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[发明专利]滤光膜及制备方法、滤光片、指纹识别模组及识别方法-CN202110743376.1在审
发明人：孙建成 -专利权人：北京极豪科技有限公司
申请日： 2021-07-01 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本申请提供一种滤光膜及制备方法、滤光片、指纹识别模组及识别方法，应用于指纹识别领域，其中，滤光膜包括：红外截止膜，红外截止膜中设置有红光的滤光单元，红光的滤光单元用于通过部分或全部红色光信号；其中，红光的滤光单元是通过调整红外截止膜的厚度得到的在上述方案中，通过调整红外截止膜的厚度使得红外截止膜上红光的滤光单元对应的区域可以通过红色光信号。因此，在采用本申请实施例提供的滤光膜时，在采用红外截止膜实现防阳光的基础上，可以利用通过的红色光信号实现真假指纹的区分，从而提高具备防阳光效果的指纹识别装置针对真假指纹的防伪性能。
滤光制备方法指纹识别模组识别

[实用新型]滤光膜、滤光片、指纹识别模组及电子设备-CN202121488956.2有效
发明人：孙建成 -专利权人：北京极豪科技有限公司
申请日： 2021-07-01 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本申请提供一种滤光膜、滤光片、指纹识别模组及电子设备，应用于指纹识别领域，其中，滤光膜包括：红外截止膜，红外截止膜中设置有红光的滤光单元，红光的滤光单元用于通过部分或全部红色光信号；其中，红光的滤光单元是通过调整红外截止膜的厚度得到的在上述方案中，通过调整红外截止膜的厚度使得红外截止膜上红光的滤光单元对应的区域可以通过红色光信号。因此，在采用本申请实施例提供的滤光膜时，在采用红外截止膜实现防阳光的基础上，可以利用通过的红色光信号实现真假指纹的区分，从而提高具备防阳光效果的指纹识别装置针对真假指纹的防伪性能。
滤光指纹识别模组电子设备

[发明专利]光谱成像芯片结构-CN202111207532.9在审
发明人：姜洪妍;刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;王才喜 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种光谱成像芯片结构，该光谱成像芯片结构包括像素感光单元、窄带滤光膜、过渡层、第一、第二和第三截止滤波膜，窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上，过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上，第一截止滤波膜一体式沉积生长在窄带滤光膜上，第一截止滤波膜用于截止第一干扰波段，过渡层用于过渡窄带滤光膜和第一截止滤波膜两个膜系，第二截止滤波膜粘贴设置在第一截止滤波膜上，第二截止滤波膜用于截止第二干扰波段，第三截止滤波膜粘贴设置在第二截止滤波膜上，第三截止滤波膜用于截止第三干扰波段。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低、量子效率低的技术问题。
光谱成像芯片结构

[发明专利]光谱成像系统-CN202111207538.6在审
发明人：刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;姜洪妍;王才喜 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本发明提供了一种光谱成像系统，该光谱成像系统包括像素感光单元和光谱成像单元，光谱成像单元包括窄带滤光膜、过渡层、第一、第二和第三截止滤波膜，窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上，过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上，过渡层用于过渡窄带滤光膜和第一截止滤波膜两个膜系，第一截止滤波膜一体式沉积生长在窄带滤光膜上，第一截止滤波膜用于截止第一干扰波段，第二截止滤波膜设置在第一截止滤波膜上，第二截止滤波膜用于截止第二干扰波段，第三截止滤波膜设置在第二截止滤波膜上，第三截止滤波膜用于截止第三干扰波段。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低、量子效率低的技术问题。
光谱成像系统

[发明专利]光谱成像芯片结构-CN202111207534.8在审
发明人：姜洪妍;刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;王才喜 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种光谱成像芯片结构，该光谱成像芯片结构包括像素感光单元、窄带滤光膜、过渡层和截止滤波膜，像素感光单元用于实现图像采集和数据读出，窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上，窄带滤光膜用于实现在所需波段中心波长的可调谐，过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上，截止滤波膜一体式沉积生长在过渡层上，截止滤波膜用于截止干扰波段，过渡层过渡窄带滤光膜和截止滤波膜两个膜系。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低、量子效率低的技术问题。
光谱成像芯片结构

[实用新型]一种消偏振的立方棱镜截止滤光片-CN201920709936.X有效
发明人：艾曼灵;金波;郑臻荣;顾培夫 -专利权人：杭州科汀光学技术有限公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： G02B5/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种消偏振的立方棱镜截止滤光片，包括两个等腰直角棱镜和设置所述两个等腰直角棱镜之间的截止滤光多层膜，所述的截止滤光多层膜包括交替设置的低折射率膜、中间折射率膜和高折射率膜。所述的截止滤光多层膜由初始结构(0.795L 1.336M 1.12H 1.336M 0.795L)
中心波长多层膜滤光等腰直角棱镜低折射率膜高折射率膜截止滤光片厚度优化立方棱镜折射率膜消偏振截止本实用新型激光仪器交替设置数字投影

[发明专利]红外截止滤光膜、红外截止滤光片及镜头模组-CN201210283867.3有效
发明人：陈杰良;王仲培 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2012-08-10 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种红外截止滤光膜，其包括六十四层依次交替堆叠于该基片上的高折射率层及低折射率层，该红外截止滤光膜对波长400-800纳米的光线的透过率大于90%，而对波长850-1300纳米的光线的透过率小于该红外截止滤光膜该红外截止滤光片仅采用六十四层膜层即具有较好的红外截止功能，在降低成本的同时保证了良好的红外截止性能。本发明还提供一种红外截止滤光片及镜头模组。
红外截止滤光镜头模组

[发明专利]一种蓝光截止滤光膜及其应用-CN201910958723.5在审
发明人：李飞;钟海政;王晶晶;柏泽龙 -专利权人：致晶科技（北京）有限公司
申请日： 2019-10-10 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种蓝光截止滤光膜，包括钙钛矿量子点和基质；所述蓝光截止滤光膜的中心波长在400～480nm。该截止滤光膜的截止深度T0.1％，峰值透过率高。通过调节钙钛矿晶型量子点的晶型以及尺寸，可以使滤光薄膜的吸收中心波长在400nm‑480nm范围内调节。使用该截止滤光膜将有害的蓝光部分(455nm)滤除的同时不降低健康蓝光的强度，从而同时达到健康与高显色性显示。
一种截止滤光及其应用

[发明专利]一种红外短波截止滤光片-CN202111395598.5有效
发明人：魏博;刘旺海;古华;吴尚 -专利权人：中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G02B5/28 文献下载
摘要：本发明属于光学零件薄膜制造技术领域，具体涉及一种红外短波截止滤光片，滤光片膜系结构为MLMHM|Sub|(MH)^14M，其中，Sub为基底，(MH)^14M为长波通滤光膜系，MLMHM为增透膜膜系，H为Ge膜层，M为ZnS膜层，L为YbF3膜层。本发明的红外短波截止滤光片在7～9μm波段截止，9.5～11μm波段平均透射率T≥93％，具有良好的的膜层环境与可靠性；本发明的红外长波截止滤光片采用本发明制作的红外短波截止滤光片在7.0～9μm波段截止
一种红外短波截止滤光

[发明专利]光谱成像芯片结构-CN202111212687.1在审
发明人：姜洪妍;刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;王才喜 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种一种光谱成像芯片结构，该光谱成像芯片结构包括像素感光单元、窄带滤光膜、过渡层、第一和第二截止滤波膜，窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上，窄带滤光膜用于实现在所需波段中心波长的可调谐，过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上，第一截止滤波膜一体式沉积生长在过渡层上，第一截止滤波膜用于截止第一干扰波段，过渡层用于过渡窄带滤光膜和第一截止滤波膜两个膜系，第二截止滤波膜粘贴设置在第一截止滤波膜上，第二截止滤波膜用于截止第二干扰波段，第二干扰波段与第一干扰波段不同。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低、量子效率低的技术问题。
光谱成像芯片结构

[实用新型]一种背光模组以及一种防蓝光显示器件-CN201921687193.7有效
发明人：李飞;钟海政;王晶晶;柏泽龙 -专利权人：致晶科技（北京）有限公司
申请日： 2019-10-10 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种背光模组，包括蓝光截止滤光膜；所述蓝光截止滤光膜，包括钙钛矿量子点和基质；所述蓝光截止滤光膜的中心波长在400～480nm。以及含有该背光模组的防蓝光显示器件。
一种背光模组以及防蓝光显示器件

[发明专利]线扫式光谱成像系统及其成像方法-CN202111208193.6在审
发明人：张云昊;刘舒扬;张晨;赵安娜;王天鹤;周志远;潘建旋;姜洪妍;王才喜 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G01N21/25 文献下载
摘要：本发明提供了一种线扫式光谱成像系统，该线扫式光谱成像系统包括至少一个光谱成像芯片结构，光谱成像芯片结构包括像素感光单元、窄带滤光膜、过渡层、第一、第二和第三截止滤波膜，窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上，过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上，第一截止滤波膜一体式沉积生长在窄带滤光膜上，过渡层用于过渡窄带滤光膜和第一截止滤波膜两个膜系，第二截止滤波膜设置在第一截止滤波膜上，第三截止滤波膜设置在第二截止滤波膜上，第一、第二和第三截止滤波膜分别用于截止第一、第二和第三干扰波段。应用本发明的技术方案，以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低和量子效率低的技术问题。
线扫式光谱成像系统及其方法

[发明专利]一种红外长波截止滤光片及制备方法-CN202011347732.X有效
发明人：许琎;展亚鸽;李鹏;蔡庄波 -专利权人：中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种红外长波截止滤光片及制备方法，一种红外长波截止滤光片，该滤光片的膜系结构为MLMHM|Sub|(MH)^11M，其中，Sub为基底，(MH)^11M为短波通滤光膜系，MLMHM为增透膜膜系，H为Ge膜层，M为ZnS膜层，L为YbF3膜层。本发明的红外长波滤波光片的透过率高，截止位置精确，截止深度小于0.01，化学稳定性好，环境适应性强，可广泛运用于红外探测光学系统，采用本发明制作的红外长波截止滤光片在9.6～11μm波段截止，7.5～9.0μm波段平均透射率T≥95％，本发明的红外长波截止滤光片的环境适应性满足光学薄膜国家军用标准。
一种红外长波截止滤光制备方法

[发明专利]光谱成像芯片结构-CN202111207409.7在审
发明人：姜洪妍;刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;王才喜 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： G01J3/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种光谱成像芯片结构，该光谱成像芯片结构包括像素感光单元、过渡层、匹配层、窄带滤光膜和截止滤波膜，像素感光单元用于实现图像采集和数据读出，匹配层一体式沉积生长在像素感光单元上，窄带滤光膜一体式沉积生长在匹配层上，窄带滤光膜用于实现在所需波段中心波长的可调谐，过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上，截止滤波膜一体式沉积生长在过渡层上，截止滤波膜用于截止干扰波段，过渡层用于过渡窄带滤光膜和截止滤波膜两个膜系，匹配层用于过渡感光单元与窄带滤光膜、过渡层以及截止滤波膜之间的光学导纳以提高中心波长峰值透过率。
光谱成像芯片结构

[发明专利]大曲率透镜表面用的红外紫外截止滤光膜结构及制作方法-CN201610122026.2有效
发明人：冯君刚;谢志高;李毅帧;聂小飞;叶忠海 -专利权人：舜宇光学（中山）有限公司
申请日： 2016-03-03 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： G02B5/28 文献下载
摘要：一种大曲率透镜表面用的红外紫外截止滤光膜结构及制作方法，大曲率透镜表面用的红外紫外截止滤光膜结构，包括大曲率透镜，所述大曲率透镜上设置有红外紫外截止滤光膜，该红外紫外截止滤光膜包括依次交替堆叠在大曲率透镜上的低折射率膜层和高折射率膜层；低折射率膜层的层数≥10，高折射率膜层的层数≥10。所述红外紫外截止滤光膜为45层的多膜层结构。所述低折射率膜层的材料采用SiO2，高折射率膜层的材料采用Ti3O5或Ta2O5。本发明具有结构简单合理、膜层均匀性一致、膜层牢固度强的特点。
曲率透镜表面红外紫外截止滤光膜结构制作方法

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