆。本实用新型由于气体与腔壁接触面积增大，气流受到腔壁的反作用力更大，吹起和吸气速度加快，气体运动时形成加速度，气压增大；另一方面，使用相同的力，可使多个腔体内的空气受到挤压，几个出气口的高压高速的气流形成具有合力的气流集束，从而增强清洁效率
清洁气球

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