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[发明专利]掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法-CN201811451346.8在审
发明人：名古屋淳 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明提供掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。在进行掩模(1、2)彼此的校准时，在离开了基板(S)的位置处将第一辅助掩模标记(12)与第二辅助掩模标记(22)重合并用相机8)确认该状态。在进行掩模(1、2)相对于基板(S)的校准时，将第一掩模标记(11)与第二掩模标记(21)重合，用相机(8)通过基板(S)的校准开口(Sm)进行摄影。
掩模基板辅助掩模掩模标记两面曝光装置校准重合相机作业位置曝光位置处开口并用保留摄影

[发明专利]对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法以及存储介质-CN202110480488.2在审
发明人：小林康信 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：提高基板与掩模的对准的精度。对准装置进行基板和掩模的对位。检测构件检测设置于掩模的第一掩模标记和第二掩模标记、以及与第一掩模标记对应地设置于基板的第一基板标记。设定构件基于由检测构件检测到的第一基板标记的位置信息，设定与第二掩模标记对应的基板上的假想位置信息。位置调整构件基于假想位置信息和由检测构件检测到的第一掩模标记、第二掩模标记及第一基板标记的位置信息，进行基板和掩模的位置调整。
对准装置方法电子器件制造以及存储介质

[发明专利]掩模板及基板标记制作方法-CN201410203162.5在审
发明人：魏小丹;张兴强;赵巍;闫虹旭 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2014-05-14 - 公布日： 2014-08-20 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，公开了一种掩模板及基板标记制作方法，以提高基板标记制作的准确性，降低产品的监控难度，降低生产成本。掩模板包括：显示区域掩模部；至少一对测试标记掩模部，每一对测试标记掩模部位于显示区域掩模部的两侧且位置相对，每一个测试标记掩模部远离显示区域掩模部的外侧对应设置有保护标记掩模部，保护标记掩模部的图形轮廓大于测试标记掩模部的图形轮廓使用该掩模板对具有双重曝光区的相邻两个面板区域进行曝光时，即使第一次曝光与第二次曝光存在位置偏差，也能够保证测试标记的图形轮廓大小与理论设计相符，因此，使用该基板标记制作方法能够提高基板标记制作的准确性
模板标记制作方法

[发明专利]光掩模版及其制作方法、图形化的方法-CN200710094458.8无效
发明人：肖德元;隋建国;刘永 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种光掩模版制作方法，包括：将布局对准标记图案写入光掩模版上，形成掩模版对准标记图案；将布局半导体器件图案写入所述光掩模版上，形成与所述掩模版对准标记图案相邻的掩模版半导体器件图案。本发明还提供一种光掩模版和图形化的方法。本发明将掩模版半导体器件图案和掩模版对准标记图案做在同一光掩模版上，在晶圆半导体器件区域将光掩模版上掩模版半导体器件图案与之对准并曝光，在晶圆对准标记区域将光掩模版上的掩模版对准标记图案与之对准并曝光。简化了光刻步骤，节省了工艺时间及光掩模版材料。
模版及其制作方法图形方法

[发明专利]一种基于掩模板的投影物镜性能测试装置以及方法-CN201410199385.9有效
发明人：李天鹏;何经雷 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-05-12 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开一种基于掩模板的投影物镜性能测试装置，包括：一掩模台组件，用于将该掩模板的标记阵列经该投影物镜成像形成以标记像点；一掩模台对准组件，用以实现该掩模台组件的对准安装；一标记探测组件，该标记探测组件用于测量该掩模板的标记阵列及该标记像点以获得该投影物镜的波前信息
一种基于模板投影物镜性能测试装置以及方法

[发明专利]压电振动片的制造方法、压电振动器、振荡器、电子设备及电波钟-CN201210040479.2无效
发明人：色川大城 -专利权人：精工电子有限公司
申请日： 2012-02-14 - 公布日： 2012-08-15 - 主分类号： H03H3/02 文献下载
摘要：本发明提供一种提高掩模对位的操作性并提高对位精度、能容易且高精度地形成压电板、电极的压电振动片的制造方法、压电振动器、振荡器、电子设备及电波钟。包括：检测圆片侧标记组(71)和电极掩模侧标记组(52)的电极标记组检测工序；以及将圆片侧标记组(71)和电极掩模侧标记组(52)对位并在圆片上配置电极膜用掩模的电极掩模配置工序，圆片侧标记组(71)及电极掩模侧标记组(52)分别以彼此大小不同的标记(51a～71d)构成，将各自最小的圆片侧标记(71d)及电极掩模侧标记(52d)用作为彼此的标记对位，将除此以外的圆片侧标记(71a～71c)及电极掩模侧标记(52a～52c)利用到电极标记组检测工序中。
压电振动制造方法振动器振荡器电子设备电波

[发明专利]一种对准装置、方法及对准重复性检测方法-CN202010612166.4在审
发明人：杨金良;陈小娟;忻斌杰 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：对准装置包括照明系统、掩模版、投影物镜、基准板、探测器以及控制系统，基准板上设置有至少一个基准标记，探测器的通道与基准标记一一对应；基准标记包括至少一个基准子标记，基准子标记包括至少一个沿X方向延伸的X向基准狭缝和至少一个沿Y方向延伸的Y向基准狭缝；掩模版上设置有掩模标记，掩模标记包括至少一个掩模子标记，掩模子标记包括至少一个沿X方向延伸的X向掩模狭缝和至少一个沿Y方向延伸的Y向掩模狭缝。本发明实施例提供的技术方案根据单对基准标记和掩模标记即可确定掩模版相对于基准板在X方向和Y方向上的位置，如此，可减小探测器的通道数量，降低成本。
一种对准装置方法重复性检测

[发明专利]一种测量镜面形补偿效果的方法-CN201210001423.6有效
发明人：李煜芝;李术新;孙刚 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-01-05 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：一种测量镜面形补偿效果的方法，应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、掩模台干涉仪系统、掩模对准系统，掩模台贴附有长条镜，干涉仪光束通过长条镜反射，控制掩模台运动，该方法包括上载具有测试标记的掩模，测试标记包括若干子标记，子标记排成一列；掩模台干涉仪系统控制掩模台沿若干子标记的排列方向运动，通过掩模对准系统进行对准测量，分别获得若干子标记的对准位置，测试标记与掩模对准系统的对准标记相匹配
一种测量镜面形补偿效果方法

[发明专利]获取视频中的标记掩模的方法和装置-CN202011105701.3有效
发明人：李福林;邓凡博;陈宇聪;陶鑫;吴明达;戴宇荣;于冰 -专利权人：北京达佳互联信息技术有限公司
申请日： 2020-10-15 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：本公开提供了一种获取视频中的标记掩模的方法和装置，其特征在于，包括：从所述视频中存在标记的标记帧中划分出标记区域，其中，标记区域是视频帧中位于特定位置的包含标记的一部分区域；在所述视频的视频帧中确定用于提取标记掩模的视频帧；对用于提取标记掩模的视频帧的标记区域的标记的边缘进行叠加强化以得到包含强化的边缘信息的标记区域的图像；基于包含强化的边缘信息的标记区域的图像获取所述视频中的标记掩模。根据本公开的获取标记掩模的方法和装置能够提取精确的标记掩模，避免构建庞大的标记数据库进行模板匹配，并且可减少后续标记去除的计算量。
获取视频中的标记方法装置

[发明专利]一种运动台定位误差补偿装置及补偿方法-CN201610925991.3有效
发明人：韩春燕;陈南曙 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-10-24 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种运动台定位误差补偿装置及补偿方法，该装置包括掩模版，掩模版上设有用于运动台定位误差测量的测量标记，测量标记包括X向测量标记和Y向测量标记；掩模台，用于承载掩模版；工件台，用于承载涂胶后的基底；投影物镜，将掩模版上的测量标记成像到基底上；对准装置，用于测量测量标记在显影后基底上的成像标记。在掩模版上设置X向测量标记和Y向测量标记，针对工件台和掩模台进行定位误差测试曝光，通过对准装置测量得到工件台和掩模台的定位误差，数据处理得到定位误差补偿表；利用得到的补偿表分别对工件台控制系统和掩模台控制系统进行前馈补偿
一种运动定位误差补偿装置方法

[发明专利]氧化铟锡图案曝光装置-CN201310547903.7有效
发明人：行田道知;浅见正利 -专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日： 2013-11-07 - 公布日： 2017-10-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化铟锡图案曝光装置，其能够防止干涉条纹的产生，良好地保持膜标记的图像识别。在膜掩模（1）的与膜标记（60）对应的位置形成有掩模孔（2），膜掩模（1）被切开而开出孔。掩模孔（2）的尺寸充分大于膜标记（60）的尺寸，由于该掩模孔（2），不会在膜标记（60）的上部发生膜掩模（1）和掩模架（3）的贴合，不会在标记上产生干涉条纹。
氧化图案曝光装置

[发明专利]掩模板和掩膜板的定位方法-CN201110221058.5有效
发明人：魏小丹;熊正平;孙学佳;张同局;江俊波 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-08-03 - 公布日： 2012-08-29 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模板和掩模板的定位方法，涉及微电子领域，能够采用单张掩模板实现重复曝光时图形的对位重合。一种掩膜板，所述掩膜板设置有基准对位标记和与所述基准对位标记相对位的对准对位标记。方法包括：使用掩模板正常曝光，将所述掩模板上的对位标记全部制作于基板上，所述掩模板上的对位标记包括基准对位标记和与所述基准对位标记相对位的对准对位标记；移动基板，将所述基板上的对准对位标记与所述掩模板基准对位标记相对位；设置曝光机的补偿值，根据输入的曝光机的补偿值，控制曝光机进行补偿，抵消所述基板上的对准对位标记和所述掩模板上的基准对位标记间的间距，完成掩膜板与基板的对位后曝光。
模板掩膜板定位方法

[发明专利]一种用于纳米压印金属光栅拼接对齐的掩模及金属光栅拼接方法-CN202111528666.0有效
发明人：简旸;葛海雄 -专利权人：南京大学
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明属于微纳米加工技术领域，提供了一种用于纳米压印金属光栅拼接对齐的掩模及金属光栅拼接方法。本发明提供的掩模，包括基准掩模和对齐掩模；所述基准掩模设置有若干个基准标记；所述基准标记包括正方形基准点和第一游标；所述正方形基准点设置有十字型狭缝；所述对齐掩模上设有至少一个对齐标记；所述对齐标记包括十字型对齐点和第二游标本发明的对齐掩模中的对齐标记和基准掩模中的基准标记对齐，能减少金属光栅拼接的误差，提高对齐精度。
一种用于纳米压印金属光栅拼接对齐方法

[发明专利]对准装置及对准方法、以及成膜装置及成膜方法-CN202110978988.9在审
发明人：谷和宪;神田宽 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供抑制对准中的基板与掩模接触的技术。所述对准装置具备：掩模支承机构；在与掩模平行的面中支承基板的基板支承机构；拍摄掩模标记和基板标记的拍摄机构；变更拍摄机构的对焦范围的对焦范围变更机构；以及调整掩模与基板的相对位置的对准机构，其中，在对焦范围变更机构以包含掩模标记的方式变更了对焦范围的状态下，拍摄机构进行拍摄掩模标记的第一拍摄动作，在基板支承机构使基板移动到与掩模不接触的位置，且对焦范围变更机构以包含基板标记的方式变更了对焦范围的状态下，拍摄机构进行拍摄基板标记的第二拍摄动作，对准机构使用通过第一拍摄动作拍摄到的掩模标记和通过第二拍摄动作拍摄到的基板标记，调整掩模与基板的相对位置。
对准装置方法以及

[发明专利]曝光装置-CN201480046673.9有效
发明人：渡边智也;松冈尚弥;山根茂树 -专利权人：株式会社村田制作所
申请日： 2014-08-18 - 公布日： 2017-10-10 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：提供一种曝光装置，即便是设于工件的背面的对准标记，也能可靠地使其与掩模对准标记对位，并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括掩模(13)，该掩模(13)设有掩模对准标记(131)；掩模保持件(12)，该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持；平台(15)，该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定，该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141)，该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件，当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时，该光学零件使光在内部奇数次反射，以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像，平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。
曝光装置

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