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- [发明专利]一种AOI特殊扫描作业的方法-CN202011549759.7在审
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刘磊;高美山;姜红涛
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江苏汇成光电有限公司
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2020-12-24
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2021-04-23
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G01N21/95
- 本发明公开了一种AOI特殊扫描作业的方法,所述AOI特殊扫描作业包括以下步骤:步骤一:AOI扫描对比,所述AOI扫描对比包括基准点对位和原始文件与生产文件对比,所述述原始文件和生产文件对比包括根据PCB设计和进行原始文件拼板,在调整前,对扫描区域进行全面扫描(不区分PL区域);步骤二:扫描结果分区域检验;步骤三:使用Edit Map进行调整;步骤四:作业流程对比;步骤五:根据客户不同检验需求可调整Map分特殊区域作业;步骤六:针对Map框选有效区域扫描作业;步骤七:AOI扫描最终结果。该AOI特殊扫描作业的方法,能够作业模式多元化,可对Wafer进行分区域扫描,针对异常区域性扫描,有效节省时间,提高效率,可满足客户不同检验需求。
- 一种aoi特殊扫描作业方法
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