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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沉积掩模-CN201310310143.8无效
发明人：钱自财 -专利权人：钱自财
申请日： 2013-07-23 - 公布日： 2013-11-13 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种沉积掩模，其特征在于：所述的有机材料沉积装置包含有一个真空室，其内设有有机材料沉积坩埚，该坩埚中安装有框架、沉积掩模，框架包括有开口；所述的沉积掩模上有基板，基板上可安装有磁阵列。所述的沉积掩模可包含有掩模主体和涂覆层，掩模主体多个狭缝，有机材料可穿过狭缝，涂覆层可被涂覆在掩模主体的表面上。本发明的有益效果是：具有较好的耐用性和较高的强度性，方便实用，清晰度高，且沉积面上有精细控制的尺寸的狭缝，提高了生产过程中的准确性。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201410119858.X有效
发明人：金雄植 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-03-27 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了一种用于沉积薄膜的掩模以及一种使用该掩模的薄膜沉积方法。该掩模包括设置在框架上的图案条。图案条可移动并且被定位以形成沉积图案。该掩模包括被构造为将图案条移动到多个位置以修改沉积图案的图案修改机构。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201010123804.2无效
发明人：李相信;高政佑;姜泽教;洪承柱 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2010-02-25 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种沉积掩模，所述沉积掩模包括掩模板以及支撑掩模板的周边的框架。所述框架包括附于掩模板的接触表面以及面对掩模板并与之隔开的非接触表面，非接触表面从接触表面延伸至形成在框架的中心的开口。非接触表面可以相对于掩模板形成锐角。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201310674417.1在审
发明人：韩政洹 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-12-11 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种沉积掩模。该沉积掩模包括：本体部分，该本体部分包括第一表面、第二表面和多个开口部分，第一表面与沉积基板相接触，第二表面面对第一表面，多个开口部分穿透第一表面和第二表面形成；以及碳层，至少设置在第一表面上，并且碳层包括碳纳米管和石墨烯中的至少一种该沉积掩模的强度可得到提高，并且可减少了起弧现象。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201880076181.2在审
发明人：曹守铉;孙晓源 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2018-10-22 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：实施例涉及一种用于沉积用于OLED像素沉积的金属材料的沉积掩模。沉积掩模包括：用于沉积的多个可用部分；以及除了可用部分之外的不可用部分。可用部分被布置成在纵向方向上彼此间隔开。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN202110105063.3在审
发明人：孙晓源;朴宰奭 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2017-03-23 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：一种沉积掩模，包括金属板，该金属板包括：具有多个通孔和介于通孔之间的桥的有效区域；设置在有效区域的外部的非有效区域；设置在非有效区域中且位置靠近金属板的一个纵向端部的第一凹槽；以及位置靠近与该一个纵向端部相对的另一个纵向端部的第二凹槽
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN202210427718.3在审
发明人：白智钦;金海植;曹荣得;李相侑;曹守铉;孙晓源 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种沉积掩模，该沉积掩模包括：金属板，金属板用于有机发光二极管像素图案的有机材料沉积；多个小表面孔，小表面孔形成在金属板的一个表面上；多个大表面孔，大表面孔形成在与金属板的一个表面相反的另一表面上
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN202111503837.4在审
发明人：金谞延;李胤抒;金相勋;朴钟圣 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-12-10 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L51/00 文献下载
摘要：本发明提供了沉积掩模。该沉积掩模包括主体部分、穿透主体部分并且被配置为允许沉积材料穿过主体部分的图案部分、设置在主体部分上的阻挡部分以及设置在主体部分上并且与阻挡部分相邻的支撑部分。阻挡部分与显示基板接触，阻挡沉积材料并且限定图案部分。支撑部分与显示基板接触。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN202210426824.X在审
发明人：白智钦;金海植;曹荣得;李相侑;曹守铉;孙晓源 -专利权人： LG伊诺特有限公司
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种沉积掩模，包括：金属板，该金属板包括沉积区域和非沉积区域，其中，沉积区域包括：多个小表面孔，所述小表面孔形成在金属板的一个表面上；多个大表面孔，所述大表面孔形成在与金属板的一个表面相反的另一表面上
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN202210922237.X在审
发明人：李德重;孙智熙;任星淳 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-08-02 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及沉积掩模。该沉积掩模包括：树脂膜，该树脂膜包括第一孔；非树脂层，该非树脂层设置在树脂膜上并且包括对应于第一孔的第二孔；和保护层，该保护层设置在非树脂层上并且包括对应于第一孔的第三孔，其中保护层包括设置在非树脂层的顶部表面上的第一部分和覆盖非树脂层的第二孔的侧表面的第二部分
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201110461209.4有效
发明人：李相信 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2011-12-26 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种沉积掩模，所述沉积掩模包括：掩模框架，具有限定在所述掩模框架的中心的开放窗口，并且包括形成在所述掩模框架的外表面中的第一开口和第二开口以及形成在所述掩模框架中的用于将第一开口空间连接到第二开口的第一连接通道；掩模片，放置在所述掩模框架上；其中，所述掩模框架的表面面对掩模片并且包括固定到掩模片的固定区域，其中，第一开口位于所述表面的位于所述固定区域的靠近所述开放窗口的侧部上的区域中。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201110456767.1有效
发明人：小林郁典;高政佑;李相信;姜择教 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2011-12-27 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种沉积掩模。在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201710778001.2有效
发明人：金南珍;朴徹桓 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-10-24 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供了防止在形成封装膜时发生的缺陷或确保封装膜的长寿命的沉积掩模、使用沉积掩模制造显示装置的方法和由该方法制造的显示装置。所述沉积掩模具有：第一部分和第二部分，所述第二部分厚于所述第一部分；所述第一部分中的至少一个开口，沉积材料穿过所述开口；以及所述第一部分中的多个通孔，所述通孔邻近和围绕所述开口，所述通孔从所述第一部分的上表面延伸至下表面，光穿过所述开口和所述多个通孔以照射所述沉积材料。
沉积

[发明专利]沉积掩模-CN201910444829.3有效
发明人：金相勳;李丞赈 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-05-27 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及沉积掩模。该沉积掩模可包括设置有图案部分的图案化区域以及设置在图案化区域的在第一方向上的相对的端附近的多个结合区域。
沉积

[发明专利]掩模组件-CN202110647568.2在审
发明人：高晙赫;孔炳翼;金世一;金义圭;闵秀玹;李尙玟;张原荣;洪承柱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩模组件。掩模组件包括沉积掩模框架和沉积掩模，沉积掩模框架包括：边缘部分，包括沿着第一方向的相对的上部部分和下部部分；以及支承件，沿着第一方向在边缘部分的上部部分与下部部分之间，沉积掩模可附接至沉积掩模框架。沉积掩模包括图案区域和第一沉积区域，图案区域与支承件对应，并且包括：第一焊接区域，在第一焊接区域处，沉积掩模可附接至支承件；对准调整图案，沿着第一方向邻近于第一焊接区域；以及在对准调整图案处的第二厚度的沉积掩模，该第二厚度小于沉积掩模在第一焊接区域处的第一厚度，第一沉积区域包括沉积掩模的上部沉积开口，并且在掩模框架的上部部分与支承件之间。
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