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[发明专利]法拉第杯-CN201010194033.6无效
发明人：胡晓斌;任建凯;明晓芳 -专利权人：江苏天瑞仪器股份有限公司
申请日： 2010-06-08 - 公布日： 2011-12-14 - 主分类号： H01J49/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种法拉第杯，其包括一离子收集杯，所述离子收集杯包括一开口端、一封口端和一杯身，所述杯身外包裹有一个绝缘罩，所述开口端处设有一前屏蔽罩，所述封口端处设有一后屏蔽罩，所述前屏蔽罩与开口端之间加设有一前绝缘挡板本发明的法拉第杯在离子收集杯外增加了金属屏蔽罩结构，可以屏蔽掉真空腔体内部散射的离子造成的干扰，因此可以准确有效的收集目标离子数。
法拉第

[实用新型]法拉第杯-CN201020218105.1有效
发明人：胡晓斌;任建凯;明晓芳 -专利权人：江苏天瑞仪器股份有限公司
申请日： 2010-06-08 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： H01J49/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种法拉第杯，其包括一离子收集杯，所述离子收集杯包括一开口端、一封口端和一杯身，所述杯身外包裹有一个绝缘罩，所述开口端处设有一前屏蔽罩，所述封口端处设有一后屏蔽罩，所述前屏蔽罩与开口端之间加设有一前绝缘挡板本实用新型的法拉第杯在离子收集杯外增加了金属屏蔽罩结构，可以屏蔽掉真空腔体内部散射的离子造成的干扰，因此可以准确有效的收集目标离子数。
法拉第

[实用新型]法拉第杯-CN201120456944.1有效
发明人：庄锦贤;张元河;蔡济全;陈平阳;施介文;彭圣修 -专利权人：力晶科技股份有限公司
申请日： 2011-11-17 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：本实用新型公开一种法拉第杯，其包括框体及石墨。框体具有容置空间。石墨可拆换地设置于容置空间中。上述法拉第杯可快速地且局部地更换部件。
法拉第

[发明专利]一种测量束流的法拉第装置-CN201310303660.2有效
发明人：庞云玲 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2013-07-18 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明公开了一种束流的法拉第测量装置，包括：密封插座(1)、法拉第杯安装板(2)、法拉第收集框(3)、石墨挡板(4)、导磁板(5)、微型法拉第杯(6)，所述微型法拉第杯(6)安装于法拉第杯安装板(2)上，所述法拉第杯安装板(2)通过所述法拉第收集框(3)的连接固定于离子注入机上，所述石墨挡板(4)安装于所述法拉第收集框(3)上，位于微型法拉第杯(6)入口前方位置；其特征在于，所述微型法拉第杯(6)共21个与所述导磁板(5)并列安装于法拉第杯安装板(2)上，位于真空环境中；所述微型法拉第杯(6)的电流通过所述密封插座(1)引出；所述密封插座(1)固定于所述法拉第收集框(3)上接近法拉第杯安装板(2)的位置
一种测量法拉第装置

[发明专利]一种平行束角度测量法拉第装置-CN200710175968.8有效
发明人：唐景庭;伍三忠;袁卫华;彭立波;孙勇 -专利权人：北京中科信电子装备有限公司
申请日： 2007-10-17 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子注入机的平行束角度测量法拉第装置，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。该结构包括：本发明采用一个法拉第收集框，一个电子抑制板，一个收集框底板，七个固定角度法拉第杯和一个移动法拉第杯组成，一个移动法拉第杯，所述的法拉第收集框收集入射离子束流，所述的抑制电子板抑制离子束轰击法拉第杯金属体产生的电子溢出，所述的角度收集底板用于真空连接密封法拉第收集框和法拉第杯，七个固定角度法拉第杯测得离子束电流大小，结合靶室区布置的移动法拉第来确定注入离子束的中心位置，当平行束是与晶平面垂直入射的束线时，此时移动法拉第的挡束中心位置与固定法拉第测束中心一致，移动法拉第电流达到峰值时的位置，固定的角度法拉第杯电流也同时达到峰值位置。
一种平行角度测量法拉第装置

[发明专利]法拉第杯组件及其离子束注入角度的测量方法、装置-CN201910727088.X在审
发明人：田成俊;洪纪伦;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-07 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：一种法拉第杯组件，所述法拉第杯组件包括堆叠放置的前置板以及法拉第部件，所述前置板与所述法拉第部件相互平行设置且具有预设间距，所述前置板与所述法拉第部件在保持间距不变的状态下可相对平移；其中，所述前置板具有多个孔洞，每个孔洞穿通所述前置板；所述法拉第部件内具有多个法拉第杯，每个法拉第杯具有开口，多个法拉第杯的开口的朝向相同，且所述开口与所述孔洞一一对应。
法拉第杯前置板法拉第孔洞开口离子束堆叠放置平行设置相对平移组件包括预设测量

[发明专利]一种电子束参数测量装置及电子束参数测量方法-CN202210786535.0在审
发明人：赵伟霞;张利新;刘俊标;王岩;邓晨晖;殷伯华;王鹏飞;马玉田;韩立 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：一种电子束参数测量装置，包括：微器件阵列结构多层板，所述多层板上设有多个阵列分布的法拉第杯组件，每个所述法拉第杯组件包括同轴设置的至少两个法拉第杯，至少两个所述法拉第杯贯通设置，电子束经上层所述法拉第杯射入下层所述法拉第杯中，获取每层所述法拉第杯的电子束束流大小，以得到所述电子束的相应参数。
一种电子束参数测量装置测量方法

[发明专利]参数获取装置、方法、离子注入方法和半导体工艺设备-CN202210291961.7有效
发明人：陶卓;朱红波 -专利权人：广州粤芯半导体技术有限公司
申请日： 2022-03-24 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：其中参数获取装置包括：挡板、法拉第杯和电流检测装置，所述挡板包括狭缝；所述挡板设于产生离子束流的离子束源和所述法拉第杯之间，被配置为在垂直于所述法拉第杯的高度方向移动，并阻挡所述离子束流，所述狭缝用于通过部分所述离子束流；所述法拉第杯被配置为在接收所述离子束流时产生电流；所述电流检测装置被配置为检测所述法拉第杯的电流大小，所述电流大小用于表征所述法拉第杯对应的电流密度。本申请能够快速准确地获取法拉第杯对应的电流密度，从而获取相关工艺参数。
参数获取装置方法离子注入半导体工艺设备

[实用新型]一种气溶胶法拉第杯装置及检测气溶胶表面电荷量的装置-CN202123131343.6有效
发明人：张辰;刘凯;王坤;巩永存;何春雷 -专利权人：青岛众瑞智能仪器股份有限公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G01N15/06 文献下载
摘要：本实用新型具体为一种气溶胶法拉第杯装置及检测气溶胶表面电荷量的装置，法拉第杯装置包括法拉第杯、外层绝缘壳，所述法拉第杯具有气溶胶出口，所述法拉第杯和外层绝缘壳之间设有绝缘体，所述外层绝缘壳和绝缘体上开气溶胶入口；检测电荷量装置包括静电计、流量计、真空泵、控制器，所述静电计电连接气溶胶法拉第杯装置的探针，所述气溶胶法拉第杯装置的气溶胶出口通过管路依次连接流量计和真空泵，所述静电计、流量计和真空泵均电连接控制器。在内层屏蔽壳和外层屏蔽壳之间增加绝缘体，减少外部环境对法拉第杯所造成的电磁干扰以及温度干扰，以及电器元件造成的电容耦合、漏电电流和系统噪音等影响。
一种气溶胶法拉第装置检测表面电荷

[发明专利]磁场检测方法及磁场检测系统-CN202211502794.2在审
发明人：苏文华;邵帅;曹炜 -专利权人：杭州富芯半导体有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G01R33/032 文献下载
摘要：本申请为一种磁场检测方法，包括：施加磁场至法拉第杯；控制驱动模组驱动隔离器远离法拉第杯，以允许离子束进入法拉第杯；控制驱动模组驱动法拉第杯移动以接收离子束，并记录离子束进入法拉第杯的入射位置；根据入射位置取得偏转半径本申请可透过记录入射位置来取得离子束的偏转半径，进而根据偏转半径来取得磁场，而不影响法拉第杯的运行及测量的精准度。
磁场检测方法系统

[发明专利]离子注入机的法拉第杯的磁性监控-CN200780050053.2有效
发明人：约瑟·P·迪宰桔雷斯契;摩根·D·艾文斯;杰·汤玛斯·舒尔;亚瑟温·谢帝;肯尼士·史温森 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2007-12-03 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：本发明提供一种用于对离子注入机的法拉第杯进行磁性监控的方法。本发明包括：真空室及位于真空室内的法拉第杯，此法拉第杯用以在进入真空室的离子束路径内移动；磁性监控器放置于真空室周围，用以区分与法拉第杯相关联的磁场与杂散磁场。
离子注入法拉第磁性监控

[发明专利]离子注入装置及离子注入方法-CN202010551130.X在审
发明人：狩谷宏行;高桥裕二 -专利权人：住友重机械离子科技株式会社
申请日： 2020-06-15 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：离子注入装置(10)具备：注入处理室(16)，进行向晶圆W照射离子束的注入工序；第1法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在注入工序之前进行的准备工序中测定离子束的射束电流；第2法拉第杯，设置于注入处理室(16)内，且构成为在用于校正第1法拉第杯的射束电流测定值的校正工序中测定离子束的射束电流；及屏蔽部件(43)，用于屏蔽朝向第2法拉第杯的离子束。屏蔽部件43构成为在注入工序及准备工序中离子束不能入射到第2法拉第杯，在校正工序中离子束能够入射到第2法拉第杯。
离子注入装置方法

[发明专利]束流密度分布和角度分布测量装置及方法、束流控制方法-CN200910248007.4有效
发明人：洪俊华;钱锋;陈炯 -专利权人：上海凯世通半导体有限公司
申请日： 2009-12-31 - 公布日： 2011-07-06 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于测量离子束密度分布和角度分布的装置，其包括一个一维测量单元、一个二维测量单元和一个信号处理单元，该一维测量单元包括：一开口狭长的第一法拉第杯，该第一法拉第杯设有一块流强信号接收板；该二维测量单元包括：至少一个第二法拉第杯，和/或至少一个第三法拉第杯，和/或至少一个第四法拉第杯，该第二法拉第杯设有一块流强信号接收板，该第三法拉第杯设有对称分布的两块流强信号接收板，该第四法拉第杯设有呈中心对称分布的四块流强信号接收板
密度分布角度测量装置方法控制

[实用新型]一种法拉第杯结构及离子植入设备-CN201721615608.0有效
发明人：唐瑞龙;倪明明;洪纪伦;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2017-11-28 - 公布日： 2018-06-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种法拉第杯结构及离子植入设备，所述法拉第杯结构包括：法拉第杯；固定部，所述固定部为空心立方体结构；任意一组首尾相连的四个表面为四个第一表面，至少一个所述第一表面上固定有法拉第杯；另外两个表面为第二表面通过本实用新型提供的法拉第杯结构及离子植入设备，解决了现有法拉第杯使用周期短，更换频繁的问题。 1
法拉第杯离子植入设备固定部本实用新型第二表面第一表面转动杆空心立方体结构使用周期首尾相连永久磁体

[发明专利]一种具有选择功能的法拉第杯装置-CN202110548318.3在审
发明人：王鹏飞;刘俊标;孟彦婷;殷伯华;孙博彤;王岩;韩立 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2021-05-19 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： H01J37/244 文献下载
摘要：一种具有选择功能的法拉第杯装置，属于电学检测部件技术领域。包括法拉第杯本体；第一绝缘件，设置在法拉第杯本体的封口端；第二绝缘件，设置在法拉第杯本体的开口端；电子束通道，位于拉第杯本体的开口端，并与法拉第杯本体的内部空间相连通；电子束选择组件，位于第二绝缘件远离法拉第杯本体的一侧电子束通过本发明的电子束通道时，电子束中速度和方向在选择范围外的带电粒子，受到电场力和磁场力的作用导致移动路径产生偏移而撞击在电子束通道上，而在选择范围内的带电粒子能够进入到法拉第杯本体内，实现对电子束中的带电粒子进行选择的功能
一种具有选择功能法拉第装置

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