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[发明专利]能够形成图案的沉积装置-CN201280071246.7有效
发明人：金泰焕;柳云善;南宫晟泰 -专利权人： SNU精度株式会社
申请日： 2012-03-06 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种能够形成图案的沉积装置，本发明的能够形成图案的沉积装置，其为用于在基板上沉积原料的装置，其特征在于，进一步包括：喷嘴部，形成有喷射口，用于向所述基板侧喷射原料；快门部，用于选择性地开闭喷嘴部的喷射口
能够形成图案沉积装置

[发明专利]连续的图案化层沉积-CN201180014351.2有效
发明人：阿里尔·德格拉夫;欧文·约翰·凡·斯维特;保卢斯·威尔布罗杜萨·乔治·普迪;阿德里亚努斯·约翰尼斯·皮德勒斯·玛利亚·弗米尔 -专利权人：荷兰应用自然科学研究组织TNO
申请日： 2011-02-17 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：一种用于制造具有沉积材料的图案化层的基板的方法，所述图案化层从加工头沉积，所述方法包括：从所述加工头施加轴承气体以保持所述加工头通过气体轴承悬浮在所述基板上方；使所述基板和悬浮的所述加工头相对于彼此移动；涂敷打底材料，用于沉积材料至所述基板的选择性沉积，从所述加工头的面向所述基板的表面的第一区域涂敷所述打底材料，且在涂敷所述打底材料后或涂敷所述打底材料的过程中在所述基板上使所述打底材料立体地形成图案；从所述加工头的面向所述基板的表面的第二区域涂敷所述沉积材料至所述基板，所述第二区域位于所述第一区域在所述基板相对于所述加工头的移动方向上的下游。
连续图案沉积

[发明专利]有机层沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法-CN201610685453.1有效
发明人：金旻首;金武谦;瓦列里·普罗什金斯基;金茂显;李东规;李丙国;河在秀 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-08-18 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： H01L51/00 文献下载
摘要：公开了有机发光显示装置、用于沉积有机发光显示装置的有机层的设备，以及通过使用该设备制造有机发光显示装置的方法。用于沉积有机层的设备包括沉积部，沉积部包括与衬底间隔开的沉积组件。沉积组件包括配置为加热沉积材料的沉积源、安装在沉积源上的沉积源喷嘴单元、面对沉积源喷嘴单元的多个图案板以及布置在沉积源与多个图案板之间的源遮板。沉积源喷嘴单元包括沉积喷嘴。多个图案板包括多个第一图案化缝隙和多个第二图案化缝隙中的至少一个。源遮板配置为根据沉积源与衬底的相对位置允许沉积材料穿过多个图案板中的一个。
有机沉积设备发光显示装置及其制造方法

[发明专利]薄膜沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法-CN201110035610.1有效
发明人：金贞莲;成沄澈 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2011-02-01 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法。薄膜沉积设备包括：沉积源，排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的一侧处，包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，设置为与沉积源喷嘴单元相对，包括在图案化缝隙片的一端处的共用沉积区域和在另一端处的沿第一方向的多个图案化缝隙，多个图案化缝隙中的每个图案化缝隙包括长度不同的多个图案化子缝隙；障碍板组件，沿第一方向设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间，并包括将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的沉积空间划分为多个子沉积空间的多个障碍板薄膜沉积设备与基底分开预定的距离。薄膜沉积设备和基底能够相对于彼此移动。
薄膜沉积设备有机发光显示装置及其制造方法

[发明专利]沉积设备、有机发光显示设备及其制造方法-CN201310472801.3在审
发明人：崔云铉;金京汉;崔明焕;吴京原 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2013-10-11 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：为了改善沉积层的特性，提供了一种用于在基板上沉积沉积材料的沉积设备，所述沉积设备包括：沉积源，面对基板并排出沉积材料；图案化缝隙片，包括用于以期望的图案沉积沉积材料的图案化缝隙并被设置成面对基板；框架，连接到图案化缝隙片；以及台阶，结合到框架，以支撑框架，其中，分离区域形成在框架和台阶之间。
沉积设备有机发光显示及其制造方法

[发明专利]有机层沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法-CN201610462853.6有效
发明人：河在秀;金旻首;金武谦;金茂显;李东规;李丙国;李秀奂;李龙九;赵宰莹;瓦列里·普罗什金斯基 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2016-06-23 - 公布日： 2020-06-19 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：公开了有机层沉积设备、有机发光显示装置及其制造方法，其中有机层沉积设备包括沉积单元，沉积单元包括与衬底间隔预定距离的一个或者多个沉积组件以将沉积材料沉积在衬底上；其中该一个或者多个沉积组件包括沉积源、沉积源喷嘴单元、包括第一图案化单元和第一重叠单元的第一图案板以及包括第二图案化单元和第二重叠单元的第二图案板，其中第一图案板和第二图案板布置为使得第一重叠单元与第二重叠单元彼此重叠。
有机沉积设备发光显示装置及其制造方法

[发明专利]沉积用掩模、沉积用掩模框架组件及其制造方法-CN201510242242.6有效
发明人：韩政洹 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2015-05-13 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及使沉积物质通过以沉积到衬底上以制造显示装置的沉积用掩模，其包括供所述沉积物质通过的沉积图案部、与所述沉积图案部连接并支承所述沉积图案部的肋部以及与所述衬底面对地凹陷形成在所述沉积图案部和所述肋部的外围的凹陷部
沉积用掩模框架组件及其制造方法

[发明专利]薄膜沉积设备和制造有机发光显示装置的方法-CN201010248429.4有效
发明人：吴枝淑;崔镕燮;金钟宪;康熙哲;李润美;曹昌睦 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2010-08-05 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜沉积设备和利用该薄膜沉积设备制造有机发光显示装置的方法。薄膜沉积设备包括多个薄膜沉积组件，每个薄膜沉积组件包括：沉积源，排放沉积材料；沉积源喷嘴单元，设置在沉积源的一侧，并包括多个沉积源喷嘴；图案化缝隙片，设置为面对沉积源喷嘴单元，并包括沿第一方向布置的多个图案化缝隙；障碍板组件，设置在沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间。障碍板组件包括将沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片之间的空间划分为多个子沉积空间的多个障碍板。
薄膜沉积设备制造有机发光显示装置方法

[发明专利]制造高密度图案化介质上的伺服图案的装置、方法和系统-CN200610135573.0无效
发明人：托马斯·R·阿尔布雷克特;兹瓦尼米尔·Z·班迪克 -专利权人：日立环球储存科技荷兰有限公司
申请日： 2006-10-18 - 公布日： 2007-04-25 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明公开一种利用“圆点掩模”法制造高密度图案化介质上的伺服图案的装置、系统和方法。该装置可包括具有通过常规光刻工艺生成的多个开口的沉积掩模。材料可以穿过该沉积掩模开口从以独特沉积角取向的至少一个沉积源沉积到衬底上。以此方式，每个开口可以对应于多个沉积位置。开口可以形成精确的尺寸且被定位从而从所得沉积位置产生伺服图案特征。该沉积掩模还可以包括适用于引导材料到所述衬底上的多个沉积位置的多个位图案开口，所述沉积位置与所述伺服图案的形成同时地形成位图案。
制造高密度图案介质伺服装置方法系统

[发明专利]有机层沉积组件、沉积装置及有机发光显示装置制造方法-CN201510368557.5有效
发明人：李东规;金茂显;李丙国 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2015-06-29 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本发明的实施方式公开了有机层沉积组件、有机层沉积装置及有机发光显示装置的制造方法。该有机层沉积组件用于将沉积物质沉积到衬底上，其特征在于，包括放射所述沉积物质的沉积源、布置于沉积源的一侧并且形成有多个沉积源喷嘴的沉积源喷嘴部、以及布置成与沉积源喷嘴部相对并且形成有多个图案化狭缝的图案化狭缝片，其中，衬底形成为与有机层沉积组件一定程度地相隔开以能够相对于有机层沉积组件相对移动，从沉积源放射的沉积物质通过图案化狭缝片并在衬底上形成图案的同时被沉积，多个图案化狭缝包括供沉积物质通过的多个开口部和形成于多个开口部之间的肋
有机沉积组件装置发光显示装置制造方法

[发明专利]在图案化结构上的定向沉积-CN202210384497.6在审
发明人：亚历山大·卡班斯凯;萨曼莎·坦;杰弗里·马克斯;潘阳 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2016-12-19 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明涉及在图案化结构上的定向沉积。本发明提供了通过在图案化结构上执行高度非共形(定向)沉积来促进图案化的方法和相关装置。所述方法包括在图案化结构(例如硬掩模)上沉积膜。沉积可以是衬底选择性的，使得膜相对于下伏的待蚀刻的材料具有高的蚀刻选择性，并且是图案选择性的，使得膜定向沉积以复制图案化结构的图案。在一些实施方式中，在与执行后续蚀刻的室相同的室中执行沉积。在一些实施方式中，沉积可在通过真空传送室连接到蚀刻室的单独室(例如，PECVD沉积室)中执行。沉积可在蚀刻工艺期间之前或在蚀刻工艺期间的选定的间隔期间执行。在一些实施方式中，沉积涉及沉积工艺和处理工艺的多个循环。
图案结构定向沉积

[发明专利]在图案化结构上的定向沉积-CN201611177683.3有效
发明人：亚历山大·卡班斯凯;萨曼莎·坦;杰弗里·马克斯;潘阳 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2016-12-19 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明涉及在图案化结构上的定向沉积。本发明提供了通过在图案化结构上执行高度非共形(定向)沉积来促进图案化的方法和相关装置。所述方法包括在图案化结构(例如硬掩模)上沉积膜。沉积可以是衬底选择性的，使得膜相对于下伏的待蚀刻的材料具有高的蚀刻选择性，并且是图案选择性的，使得膜定向沉积以复制图案化结构的图案。在一些实施方式中，在与执行后续蚀刻的室相同的室中执行沉积。在一些实施方式中，沉积可在通过真空传送室连接到蚀刻室的单独室(例如，PECVD沉积室)中执行。沉积可在蚀刻工艺期间之前或在蚀刻工艺期间的选定的间隔期间执行。在一些实施方式中，沉积涉及沉积工艺和处理工艺的多个循环。
图案结构定向沉积

[发明专利]用于大面积沉积的小掩模铺设技术-CN201580013400.9在审
发明人：布莱恩·阿瑟·布奇;斯科特·阿龙·劳尔 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2015-03-06 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在物理气相沉积(PVD)方法中，在相同沉积室或容器中可以经由第一数量的阴影掩模将呈第一布置的多个材料图案沉积在基板的不同部分上，或者可以使用相同的阴影掩模一次将一个图案沉积在基板的不同部分上。在另一沉积室或容器中可以经由第二数量的阴影掩模将呈第二布置的多个材料图案沉积在基板的部分上。呈第二布置的多个材料图案的各个材料图案被沉积为不与呈第一布置的多个材料图案中的一个材料图案重叠。
用于大面积沉积小掩模铺设技术

[发明专利]薄膜沉积方法-CN201711293365.8在审
发明人：赵炳哲;李相镇;李仁焕;陈光善 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2017-12-08 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明一实施例的薄膜沉积方法包括：提供形成图案的基板的步骤；表面处理步骤，利用沉积抑制气体形成沉积抑制层，所述沉积抑制气体用于抑制在所述图案上端的薄膜沉积；薄膜沉积步骤，利用工艺气体在包括所述表面处理的所述图案上沉积所述薄膜；其中，所述沉积抑制气体为包括氟的气体。
薄膜沉积沉积抑制图案薄膜沉积步骤表面处理步骤沉积抑制层工艺气体气体形成上端基板沉积薄膜

[发明专利]沉积掩模-CN201410119858.X有效
发明人：金雄植 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2014-03-27 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：公开了一种用于沉积薄膜的掩模以及一种使用该掩模的薄膜沉积方法。该掩模包括设置在框架上的图案条。图案条可移动并且被定位以形成沉积图案。该掩模包括被构造为将图案条移动到多个位置以修改沉积图案的图案修改机构。
沉积

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