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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种纺织纤维面料制备装置及纺织纤维面料制备方法-CN202111324880.4在审
发明人：何本辉 -专利权人：何本辉
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： D06G1/00 文献下载
摘要：本发明涉及纺织材料技术领域，且公开了一种纺织纤维面料制备装置及纺织纤维面料制备方法，包括支架、清理机构、驱动电机、拨杆装置、回收槽、杂质吸收机构、传动皮带和抖动板，主要通过拨杆装置对毛刷表面吸附的杂质进行剥离，再配合杂质吸收机构和回收槽将杂质进行吸附清理，去除毛刷粘连的杂质对卷料清理时的二次污染，实现了毛刷的自清洁，提升了处理效果，再通过驱动装置带动卷料自动经过清理机构的毛刷刷洗，将面料卷料表面的纤维残渣等杂质进行清理去除
一种纺织纤维面料制备装置方法

[实用新型]一种粮食干燥植物性杂质回收的装置-CN201920238510.0有效
发明人：林琳;李吉芬;林子木;王德华;高树成;刘盛华;王赫;任立辉;王月;唐欣欣 -专利权人：辽宁省粮食科学研究所
申请日： 2019-02-26 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： B01D46/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种粮食干燥植物性杂质回收的装置，在粮食干燥设备的两侧设有杂质收集罩，杂质收集罩内设有内腔和外腔；内腔与粮食干燥设备的干燥段和冷却段的排气口相通；外腔的上部设有轴流风机，轴流风机与外界相通；内腔和外腔通过隔板分离，在隔板上设有分离窗，分离窗上设有斜孔，斜孔下端位于内腔处，且斜孔将内腔和外腔相通；在内腔的底部设有杂质收集箱。该装置可以实现植物性杂质集中回收，杜绝粮食干燥过程中植物性杂质对环境的污染。
内腔植物性杂质外腔粮食干燥斜孔隔板粮食干燥设备杂质收集轴流风机相通本实用新型杂质收集箱集中回收外界相通回收分离窗干燥段冷却段排气口下端污染

[发明专利]一种重金属污染水体的排水方法-CN201811123138.5在审
发明人：冯杰 -专利权人：徐州慧博纺织有限公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： B01D35/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种重金属污染水体的排水方法，包括以下步骤：在重金属污染水体的四周架设滤网，通过滤网向前缩紧，在滤网过滤后的水体中放置排水泵的吸水管，将重金属污染水体通过排水泵排入集装箱中，通过滤网过滤水体中的可见杂质，再由水泵进行排水，避免了二次污染。
水体重金属污染滤网过滤排水排水泵滤网二次污染吸水管缩紧水泵集装箱架设

[发明专利]真空系统中光学元件表面沉积污染物的去除方法-CN202010595418.7在审
发明人：王胭脂;郭可升;陈瑞溢;张宇辉;朱晔新;朱美萍;张伟丽;王建国;孙建;易葵;邵建达 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2020-06-28 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：一种真空系统中光学元件表面沉积污染物的原位去除方法，本发明通过引入离子源及中和器到真空系统中，利用离子源轰击真空装置中的元件，以消除真空释气沉积污染。本发明适用于真空激光系统中激光光学元件表面污染物原位去除、且不引入新的杂质，可大幅度提高污染物去除效率，提高元件抗激光损伤性能及使用寿命。
真空系统光学元件表面沉积污染物去除方法

[发明专利]一种中分子量羟乙基淀粉注射液的制备方法-CN201310745284.2无效
发明人：任传杰;郑家晴;冯波;李洁;李长军;黄国英;张健 -专利权人：山东齐都药业有限公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： A61K9/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种中分子量羟乙基淀粉注射液制备方法，采用深层过滤器和正电荷除菌滤芯进行过滤，可同时去除颗粒污染物和吸附细菌内毒素，不使用活性炭，避免了活性炭中杂质对药液的污染，以及使用过程中溶炭现象对药液的污染该方法过滤流畅，过程简单，可有效去除颗粒污染和细菌内毒素，适于规模应用。
一种分子量乙基淀粉注射液制备方法

[发明专利]一种生活污水杂质截留器-CN202310014128.2在审
发明人：刘咸;朱晓敏;宋建清;顾远远;汪鑫 -专利权人：江西西中环境科技有限公司
申请日： 2023-01-05 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： E03C1/26 文献下载
摘要：本发明涉及生活污水杂质处理技术领域，尤其涉及一种生活污水杂质截留器。本发明提供一种无接触处理杂质且能够快速对杂质进行清理的生活污水杂质截留器。一种生活污水杂质截留器，包括有上导管、第一容纳腔、第二容纳腔和下导管等，第一容纳腔下部左右两侧均开有通孔，第一容纳腔右上部安装有上导管，第一容纳腔右下部安装有第二容纳腔，第二容纳腔左下部安装有下导管，上导管通过第二推杆向下移动，带动推板向下移动，推板向下移动能够将杂质推出，从而能够实现无接触地快速对杂质进行清理的目的，避免杂质对人们手部带来污染，且利于简化灰尘清理操作。
一种生活污水杂质截留

[发明专利]一种用于制造半导体衬底的方法-CN201010223760.0有效
发明人：克里斯托夫·马勒维尔 -专利权人：硅绝缘体技术有限公司
申请日： 2010-06-18 - 公布日： 2011-03-23 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于制造绝缘体上半导体衬底的方法，该方法包括以下步骤：a)提供具有第一杂质类型的第一杂质浓度的第一半导体衬底，b)使第一半导体衬底经受第一热处理，从而降低与第一半导体衬底的一个主表面相邻的改性层中的第一杂质浓度，c)将具有降低的第一杂质浓度的改性层至少部分地转移到第二衬底上，从而获得改性的第二衬底，以及d)特别是通过常规外延生长，提供具有不同于第一杂质类型的第二杂质类型的第二杂质浓度的层。通过这样做，可以防止由第二杂质类型掺杂物对使用具有第一杂质类型掺杂物的半导体材料的生产线的污染。
一种用于制造半导体衬底方法

[发明专利]一种低成本去除冶金硅中杂质硼的方法-CN201910614564.7有效
发明人：黄仕华;周理想;陈达;丁月珂;芮哲 -专利权人：浙江师范大学
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C01B33/037 文献下载
摘要：本发明公开了一种低成本的去除冶金硅中杂质硼的方法，采用高温热氧化法首先在冶金硅表面生长二氧化硅薄层，其次通过热处理方式，调控杂质硼在二氧化硅/硅界面处的分凝，以及调控杂质硼过饱和析出、富集并偏析至硅晶界处，使得冶金硅内部的杂质硼扩散到二氧化硅/硅界面附近，然后去除二氧化硅，最后采用化学湿法酸处理，达到去除杂质的目的。本发明提出的新方法的总杂质去除率大于96％，杂质硼去除率大于93％，具有总杂质和硼杂质去除效率高、工艺流程短、生产成本低、污染小等特点，很容易在产业化上进行推广应用。
一种低成本去除冶金杂质方法

[实用新型]一种便于清理杂质的精开棉机-CN202223415350.3有效
发明人：赵明;张永华;尚旭辉 -专利权人：青岛宏大瑞佳机电科技有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： D01G9/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了开棉机技术领域的一种便于清理杂质的精开棉机，包括本体，所述本体的内腔左右侧壁上侧固定连接有开棉机构，所述本体的后侧壁中间固定连接有集尘箱，所述本体的内腔左侧壁通过螺栓固定连接有真空泵，该便于清理杂质的精开棉机，结构设计合理，通过真空泵提供动力，将粉尘杂质吸入集尘布袋的内腔，通过集尘布袋收集，抑制粉尘杂质飘散，便于粉尘杂质的清理，提高开棉机的除杂质量，且避免了工作环境的污染，通过电机提供动力，带动螺旋杆转动，通过螺旋杆推动杂质在输料筒的内腔移动，便于对杂质的定量输出，可自由控制杂质排放，在更换外置垃圾箱时，实现不需要停机操作，提高了精开棉机的工作效率。
一种便于清理杂质精开棉机

[实用新型]滚筒洗衣机-CN202223282201.4有效
发明人：戴传法;汪文杰 -专利权人： TCL家用电器（合肥）有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： D06F37/06 文献下载
摘要：本申请提供一种滚筒洗衣机，包括：滚筒，所述滚筒包括围设形成容纳空间的底壁和侧壁；提升组件，设置于所述容纳空间内，所述提升组件包括提升筋和杂质收集盒，所述提升筋与所述侧壁连接，所述提升筋设置有容纳槽，所述杂质收集盒设置于所述容纳槽内，且与所述提升筋可拆卸连接，所述杂质收集盒开设有与所述容纳空间连通的过水孔。通过在提升筋处增加杂质收集盒，可以在洗涤过程中对滚筒内的杂质如毛绒进行收集，减少杂质在滚筒底部的堆积，进而减少对衣物的二次污染。将杂质收集盒设置在提升筋处，充分利用了提升筋处的空间，且可以跟随提升筋运动，以使得洗涤过程中杂质收集盒与洗涤水充分接触，从而提升杂质收集盒的收集效果。
滚筒洗衣机

[发明专利]一种印染废水处理工艺-CN201611262567.1在审
发明人：童燕飞;韩建平;史仕波;祝福;施耀;刘忠桂 -专利权人：四川亿龙环保工程有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：一种印染废水处理工艺，（1）预理过程，除去废水中的杂质，并在一定程度上进行脱色处理，降低后续处理过程的负荷；（2）生化处理过程，将废水中的有机污染物进行降解；（3）深度处理过程，进一步地去除废水中的杂质、有机污染物和色度。
一种印染废水处理工艺

[发明专利]一种降低EPA乙酯产品中环境污染物和异构体杂质的方法-CN202110668334.6在审
发明人：何彪;阳舒波;苏诚 -专利权人：四川国为制药有限公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C07C69/587 文献下载
摘要：本发明提供一种降低EPA乙酯产品中环境污染物和异构体杂质的方法。该方法利用高真空精馏结合尿素包合再结合制备色谱制备高纯度的EPA乙酯产品，经过特定的高真空精馏和制备色谱参数可实现一方面将鱼油粗品原本存在的环境污染物，异构体杂质的含量降低至非常低的范围，同时抑制制备过程中
一种降低 epa 产品环境污染物异构体杂质方法

[发明专利]半导体装置的制造方法-CN200410089652.3无效
发明人：饭塚胜彦;冈田和央;森智典;土桥博之;铃木弘之;本多孝好;谷口敏光 -专利权人：三洋电机株式会社
申请日： 2004-10-29 - 公布日： 2005-05-04 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：一种半导体装置的制造方法，不产生硅衬底的削减或碳污染，形成LDD结构或金属硅化物区域。在栅极电极3的侧面部形成衬垫6时，将绝缘膜5的蚀刻分为干蚀刻和湿蚀刻两个阶段进行。另外，使用氮化硅膜作为高浓度杂质物注入时的缓冲膜，利用湿蚀刻除去该膜。其结果可防止硅衬底1的削减，防止碳污染，另外，由作为湿蚀刻特征的选择比的大小，杂质区域或硅化物形成区域的深度或电阻的面内的偏差变小。
半导体装置制造方法

[实用新型]电烙铁支架-CN201220639395.6有效
发明人：熊国明;周易斌 -专利权人：熊国明
申请日： 2012-11-28 - 公布日： 2013-07-03 - 主分类号： B23K3/08 文献下载
摘要：焊接完成后，散热风扇可用于加速被焊物体散热，同时也可以减少杂质掉进助焊剂存储盒内污染助焊剂，助焊剂存储盒上设有防尘盖可以有效的防止杂质掉进助焊剂存储盒内污染助焊剂。
电烙铁支架

[实用新型]一种钝化池-CN202021575303.3有效
发明人：朱晓春 -专利权人：余姚市永林机械科技有限公司
申请日： 2020-08-01 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： C23C22/00 文献下载
摘要：本申请解决了当钝化池不使用时，杂质容易进入钝化池内污染钝化液的问题，具有外界杂质不易进入池体内污染锌液，保证了钝化液的纯度，提高了钝化液的使用效率的效果。
一种钝化

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