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[发明专利]气体制造装置-CN201480018716.2有效
发明人：佐藤尚俊 -专利权人：富士胶片株式会社;人工光合成化学工艺技术研究组合
申请日： 2014-03-19 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： C25B9/00 文献下载
摘要：本气体制造装置具有元件层叠体，其串联地层叠有多个元件，所述多个元件形成有具备pn结的半导体薄膜，该元件层叠体在一方具有受光部，在另一方具有导电性基板；氢气生成部，其形成于处于受光部侧的第1元件的正面；包含氢气生成部的第
气体制造装置

[发明专利]气体制造装置和气体制造方法-CN202180089213.4在审
发明人：户野侃;中间友树;中村匡贵 -专利权人：积水化学工业株式会社
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B01D53/62 文献下载
摘要：一种气体制造装置(1)，具有连接部(2)、还原气体供给部(3)和反应部(4)，连接部(2)供给含有CO2的排气，还原气体供给部(3)供给含有H2的还原气体，H2将含有金属氧化物且因与CO2接触而成为氧化状态的还原剂(4R)进行还原，金属氧化物通过还原CO2而生成CO，反应部(4)具备多个反应器(4a～4d)和收纳在各反应器(4a～4d)内的还原剂(4R)，多个反应器(4a～4d)与连接部(2)和还原气体供给部(3)各自连接，反应部(4)能够切换向各反应器(4a～4d)供给的排气和还原气体，多个反应器(4a～4d)包含第1反应器和第2反应器，在排气被供给到第1反应器时第2反应器被供给还原气体，第1反应器和第2
气体制造装置方法

[发明专利]气体制造装置和气体制造方法-CN201980050273.8有效
发明人：田中康行;兒玉芳一;松永大辅 -专利权人：株式会社德山
申请日： 2019-07-18 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C25B15/08 文献下载
摘要：一种气体制造装置，该气体制造装置具备电解槽、第1电解液循环系统、第2电解液循环系统和电解液交换装置，第1电解液循环系统包含：第1循环箱，其接受容纳并贮存从阳极室流出的第1电解液；以及第1循环泵，其将第1电解液向阳极室供给，第2电解液循环系统包含：第2循环箱，其接受容纳并贮存从阴极室流出的第2电解液；以及第2循环泵，其将第2电解液向阴极室供给，电解液交换装置将存在于第1电解液循环系统的第1电解液的一部分移送至第
气体制造装置方法

[实用新型]用于产生氢气和氧气的气体制造设备及空调-CN201721420824.X有效
发明人：张建国;黄瑞娟;洪健 -专利权人：中山市陶净科技有限公司
申请日： 2017-10-27 - 公布日： 2018-05-15 - 主分类号： C01B13/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及氧气和氢气的制造机器，尤其涉及用于产生氢气和氧气的气体制造设备及空调。该气体制造设备，包括气体制造装置、氧气分离装置，所述气体制造装置上设有用于供制备的氧气流出的第一出气管和用于供制备的氢气流出的第二出气管、所述氧气分离装置上设有第三出气管，从所述第一出气管、第二出气管和第三出气管流出的气体混合后经一呼吸口排出除了用于制氢制氧的气体制造装置外还增加了一个可将空气中的氧气分离的氧气分离装置，利用氧气分离装置额外提供的氧气来提高气体制造装置中氧气的浓度，从而使经过滤器过滤输出的气体能够满足使用者的需求。
用于产生氢气氧气气体制造设备空调

[发明专利]一种用于半导体制造的气体混合设备及混合方法-CN202010484448.0在审
发明人：徐康元;王桂磊;孔真真;杨涛;李俊峰;王文武 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开一种用于半导体制造的气体混合设备及混合方法，涉及半导体设备技术领域，能够降低多种气体在混合过程发生冷凝的几率，提高半导体制造工艺质量。该用于半导体制造的气体混合设备应用于半导体制造工艺，其包括气体混合容器以及设在气体混合容器上的第一加热装置。本发明提供的一种用于半导体制造的气体混合设备及混合方法用于半导体器件、半导体芯片制造。
一种用于半导体制造气体混合设备方法

[发明专利]生物气体制造系统及生物气体制造方法-CN202110583004.7在审
发明人：中岛祐二;小川尚树;池卓;鹈饲展行;野间彰;冲野进 -专利权人：三菱重工业株式会社
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C12M1/107 文献下载
摘要：提供能够促进从含有纤维素的废弃物中生成生物气体的生物气体制造系统及生物气体制造方法。生物气体制造系统具备：水解装置，其对含有纤维素的废弃物进行水解；和生物气体生成装置，其用纤维素酶对经水解装置水解的废弃物即处理物中的纤维素进行分解并使处理物发酵由此生成生物气体。
生物气体制造系统方法

[发明专利]气体重整设备-CN200480043917.4有效
发明人：佐香正明;大田秀明 -专利权人：川崎重工业株式会社
申请日： 2004-12-13 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： C10L3/00 文献下载
摘要：本发明的气体重整装置能够将低热量气体重整为稳定的燃气轮机用燃料。该装置具备：具有天然气供给线(7)和空气供给线(8)，将天然气与空气加以混合，使该混合气体发生化学反应而重整，以制造含氢气的重整气体用的反应容器的重整气体制造装置(3)、将低热量气体与上述重整气体制造装置(3)提供的重整气体加以混合，作为燃料气体提供给燃气轮机设备(1)用的混合调整装置(5)、从所述重整气体制造装置(3)向所述混合调整装置(5)提供重整气体用的重整气体供给配管(4)、从所述混合调整装置(5)向燃气轮机设备(1)提供燃料气体用的燃料气体供给配管(2)、以及控制所述重整气体制造装置(3)和混合调整装置(5)的动作用的控制装置(10)。
气体重整设备

[实用新型]一种制作标准气体样品的实验仓-CN202123219219.5有效
发明人：黄秋娟;黄景耀 -专利权人：福建省鑫龙安检测技术有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： B01J7/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及标准气体生产技术领域，特别涉及一种制作标准气体样品的实验仓，包括箱体、气体制造组件、装瓶组件和开关组，气体制造组件设置在箱体内部，箱体内底壁上固定焊接有第一安装板和第二安装板，气体制造组件包括第一气体制造罐、第二气体制造罐、标准气体反应罐、输气箱、真空箱和净化箱，第一气体制造罐、第二气体制造罐和输气箱固定焊接在第一安装板顶部，标准气体反应罐和真空箱固定焊接在箱体内底壁上，净化箱固定焊接在第二安装板顶部，通过设置的气体制造组件对标准气体进行制作，在制作过程中通过净化箱的作用，对第一气体和第二气体在进入标准气体反应罐进行反应之前对气体进行去杂质，提高生产质量，降低工作成本。
一种制作标准气体样品实验

[发明专利]氢制造装置的运转方法及氢制造装置-CN202080025241.5在审
发明人：松尾日向子;阿曾沼飞昂;池田耕一郎 -专利权人：大阪瓦斯株式会社
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： C01B3/38 文献下载
摘要：提供一种氢制造装置的运转方法，抑制产品气体的消耗且抑制原料气体的无用的消耗的同时能够开始产品气体制造运转，并且能够实现至开始产品气体制造运转的时间的缩短。停止产品气体制造运转时，进行待机运转，前述待机运转中，关于压力变动吸附部（BS），使吸附塔（1）的吸附剂维持成已将吸附对象成分脱附的状态，且关于改质处理部（AK），在将由加热燃烧器（N）进行的改质器（2）的加热继续的状态下，进行使填充至改质处理部（AK）的产品气体（H）循环，停止待机运转来开始产品气体制造运转时，进行产品气体制造运转，前述产品气体制造运转中，刚开始后执行初始运转处理，前述初始运转处理为，将原料气体（G）及水蒸气供给至改质器（2），生成改质气体（K），将来自改质处理部（AK）的改质气体（K）供给至吸附塔（1）来制造产品气体（H），之后，将产品气体（H）回收至产品气体罐（U）。
制造装置运转方法

[实用新型]一种方便使用的气体制造装置-CN201920728384.7有效
发明人：丁古宝 -专利权人：通州宏仁气体有限公司
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： A61M16/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种方便使用的气体制造装置，包括气体制造机本体和对其进行支撑的支撑板，所述支撑板的上端设有两个凹槽，两个所述凹槽内均固定连接有液压油缸，两个液压油缸的上端固定连接有放置板，所述支撑板的上端设有置物槽本实用新型结构紧凑，通过在气体制造机下端设置减震和行走机构，从而方便气体制造装置的搬运和移动，同时在气体制造机工作和移动的过程中，减震机构对其起到一定的减震缓冲作用，在一定程度上提高了气体制造机的使用寿命
一种方便使用气体制造装置

[发明专利]气体制造系统和气体制造方法-CN201980095545.6在审
发明人：明田川恭平;平敷勇;野崎智洋;坂田谦太 -专利权人：三菱电机株式会社;国立大学法人东京工业大学
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C01B3/26 文献下载
摘要：在对反应器(2)内的催化剂照射等离子体、将所供给的原料气体(8)和氧化剂气体(10)改性以制造生成气体(14)的气体制造系统中，具备使原料气体供给单元(9)供给至反应器(2)的原料气体(8)和氧化气体供给单元(11)供给至反应器(2)的氧化气体(10)的比率变化的气体比率变化单元(101)和产生照射于催化剂的等离子体的等离子体发生单元，促进在催化剂表面有效率地形成反应性高的化学种的形成，从而提高生成气体(14
气体制造系统方法

[发明专利]气体制造系统和气体制造方法-CN201980095514.0在审
发明人：明田川恭平;平敷勇;野崎智洋;坂田谦太 -专利权人：三菱电机株式会社;国立大学法人东京工业大学
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： C01B3/26 文献下载
摘要：气体制造系统具备：具有形成被处理气体(8)的流路(9)的反应器(2)、施加有电压的第一电极(3)和第二电极(4)、和配置于流路(9)且包含催化剂的催化剂层(5)的气体制造装置；产生对第一电极(3)和第二电极(4)施加的电压的电压产生单元(12)；和将被处理气体(8)供给至气体制造装置的气体供给单元，电压产生单元(12)具有根据被处理气体(8)设定电压的频率的频率设定单元(13)，将在第一电极(3)与第二电极(4)之间产生的等离子体照射至催化剂层(5)，将被处理气体(8)改性以得到生成气体(11)。
气体制造系统方法

[发明专利]一种半导体制造设备及其处理腔、气体发生装置-CN202011409011.7在审
发明人：郑宇现;李俊杰;李琳;王佳;周娜 -专利权人：中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司
申请日： 2020-12-04 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开一种半导体制造设备及其处理腔、气体发生装置，涉及半导体制造设备技术领域，用于解决处理腔中的密封件容易受到高温及等离子体影响，从而导致处理腔的密封性不能满足密封需求的技术问题。所述半导体制造处理腔包括：至少一处连接结构；密封件，密封件置于连接结构中，用于对处理腔进行密封；气体通道，气体通道的进气口与气体发生装置连接，气体通道的出气口位于连接结构中，用于向连接结构通入惰性气体，以隔离密封件与处理腔中的处理气体。所述气体发生装置向半导体制造处理腔提供惰性气体。
一种半导体制造设备及其处理气体发生装置

[发明专利]半导体制造设备-CN200780005002.8有效
发明人：平岩次郎;吉本修;早川宏;东城哲朗;冈部庸之;浅野贵庸;和田真一;中尾贤;加藤寿 -专利权人：东洋炭素株式会社;东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-02-07 - 公布日： 2009-03-04 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：氟气发生装置与半导体制造装置(3a～3e)经由气体供给系统(2)连接，该气体供给系统(2)具有能够贮藏规定量的由现场氟气发生装置(1a～1e)发生的氟气的贮藏罐(12)，当现场氟气发生装置(1a～1e)中1个以上停止时，通过从贮藏有规定量的氟气的贮藏罐(12)向半导体制造装置(3a～3e)供给氟气，从而维持半导体制造装置(3a～3e)的运用。由此，能够安全稳定地将在氟气发生装置发生的氟气向半导体制造装置供给，并且获得在半导体制造中价格性能比也优越的半导体制造设备。
半导体制造设备

[发明专利]合成气体制造用催化剂结构体、具备该合成气体制造用催化剂结构体的合成气体制造装置以及合成气体制造用催化剂结构体的制造方法-CN201880035569.8有效
发明人：增田隆夫;中坂佑太;吉川琢也;加藤祯宏;福岛将行;高桥寻子;马场祐一郎;关根可织 -专利权人：古河电气工业株式会社
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B01J29/035 文献下载
摘要：本发明提供一种催化活性的降低得以抑制、能高效地制造包含一氧化碳和氢的合成气体的合成气体制造用催化剂结构体以及具备该合成气体制造用催化剂结构体的合成气体制造装置。本发明的合成气体制造用催化剂结构体(1)是在制造包含一氧化碳和氢的合成气体时使用的合成气体制造用催化剂结构体(1)，其具备：多孔质结构的载体(10)，由沸石型化合物构成；以及至少一种催化剂物质(20)，
合成气体制造催化剂结构具备装置以及方法

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