专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]气体阻隔-CN201680066364.7有效
  • 河村朋纪 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2016-11-02 - 2020-05-12 - B32B9/00
  • 本发明的课题是提供气体阻隔性良好、辊卷取时的表背面接触引起的气体阻隔性的降低小、并且裁切时的裂纹的产生得到了抑制的气体阻隔。该气体阻隔的特征在于,在通过X射线光电子分光法得到的光谱中,将气体阻隔层的层厚方向的由来自硅原子、氧原子和碳原子的峰强度的比率所换算的组成比的合计量设为100%时,基于与碳原子有关的C1s的波形解析的由来自于C‑C、C=C和C‑H键的峰强度的比率所换算的组成比的比例X(%)满足:将上述气体阻隔层的最表面的层厚设为0%、将与上述基材的界面的层厚设为100%时层厚5~30%区域中的上述比例X的最大值(%)为5~
  • 气体阻隔
  • [发明专利]气体阻隔-CN201280061539.7有效
  • 西尾昌二 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2012-12-10 - 2014-08-20 - B32B9/00
  • 一种气体阻隔(10),其具备实施真空紫外光照射处理并层叠于基材(1)上的气体阻隔层(2)和保护层(3),其中,形成为满足如下的规定:气体阻隔层(2)在其至少一部分中具有SiOxNy的组成,满足0.1≤x/(x+y)≤0.9的条件,同时保护层(3)的膜密度相对于气体阻隔层(2)的膜密度之比为0.2以上且0.75以下。
  • 气体阻隔
  • [实用新型]气体阻隔性层叠膜和波长变换片-CN201621233309.6有效
  • 村田光司;正田亮 - 凸版印刷株式会社
  • 2016-11-17 - 2017-06-16 - G02F1/13357
  • 本实用新型提供气体阻隔性层叠膜和波长变换片。上述气体阻隔性层叠膜具有第1阻隔,该第1阻隔具有第1基材、第1无机薄膜层和第1气体阻隔性被覆层;以及第2阻隔,该第2阻隔具有第2基材、第2无机薄膜层和第2气体阻隔性被覆层,其中,第1阻隔和第2阻隔处于以第1气体阻隔性被覆层与第2气体阻隔性被覆层相对置的方式经由粘接层层叠而成的状态,第1无机薄膜层与第2无机薄膜层之间的距离为1.0μm以上。
  • 气体阻隔层叠波长变换
  • [发明专利]阻隔气阻性能的测试装置及测试方法-CN201610027690.9在审
  • 于甄;解金库;高建聪 - 张家港康得新光电材料有限公司
  • 2016-01-15 - 2017-07-25 - G01N15/08
  • 本发明提供了一种阻隔气阻性能的测试装置及测试方法。该测试装置包括小分子气体储罐,小分子气体的分子直径小于水分子的直径;测试腔,与小分子气体储罐连接,测试腔中设置有阻隔,且阻隔将测试腔分为第一腔室和第二腔室,第一腔室上设置有测试腔的进气口,第二腔室上设置有测试腔的出气口;第一压力阀,设置于连接进气口的管道上,用于控制进气口与阻隔之间的小分子气体的压强;第二压力阀,设置于连接出气口的管道上,用于控制出气口与阻隔之间的小分子气体的压强;残余气体分析仪,与出气口连接,用于在捕捉小分子气体后测量阻隔气体透过率利用上述测试装置获得的阻隔气阻性能的精度可以达到10-7g/m2·day。
  • 阻隔膜气阻性能测试装置方法
  • [发明专利]气体阻隔气体阻隔的制造方法-CN201380054446.6有效
  • 西尾昌二 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2013-10-15 - 2015-06-24 - B32B9/00
  • 本发明的课题在于提供即便在高温高湿的使用环境下也具有充分的气体阻隔性、即便在使膜弯曲的情况下气体阻隔性的降低也被充分抑制、耐裂纹性也优异的气体阻隔。本发明的气体阻隔的特征在于,在基材的至少一个面具有含有硅、氧和碳的气体阻隔层,满足下述(i)~(iv)的全部要件:(i)硅、氧和碳原子比率在层厚方向的90%以上的区域中,(碳原子比率)<(硅原子比率)<(氧原子比率),(ii)碳分布曲线具有至少2个极值,(iii)碳分布曲线中的碳原子比率的最大值与最小值之差的绝对值为5at%以上,(iv)跟基材侧的气体阻隔层表面最近的氧分布曲线的极大值在该气体阻隔层内的氧分布曲线的极大值中取最大值
  • 气体阻隔制造方法
  • [发明专利]气体阻隔气体阻隔的制造方法-CN201580020650.5有效
  • 广濑达也;大石清 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2015-04-23 - 2019-04-16 - B32B9/00
  • 本发明的课题在于提供在成膜中及将成膜了的长尺寸的膜卷取为卷状时可以抑制由膜的表面·背面间的接触带电等所引起的异物在膜上的附着的气体阻隔及其制造方法。本发明的气体阻隔(10)为在基材(1)的一面上具有气体阻隔层(2)、在基材的相反侧的面上具有保护膜(3)的气体阻隔,其特征在于,保护膜具有粘合层(32)、介由粘合层而配设于基材,在将长尺寸状的气体阻隔卷绕成卷状时,将相互接触的、气体阻隔层的表面与保护膜的表面的算术平均粗糙度分别设为Ra1和Ra2时,Ra2的值为Ra1的值的3倍以上,且长尺寸状的气体阻隔的总厚为60μm以上。
  • 气体阻隔制造方法

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