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[发明专利]基板处理设备的气体分配设备、基板处理设备及基板处理方法-CN201880047348.2有效
发明人：千珉镐;金钟植;黄喆周 -专利权人：周星工程股份有限公司
申请日： 2018-07-18 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理设备的气体分配设备、基板处理设备以及基板处理方法。该气体分配设备包括：第一气体分配模块，所述第一气体分配模块用于将处理气体分配到第一气体分配空间；以及第二气体分配模块，所述第二气体分配模块用于将处理气体分配到与所述第一气体分配空间不同的第二气体分配空间
处理设备气体分配方法

[发明专利]一种压力式干燥机的多口气体分配器-CN201410193351.9在审
发明人：边方元;边文阳 -专利权人：无锡市阳光干燥设备有限公司
申请日： 2014-05-02 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种压力式干燥机的多口气体分配器，包括气体分配结构、气体入口与气体分配口，所述气体分配结构下端固定有气体入口；所述气体分配口固定于气体分配结构上；所述气体分配口包括气体处理口与气体分配器，所述气体处理口固定于气体分配器内本发明一种压力式干燥机的多口气体分配器，通过新的布局结构提高出风效率，降低企业的生产成本，设计合理，准确定位，采购成本较低，易于大规模推广。
一种压力干燥机口气分配器

[实用新型]一种燃料电池金属极板-CN202220106195.8有效
发明人：王鹏;赵培振 -专利权人：博远（山东）新能源科技发展有限公司
申请日： 2022-01-14 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： H01M8/0258 文献下载
摘要：本申请公开了一种燃料电池金属极板，其表面设置有气体流场以及与气体流场相连通的气体分配区，气体分配区设置有分配线以及分配点；分配线采用间断式结构，分配线将分配区划分为多个子区域，分配线整体由极板的入口向气体流场的方向延伸；分配点有多个，子区域设置有分配点。本申请中的气体分配区采用分配线和分配点结合的形式在保证流量分配均匀的前提下能够使极板具有较好的流阻特性，由于分配线采用间断结构设置，这就使得分配线与分配点之间存在流通路径，因此气体分配区各子区域间可以进行气体的交互，保证各子区域气体流量趋向于一致。
一种燃料电池金属极板

[发明专利]用于在反应室内分配气体的淋喷头组件和用于控制所利用的淋喷头组件的温度均匀度的方法-CN201810816867.2在审
发明人： M·维尔巴斯;J·L·温克勒;J·K·沙格鲁;C·L·怀特 -专利权人： ASMIP控股有限公司
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于在反应室内分配气体的淋喷头组件。所述淋喷头组件可以包括：形成在所述淋喷头组件内的室，以及与所述室相邻的气体分配组件，其中所述气体分配组件包括：第一气体分配板，所述第一气体分配板包括顶部表面和底部表面；以及第二气体分配板，所述第二气体分配板包括顶部表面和底部表面，所述第二气体分配板设置在所述第一气体分配板的所述顶部表面之上。所述气体分配组件还可以包括：设置在所述第一气体分配板与所述第二气体分配板之间的一个或多个加热结构；以及多个开孔，所述多个开孔从所述第一分配板的所述底部表面延伸到所述第二气体分配板的所述顶部表面。还公开了用于控制被用来在反应室内分配气体的淋喷头组件的温度均匀度的方法。
气体分配板淋喷头顶部表面气体分配组件底部表面温度均匀室内开孔分配加热结构分配板延伸

[实用新型]工业气体集中分配器-CN202320966702.X有效
发明人：汪仁清;李显亮;张家庆 -专利权人：广州共誉不锈钢流体设备有限公司
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： F17D1/04 文献下载
摘要：本实用新型公开一种工业气体集中分配器，其包括：分配管主体以及多个气体分配组件，分配管主体具有气体通路，该多个气体分配组件共同连接于分配管主体上且并列配置，其与气体通路导气连通，用于将气体通路中的气体分配至下级机构使用，每个气体分配组件包括气体控制比例阀以及用于测量每个不同气体分配组件中气压的气压表，该气体控制比例阀用于气体通路中的气体能在不同的气体分配组件中以不同气压输出。该工业气体集中分配器的每个气体分配组件的气体控制比例阀可以控制对应出气口的气压，从而达到一个气管可以有多个不同气压的气口分出，解决了一个气体管道只能接一个出气口的问题，可节约场地，提高气体利用率，降低成本
工业气体集中分配器

[发明专利]用于处理基板的装置和用于分配气体的组件-CN202111653081.1在审
发明人：孙亨圭 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的装置和用于分配气体的组件。提供了一种气体分配组件，该气体分配组件设置在用于利用等离子体处理基板的装置中以分配气体。在示例性实施方案中，气体分配组件包括气体分配板，该气体分配板形成有用于扩散从气体供应单元供应的气体的多个气体引入孔；喷头板，该喷头板设置在气体分配板的上部或下部处以与气体分配板接触、并且具有多个气体供应孔，该多个气体供应孔形成在与气体引入孔连通的位置处以贯穿上表面的和下表面；和紧固构件，该紧固构件设置在与气体分配板和喷头板接触的侧表面处、并且包括第一耦接部和第二耦接部，该第一耦接部耦接到气体分配板，该第二耦接部支承喷头板的下表面以接触气体分配板和喷头板
用于处理装置分配气体组件

[发明专利]气体分配装置和等离子体加工设备-CN200810247046.8无效
发明人：李永军 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2008-12-31 - 公布日： 2010-07-07 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明提供一种气体分配装置和等离子体加工设备，所述气体分配装置包括：匀流板，分别位于所述匀流板两面的气体进入孔和至少两个气体分配孔，以及，与所述气体分配孔固定连接的分配部件；所述分配部件内具有与所述气体分配孔连通的气体通路，所述各个分配部件的气体通路长度不完全相同。所述气体分配装置能够灵活调整气体在装置内的传输路径，改善待加工基片上方气体分布的均匀性，进而改善等离子体分布的均匀性。
气体分配装置等离子体加工设备

[发明专利]进气歧管-CN201710574895.3有效
发明人：中村健英;大薮大悟 -专利权人：爱三工业株式会社
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： F02M35/104 文献下载
摘要：使气体集合腔室中的压力变动减少，抑制从气体分配部向各分支管分配的辅助气体浓度的波动。进气歧管(1)具备稳压箱(2)、多个分支管(3C)以及分配辅助气体的气体分配部(8)。气体分配部(8)具备辅助气体用的气体导入管、使来自气体导入管的辅助气体集合的气体集合腔室(12)、从该气体集合腔室(12)分支并与各分支管(3C)连接的多个气体分配通路(13C)。各气体分配通路(13C)成为分别扩大容积而成的气体分配腔室(14C)。在各气体分配腔室(14C)与气体集合腔室(12)之间设有辅助气体用的气体导入孔(15C)，在各气体分配腔室(14C)与各分支管(3C)之间设有向各分支管(3C)导出辅助气体的气体导出孔(16C)。
辅助气体分支管气体集合腔室气体分配腔室气体分配部气体导入管进气歧管气体分配气体导入孔压力变动导出孔稳压箱导出分配集合

[实用新型]一种可拆式气体喷淋头-CN201620201845.1有效
发明人：李鹏飞;王树林;陈剑雨;王武鹏 -专利权人：钧石（中国）能源有限公司
申请日： 2016-03-16 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可拆式气体喷淋头，包括气体导入管、盖板、第一气体分配板及第二气体分配板，盖板和第一气体分配板之间设有第一气体缓冲室，第一气体分配板和第二气体分配板之间设有第二气体缓冲室，第一气体分配板、第二气体分配板上设有贯穿上表面和下表面的多个第一通孔和第二通孔；其中盖板、第一气体分配板通过锁紧装置和第二气体分配板活动连接。本实用新型第一气体缓冲室与第二气体缓冲室，使得气体在腔室中分布得更加均匀，并且喷淋板之间通过锁紧装置活动连接，方便对喷淋板进行拆卸式保养。
一种可拆式气体喷淋

[发明专利]EGR气体分配器-CN201811333953.4在审
发明人：安江昭成;铃木敬升 -专利权人：爱三工业株式会社
申请日： 2018-11-09 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： F02M26/35 文献下载
摘要：本发明提供一种EGR气体分配器，其在确保EGR气体的分配性能的同时有效地尽快加热气体通路。EGR气体分配器是安装于进气歧管的附属设备，向构成进气歧管的多个分支管的各分支管分配EGR气体。EGR气体分配器包括：气体导入口，其导入EGR气体；多个气体导出口，其与各分支管连接；气体分配部，其包含自气体导入口向各气体导出口分支为多个并延伸的气体通路。气体通路自气体导入口到各气体导出口逐级分支并延伸，并呈以气体导入口为中心左右对称的分级分支形状。EGR气体分配器包含为了加热气体分配部15而与气体分配部的整体相邻设置的加热部。
分配器气体导入口气体导出口气体分配部气体通路分支管进气歧管加热部加热分配性能分支形状附属设备热水通路相邻设置左右对称供热水有效地延伸分级分配流动

[发明专利]通过独立控制TEOS流量的沉积径向和边缘轮廓可维持性-CN201810576218.X有效
发明人： S·巴录佳;Y·杨;T·恩古耶;N·南塔瓦拉努;J·F·奥布充;T·A·恩古耶;K·嘉纳基拉曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-06-06 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：至少一个处理腔室包括穿孔盖、设置在穿孔盖上的气体阻滞器以及设置在穿孔盖下方的基板支撑件。气体阻滞器包括：气体歧管、在气体歧管中形成的中心气体通道、设置在气体歧管下方的第一气体分配板、在气体歧管中形成的第一和第二气体通道、设置在第一气体分配板下方的第二气体分配板、设置在第二气体分配板下方的第三气体分配板、以及设置在第二气体分配板和第三气体分配板之间的多个直通通道。第二气体分配板包括穿过第二气体分配板的底部而形成的多个通孔、与中心气体通道流体连通的中心开口以及在第二气体分配板的顶表面中形成的凹陷区域。
通过独立控制 teos 流量沉积径向边缘轮廓可维持

[实用新型]一种展馆中央空调排风结构-CN201921262114.8有效
发明人：孙娜蒙;魏国彬;罗连杰;齐欣;司空海燕 -专利权人：安徽财经大学;安徽淮美环境科技有限公司
申请日： 2019-08-06 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： F24F13/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种展馆中央空调排风结构，包括：排风管，所述排风管上端连接于中央空调送风管，所述排风管下端密封连接于旋转轴承，旋转轴承密封安装在气体分配腔上，所述气体分配腔外侧设有若干气体分配管，所述气体分配管上设有若干空调排风口，所述空调排风口在气体分配管上倾斜向下设置，所述气体分配管在气体分配腔外侧呈同心圆分布，所述空调排风口在气体分配管上等距设置。本实用新型可以将空调冷空气进行均匀分布，而且，空调排风口在气体分配管上倾斜向下设置，可以实现气体分配管自动旋转，增加分配效果，使用非常方便。
一种展馆中央空调结构

[实用新型]反应离子刻蚀机及其气体分配装置-CN201920972362.5有效
发明人：谭志明 -专利权人：华智科技(国际)有限公司
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： H01J37/305 文献下载
摘要：一种气体分配装置及反应离子刻蚀机，该气体分配装置的底座具有气体分配槽，气体可从进气孔进入到气体分配槽。覆盖在气体分配槽上敞开一侧的网片对气体形成阻力，令气体不能轻易从气体分配槽敞开一侧喷出，逼迫大部分气体分流到气体分配槽内，流向气体分配槽的各处。由于气体不断涌入，流入的气体流量比流出的大，因此由气体分配槽与网片形成的增压室内气压上升，并使得增压室内气体逐渐形成相同压强，保证气体均匀分布。增压室内气体压强上升至一定程度，可从网片的网状孔隙内排出，均匀的进入到排气板的出气孔中，然后再均匀的排入至反应腔内，提高刻蚀的均匀性。
气体分配槽增压网片压强气体分配装置室内气体反应离子刻蚀机气体流量比敞开气体分流气体形成室内气压网状孔隙出气孔反应腔进气孔均匀性排气板刻蚀排出喷出底座流出覆盖保证

[发明专利]金属有机化学气相沉积装置、气体喷淋组件及其气体分配的控制方法-CN201310167085.8有效
发明人：马悦;萨尔瓦多;奚明 -专利权人：理想晶延半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2013-05-08 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属有机化学气相沉积装置、气体喷淋组件及其气体分配的控制方法，所述气体喷淋组件包括第一进气管路、第二进气管路和第三进气管路，用于分别将第一气体、第二气体和第三气体传输至气体分配单元，所述气体分配单元为一体成型的单层结构，所述气体分配单元包括间隔设置的A型气体分配腔，B型气体分配腔和C型气体分配腔，分别用于分配所述第一气体、第二气体和第三气体，且所述间隔设置在水平面与垂直面截面皆为连续迂回截面。本发明使得可以调节两种反应气体的气体分配腔的数量，在单一反应单元内实现了多种材料生长。本发明分配单元为一体成型的单层结构，避免了多层、多点焊接的复杂加工，极大降低了制造成本。
金属有机化学沉积装置气体喷淋组件及其分配控制方法

[发明专利]高温真空密封-CN202180033050.8在审
发明人：穆罕纳德·穆斯塔法;穆罕默德·M·拉希德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-04-09 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：描述了气体分配组件和包括气体分配组件的处理腔室。气体分配组件包括气体分配板、盖、和主要O形环。将主要O形环放置于气体分配板的第一接触表面的净化通道和第二接触表面之间。描述了使用公开的气体分配组件密封处理腔室的方法。
高温真空密封

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