专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光谱成像芯片结构-CN202111212687.1在审
  • 姜洪妍;刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;王才喜 - 天津津航技术物理研究所
  • 2021-10-18 - 2023-04-21 - G01J3/02
  • 本发明提供了一种一种光谱成像芯片结构,该光谱成像芯片结构包括像素感光单元、窄带滤光膜、过渡层、第一和第二截止滤波膜,窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上,窄带滤光膜用于实现在所需波段中心波长的可调谐,过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上,第一截止滤波膜一体式沉积生长在过渡层上,第一截止滤波膜用于截止第一干扰波段,过渡层用于过渡窄带滤光膜和第一截止滤波膜两个膜系,第二截止滤波膜粘贴设置在第一截止滤波膜上,第二截止滤波膜用于截止第二干扰波段,第二干扰波段与第一干扰波段不同。应用本发明的技术方案,以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低、量子效率低的技术问题。
  • 光谱成像芯片结构
  • [发明专利]光谱成像芯片结构-CN202111207532.9在审
  • 姜洪妍;刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;王才喜 - 天津津航技术物理研究所
  • 2021-10-18 - 2023-04-21 - G01J3/02
  • 本发明提供了一种光谱成像芯片结构,该光谱成像芯片结构包括像素感光单元、窄带滤光膜、过渡层、第一、第二和第三截止滤波膜,窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上,过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上,第一截止滤波膜一体式沉积生长在窄带滤光膜上,第一截止滤波膜用于截止第一干扰波段,过渡层用于过渡窄带滤光膜和第一截止滤波膜两个膜系,第二截止滤波膜粘贴设置在第一截止滤波膜上,第二截止滤波膜用于截止第二干扰波段,第三截止滤波膜粘贴设置在第二截止滤波膜上,第三截止滤波膜用于截止第三干扰波段。应用本发明的技术方案,以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低、量子效率低的技术问题。
  • 光谱成像芯片结构
  • [发明专利]光谱成像系统-CN202111207538.6在审
  • 刘舒扬;王天鹤;张晨;赵安娜;张云昊;周志远;潘建旋;姜洪妍;王才喜 - 天津津航技术物理研究所
  • 2021-10-18 - 2023-04-21 - G01N21/25
  • 本发明提供了一种光谱成像系统,该光谱成像系统包括像素感光单元和光谱成像单元,光谱成像单元包括窄带滤光膜、过渡层、第一、第二和第三截止滤波膜,窄带滤光膜一体式沉积生长在像素感光单元上,过渡层一体式沉积生长在窄带滤光膜上,过渡层用于过渡窄带滤光膜和第一截止滤波膜两个膜系,第一截止滤波膜一体式沉积生长在窄带滤光膜上,第一截止滤波膜用于截止第一干扰波段,第二截止滤波膜设置在第一截止滤波膜上,第二截止滤波膜用于截止第二干扰波段,第三截止滤波膜设置在第二截止滤波膜上,第三截止滤波膜用于截止第三干扰波段。应用本发明的技术方案,以解决现有技术中截止滤波膜贴合方式所导致的光谱透过率低、量子效率低的技术问题。
  • 光谱成像系统
  • [发明专利]一种光滤波装置-CN202110521235.5有效
  • 冯天利;商景诚;李涛;赵圣之 - 山东大学
  • 2021-05-13 - 2022-06-10 - G02B5/20
  • 本发明公开了一种光滤波装置,包括密闭的滤波容器,所述滤波容器内设有滤波物质,所述滤波物质的形态为液态或气态,所述滤波物质对所述截止波段和目标通过光波段的吸收强度有明显梯度差。其优点在于,根据滤波物质在不同波段吸收强度的差异,通过改变入射光在滤波物质中通过的光程,或改变滤波物质的浓度实现对不同波段光的高效截止,同时使目标光波段低损耗通过,实现滤波器的功能。本发明可用于不同光波段的滤波,具有易于实现,成本低廉的优点。
  • 一种滤波装置

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