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[发明专利]一种投射模组的检测装置及其检测方法-CN202111664737.X在审
发明人：刘振业;王一琪;王国庆;杨海欣;张书潘;陈明杰;陈宏;齐浪;许强;褚南军 -专利权人：宁波舜宇光电信息有限公司
申请日： 2021-12-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种投射模组的检测装置和检测方法，检测装置包括检测构件和机架，检测构件包括显微成像模块，显微成像模块包括第一光学系统和第二光学系统，第二光学系统将第一光学系统采集到的微型显示面板显示的标准图像进行成像，得到对应于标准图像的间隔像素图；机架包括基座、驱动轨道以及至少一夹具，驱动轨道安装于基座上，夹具可移动地安装于驱动轨道，夹具适于固定投射模组的微型显示面板，夹具通过驱动轨道驱动待检测的投射模组依次相对于检测构件从而其通过可拆卸组装的第一光学系统和第二光学系统对微型显示面板完成像素的显示成像，无需超高分辨率显微镜头，有效减少选型难度，有利于降低成本。
一种投射模组检测装置及其方法

[发明专利]使用波前分析的光学系统的客观测量和校正-CN97182533.5无效
发明人：鲁道夫·W·弗雷;詹姆斯·H·伯克哈尔特;尼尔·泽浦金;爱德华·帕博里尔斯;约翰·A·坎宾 -专利权人：自控技术公司
申请日： 1997-11-21 - 公布日： 2001-04-11 - 主分类号： G01J1/00 文献下载
摘要：一种用于聚焦光学系统的客观测量和校正的系统和方法包括布置在光束(18)的通路中的光学系统,该光学系统引导光束通过聚焦光学系统,例如即眼睛(120),并且把光束聚焦在其后部(122)处。该光束扩散地反射回,并且一个波前分析器(26)布置在从光学系统投射的波前的通路中,并且计算失真作为聚焦光学系统的象差估计。
使用分析光学系统客观测量校正

[发明专利]投射光学系统以及图像投射装置-CN201780003123.2在审
发明人：内田恒夫;山田克 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2017-03-08 - 公布日： 2018-05-11 - 主分类号： G02B17/08 文献下载
摘要：一种投射光学系统及图像投射装置，投射光学系统(100)将图像从倾斜位置放大投射至投射面(1)，具备透过光学系统(110)和透过元件(140)。透过光学系统(110)包括透镜元件，放大图像显示元件(130)显示的图像。透过元件(140)配置在透过光学系统(110)与投射面(1)之间的光路上，不遮挡图像的光线而使其透过。在透过元件(140)的入射面及出射面的至少一个面，将从图像射出并通过透过光学系统(110)的光瞳的中心的主光线中的从图像的中心射出的光线通过的点设为基准交点，将通过基准交点并与Y轴的正方向对应的方向平行的线设为基准纵交线
投射光学系统以及图像装置

[发明专利]投影仪-CN202110274383.1有效
发明人：增泽健太 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：一种投影仪，提高配置于投影仪的装置前面的传感器与投射光学系统的相对位置精度。投影仪具有：光源；光调制装置，其对从光源射出的光进行调制；投射光学系统，其投射由光调制装置调制后的光；图像传感器，其取得与由投射光学系统投射的像相关的信息；壳体，其收纳光源、光调制装置以及图像传感器；传感器保持部投射光学系统具备在内部收纳透镜并供由光调制装置调制后的光通过的镜筒。镜筒借助镜筒保持部被壳体保持。传感器保持部被镜筒保持部保持。
投影仪

[发明专利]投射式图像显示装置-CN200610139212.3无效
发明人：李迎铁;赵虔皓;李钟洙;朴宰贤 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2006-09-18 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： G02B27/18 文献下载
摘要：本发明提供一种具有高度矮的颏部的薄的投射式图像显示装置，其包括机壳、屏幕、投射光学系统、光路改变单元和反射单元。屏幕被设置在机壳的前侧。投射光学系统用于放大和投射由显示元件形成的图像，并且光路改变单元被设置在机壳的底部上，用于反射被投射光学系统放大和投射的图像。投射光学系统被设置在如下空间中，所述空间在与屏幕垂直的水平面之上，在机壳的前侧之后，并且在入射到屏幕的底部上的光线的光路之下。
投射图像显示装置

[实用新型]成像光学系统、投射型显示装置及摄像装置-CN201720588310.9有效
发明人：永利由纪子 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2017-05-24 - 公布日： 2018-01-09 - 主分类号： G02B13/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种实现小型化并且广角且各像差得到良好校正的具有高投射性能的成像光学系统、具备该成像光学系统的投射型显示装置及具备该成像光学系统的摄像装置。所述成像光学系统从放大侧依次包括第1光学系统(G1)及第2光学系统(G2)，第1光学系统(G1)从放大侧依次包括第1a透镜组(G1a)、第1光路折弯机构(R1)及第1b透镜组(G1b)，第2光学系统(G2)从放大侧依次包括第2a透镜组(G2a)、第2光路折弯机构(R2)及第2b透镜组(G2b)，第2光学系统(G2)将图像显示面Sim上的图像作为中间像来成像，第1光学系统(G1)将中间像成像在放大侧共轭面上
成像光学系统投射显示装置摄像装置

[发明专利]投射光刻系统的光瞳分面反射镜、照明光学单元及光学系统-CN201880085830.5在审
发明人： M.德冈瑟 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2018-11-26 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及投射光刻系统的光学系统，掩模母版上的投射光学系统的照明辐射的角度空间在第一方向上是照明光学单元的照明辐射的角度空间的两倍。
投射光刻系统光瞳分面反射照明光学单元光学系统

[发明专利]眼科装置-CN201310491687.9无效
发明人：池上朋之 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2013-10-18 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： A61B3/103 文献下载
摘要：该眼科装置包括：投射光学系统，被配置为将光束投射到被检眼上；分光构件，被配置为针对来自被检眼的光束形成划分光路；以及成像光学系统，被配置为经由分光构件接收来自被检眼的光束，成像光学系统包括具有减小由分光构件产生的散光的光学特性的光学元件
眼科装置

[发明专利]投射光学系统以及投射型图像显示装置-CN201910202119.X有效
发明人：峯藤延孝 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2019-03-18 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：提供投射光学系统以及投射型图像显示装置，能够使光学系统整体形成为紧凑的结构。形成中间像的第1光学组(40a)和对由第1光学组(40a)形成的中间像进行放大投射的第2光学组(40b)满足各种条件。由此，首先，在投射光学系统(40)被组装到投影仪(2)中的情况下，成为以半视场角为50°以上的视场角进行放大投影的超广角结构。接着通过将具有两个光路偏转部(AP1、AP2)的光路偏转光学系统(60)配置在第1光学组(40a)与第2光学组(40b)之间，抑制了性能劣化，并且使光路弯折。
投射光学系统以及图像显示装置

[发明专利]投射光学系统以及投射型图像显示装置-CN201910202070.8在审
发明人：峯藤延孝 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2019-03-18 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： G02B15/16 文献下载
摘要：提供投射光学系统以及投射型图像显示装置，能够使光学系统整体为紧凑的结构。形成中间像的第1光学组(40a)和对由第1光学组(40a)形成的中间像进行放大投射的第2光学组(40b)满足各种条件。由此，使投射光学系统(40)中的整个透镜系统的全长缩短而呈直线配置，或者使第1光学组(40a)与第2光学组(40b)之间的间隔拉开得较大，在光路中途配置使光路偏转的光路偏转部从而使光路屈曲。
光学组投射光学系统投射型图像显示装置光路偏转中间像光路光学系统全长缩短透镜系统投射配置屈曲紧凑放大

[发明专利]成像光学系统、投射型显示装置及摄像装置-CN202111323053.3在审
发明人：永原晓子 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G02B13/18 文献下载
摘要：本发明提供一种具有宽视角、实现小型化、制造性及组装性优异、保持良好的光学性能的成像光学系统、具备该成像光学系统的投射型显示装置及具备该成像光学系统的摄像装置。成像光学系统从放大侧依次包括第1光学系统和第2光学系统。在第1光学系统与第2光学系统之间形成中间像。第1光学系统中所包括的非球面透镜中在光路上最靠近中间像的非球面透镜即特定透镜在近轴区域具有凸面朝向缩小侧的弯月形状。成像光学系统满足与最大像高、焦距及特定透镜相关的预先设定的条件式。
成像光学系统投射显示装置摄像装置

[发明专利]曝光装置、器件制造系统及器件制造方法-CN201710421666.8有效
发明人：加藤正纪 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2013-11-29 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光
中间像面投影光光学系统成像基板投射投影光学系统光量减少投影光束投影像中间像光罩反射光学系统器件制造系统曝光装置器件制造泄漏光

[发明专利]基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法-CN201380066736.2在审
发明人：加藤正纪 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2013-11-29 - 公布日： 2015-08-26 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光
处理装置器件制造系统方法

[发明专利]倾斜投射光学系统及使用该系统的投射型图像显示装置-CN200910207766.6有效
发明人：平田浩二;谷津雅彦;小仓直之 -专利权人：日立民用电子株式会社
申请日： 2009-10-30 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： G03B21/10 文献下载
摘要：本发明提供一种倾斜投射光学系统及使用该光学系统的投射型图像显示装置，在也能够实现包含超短投射距离的倾斜投射光学系统且具备平面镜的结构的投射型图像显示装置中，消除了倾斜投射造成的梯形变形，且聚焦性能良好的小型且紧凑的固定该投射型图像显示装置具备由多个透镜构成的倾斜投射光学系统，配置于距投射面最近的位置上的透镜，光束透过的图像垂直方向有效区域被配置在上述多个透镜的光轴中不含最多数的透镜所共有的光轴的位置，在该透镜和投射面之间配置有相对于光轴保持规定的角度的光路反射平面镜
倾斜投射光学系统使用系统图像显示装置

[发明专利]倾斜投射光学系统及使用该系统的投射型图像显示装置-CN201210110618.4有效
发明人：平田浩二;谷津雅彦;小仓直之 -专利权人：日立民用电子株式会社
申请日： 2009-10-30 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： G03B21/10 文献下载
摘要：本发明提供一种倾斜投射光学系统及使用该光学系统的投射型图像显示装置，在也能够实现包含超短投射距离的倾斜投射光学系统且具备平面镜的结构的投射型图像显示装置中，消除了倾斜投射造成的梯形变形，且聚焦性能良好的小型且紧凑的固定该投射型图像显示装置具备由多个透镜构成的倾斜投射光学系统，配置于距投射面最近的位置上的透镜，光束透过的图像垂直方向有效区域被配置在上述多个透镜的光轴中不含最多数的透镜所共有的光轴的位置，在该透镜和投射面之间配置有相对于光轴保持规定的角度的光路反射平面镜
倾斜投射光学系统使用系统图像显示装置