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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光学膜组件-CN201410414526.4在审
发明人：何宽鑫;云花;赵峰;曾龙;许毅中;徐国书;张春勇;林余钧 -专利权人：宸鸿科技（厦门）有限公司
申请日： 2014-08-21 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学膜组件，包含一基板、一抗眩层、一第一抗反射层以及一第二抗反射层。抗眩层设置于基板上，且抗眩层具有一微粗糙结构，位于相反于基板的一侧。第一抗反射层设置于抗眩层的微粗糙结构上，且抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间。第二抗反射层设置于第一抗反射层上，且第一抗反射层位于抗眩层以及第二抗反射层之间。其中，第一抗反射层的折射率相异于抗眩层的折射率。藉此，本发明可以提升光学膜组件的抗眩以及抗反射的功效，同时亦可具有高穿透效果。
光学组件

[发明专利]多层式电介质抗反射层及其形成方法-CN02107423.2有效
发明人：陆志诚;陈启群;张文 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2002-03-15 - 公布日： 2003-10-01 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种多层式电介质抗反射层，适用于一基质与一光阻层之间，是在该基质上依序形成第一电介质抗反射层，接着在该第一电介质抗反射层上进行特别的电浆处理，如N2O电浆强化，形成第一电浆强化抗反射层。其中第一电介质抗反射层与第一电浆强化反射层形成一抗反射层组合。接着在该第一电浆强化抗反射层上依序形成N层该抗反射层组合以形成一多层式电介质抗反射层，其中N为自然数，介于1－4之间。
多层电介质反射层及其形成方法

[发明专利]多重抗反射层及其采用此种多重抗反射层的微影制造方法-CN03131458.9无效
发明人：曹兆玺 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2003-05-14 - 公布日： 2004-11-24 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明是关于一种多重抗反射层及其采用此种多重抗反射层的微影制造方法，其中，该多重抗反射层是由至少两层的抗反射层夹着一层硬罩幕层所组成，其可在不受硬罩幕层厚度变化的影响下，使多重抗反射层达到降低反射率的效果该多重抗反射层的微影制造方法，包括以下制程步骤：在一基底上形成一多重抗反射层，该多重抗反射层是由至少二抗反射层以及夹于该二抗反射层之间的一硬罩幕层所构成；在该二抗反射层上形成一光阻层；以及进行一曝光制程与一显影制程本发明利用该多层接口形成多次相消性干涉，而可达到降低反射率的功效；其不需要严格限制硬罩幕层的厚度，即可利用简单制程获致低反射率的抗反射结构，而具有产业的利用价值。
多重反射层及其采用制造方法

[实用新型]光学膜组件-CN201420474689.7有效
发明人：何宽鑫;云花;赵峰;曾龙;许毅中;徐国书;张春勇;林余钧 -专利权人：宸鸿科技（厦门）有限公司
申请日： 2014-08-21 - 公布日： 2015-01-14 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学膜组件，包含一基板、一抗眩层、一第一抗反射层以及一第二抗反射层。抗眩层设置于基板上，且抗眩层具有一微粗糙结构，位于相反于基板的一侧。第一抗反射层设置于抗眩层的微粗糙结构上，且抗眩层位于基板以及第一抗反射层之间。第二抗反射层设置于第一抗反射层上，且第一抗反射层位于抗眩层以及第二抗反射层之间。其中，第一抗反射层的折射率相异于抗眩层的折射率。藉此，本实用新型可以提升光学膜组件的抗眩以及抗反射的功效，同时亦可具有高穿透效果。
光学组件

[发明专利]多层式抗反射层以及采用该多层式抗反射层的半导体制程-CN03141061.8有效
发明人：黄则尧;陈逸男;吴文彬 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2003-06-13 - 公布日： 2005-01-19 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明揭示了一种多层式抗反射层以及采用该多层式抗反射层的半导体制程。上述多层式抗反射层适用于一基底，包括一介电质抗反射层形成于该基底上，以及一有机抗反射层形成于该介电质抗反射层上。
多层反射层以及采用半导体

[发明专利]抗反射涂层及其制造方法-CN201210534952.2有效
发明人：吴秉哲;河忠秀;李东焕;李祥旭;申度铉;李熙信 -专利权人：三星显示有限公司;（株）韩一真空机械;株式会社度恩
申请日： 2012-12-11 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： G02B1/115 文献下载
摘要：透明无色度的抗反射涂层，其包括衬底以及抗反射层，所述抗反射层包括交替布置在所述衬底上的多个高反射层和多个低反射层，所述抗反射层的反射比在整个可见射线波长范围为0.01%至1.2%。
反射涂层及其制造方法

[发明专利]显示面板-CN202010407586.9有效
发明人：赵永超 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本申请提出了一种显示面板，该显示面板包括：阵列基板、以及位于阵列基板上的光学功能层和抗反射层，抗反射层的材料包括含硫材料。其中，抗反射层的折射率在抗反射层相邻的两膜层的折射率之间。本申请通过具有含硫材料的抗反射层的设置，使抗反射层的折射率在抗反射层相邻的两膜层的折射率之间，减少了显示面板对于外界光的反射，提升了显示面板的显示效果。
显示面板

[发明专利]叠层底部抗反射结构及刻蚀方法-CN200810205382.6有效
发明人：韩秋华;舒强 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2008-12-31 - 公布日： 2010-07-07 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明涉及叠层底部抗反射结构及刻蚀方法。其中，叠层底部抗反射结构，包括有机底部抗反射层和其上的第一层含硅底部抗反射层，所述第一层含硅底部抗反射层之上还设有氧化硅层。与现有技术相比，本发明在含硅底部抗反射层之上还设有氧化硅层，可以保护含硅底部抗反射层在刻蚀其下的有机底部抗反射层时不受损伤，从而保持图形转移的精确性。
底部反射结构刻蚀方法

[发明专利]微型显示器的制造方法-CN200510113379.8有效
发明人：吴沂庭;陈世鸿;蔡怀萱;郑志鸿;蔡健华;陈炫旭 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-10-11 - 公布日： 2007-04-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：然后，于晶片上形成金属反射层，接着，于金属反射层上依序形成抗反射层与图案化的光致抗蚀剂层，之后，以图案化的光致抗蚀剂层为蚀刻掩模，于抗反射层与金属反射层中形成沟渠图案，以曝露出晶片表面。随后，再移除图案化的光致抗蚀剂层。然后，形成介电层以覆盖抗反射层，且填入沟渠图案中。接着，移除部分介电层与抗反射层，直至曝露出金属反射层表面。
微型显示器制造方法

[发明专利]离子注入阻挡层的制作方法-CN201510662096.2有效
发明人：崇二敏;朱轶铮 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2015-10-14 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： H01L21/266 文献下载
摘要：本发明提供一种离子注入阻挡层的制作方法，包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上形成抗反射层；在所述抗反射层上形成有图形的光刻胶层；以所述光刻胶层为掩膜，对所述抗反射层进行第一刻蚀工艺，去除一部分厚度的抗反射层；对所述第一刻蚀工艺后的抗反射层进行表面硬化工艺，在所述光刻胶层以及所述抗反射层表面形成保护层；进行第三刻蚀工艺，去除所述半导体表面剩余的抗反射层。本发明解决了由于抗反射层的厚度负载引起的某些抗反射层被过刻蚀的情况，改善了半导体器件的性能。
离子注入阻挡制作方法

[实用新型]一种抗反射层上涂布有高疏水层的高疏水抗反射膜-CN202222626610.5有效
发明人：魏金龙 -专利权人：中山金利宝新材料股份有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C08J7/046 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种抗反射层上涂布有高疏水层的高疏水抗反射膜，包括主体层、附着在主体层上的硬化层、附着在硬化层上的抗反射层，附着在所述抗反射层上高疏水层；硬化层保证抗反射层能具备一定的硬度；抗反射层保证抗反射膜能够有效分散反射强度；高疏水层与所述抗反射层通过化学键连接，不但增加了水接触角，具有疏水疏油的功能；并且提供高强度的附着力，降低表面摩擦系数，并耐摩擦；使抗反射膜兼顾降低反射率与耐磨擦性能要求；延长抗反射膜使用寿命。
一种反射层上涂布有高疏水反射

[发明专利]复合基板结构及触控装置-CN201410414518.X在审
发明人：许毅中;徐国书;张春勇 -专利权人：宸鸿科技（厦门）有限公司
申请日： 2014-08-21 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明公开了一种复合基板结构，包含一透明基板、一抗反射层及一抗眩光层。抗反射层设置于透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，该第一抗反射膜的折射率大于透明基板。抗眩光层设置于抗反射层，并与透明基板分别位于抗反射层的两相反侧。该抗眩光层的折射率小于该第一抗反射膜，且具有一远离该抗反射层的粗糙表面。藉此，本发明复合基板结构兼具抗反射、抗眩光、防污、抗磨损等功效。
复合板结装置

[发明专利]接触孔的制作方法-CN201010218077.8有效
发明人：王新鹏 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2010-06-23 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明公开了一种接触孔的制作方法，包括：在衬底上依次形成导电层、刻蚀停止层、介电层、收缩层、第一抗反射层、第二抗反射层和带有图案的光刻胶层；以所述光刻胶层作为掩膜，对所述第二抗反射层进行刻蚀；以所述光刻胶层和所述第二抗反射层为掩膜，对所述第一抗反射层进行刻蚀；以所述光刻胶层、所述第二抗反射层和所述第一抗反射层为掩膜，对所述收缩层进行刻蚀；以所述收缩层为掩膜，对所述介电层进行刻蚀；去除所述光刻胶层、所述第二抗反射层、所述第一抗反射层和所述收缩层
接触制作方法

[发明专利]一种化合物电池的抗反射镀膜结构-CN201611097204.7在审
发明人：宋德伟 -专利权人：深圳市和光立源新能源发展有限公司
申请日： 2016-12-02 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本发明公开了一种化合物电池的抗反射镀膜结构，包括化合物电池，化合物电池表面设有抗反射镀膜结构，抗反射镀膜结构包括第一层抗反射层，第一层抗反射层上设有第二层抗反射层，第一层抗反射层与第二层抗反射层之间设有镀膜介质层；所述的第一层抗反射层为硫化锌层，所述的第二层抗反射层为氟化镁层；本发明的有益效果是：设计合理，结构简单，降低化合物电池的度电成本，提高了化合物电池的光电转换效率，增加了光能源利用率，减少了光能源浪费及光污染
一种化合物电池反射镀膜结构

[发明专利]具有抗反射涂层的玻璃制品-CN202080020617.3在审
发明人： J·倪;S·瓦拉纳西 -专利权人：皮尔金顿集团有限公司
申请日： 2020-03-13 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： C03C3/087 文献下载
摘要：涂层包括沉积在玻璃基材上方的第一抗反射层，该第一层具有1.6以上的折射指数和小于λ/(4*n)的厚度。第二抗反射层沉积在第一抗反射层上方，该第二抗反射层的厚度大于第一抗反射层的厚度和折射指数小于第一抗反射层的折射指数。玻璃制品表现出小于6.0％的总可见光反射比。
具有反射涂层玻璃制品

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