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[发明专利]包含图像反转辅助特征的微光刻掩膜、系统及其形成方法-CN201110069478.6无效
发明人：杨明川 -专利权人：美光科技公司
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明揭示微光刻掩模，例如包含安置于至少两个主要掩模特征之间的一个或一个以上图像反转辅助特征的那些微光刻掩模。可通过掩模衬底上的经图案化的相对非透明材料来界定所述一个或一个以上图像反转辅助特征。微光刻系统包含所述掩模。本发明还揭示形成微光刻掩模的方法，例如包含对掩模衬底上的相对非透明材料进行图案化以形成位于至少两个主要特征之间的至少一个图像反转辅助特征的那些方法。
包含图像反转辅助特征微光刻掩膜系统及其形成方法

[发明专利]微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法-CN200980105201.5无效
发明人：马库斯·门格尔 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2009-02-06 - 公布日： 2011-01-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及微光刻投射曝光设备的光学系统和微光刻曝光方法。微光刻投射曝光设备的光学系统包括具有镜布置(200)的照明装置(10)和至少一个偏振态改变装置，该镜布置(200)具有可彼此独立调整的多个镜元件(200a、200b、200c、……)，用于改变由该镜布置
微光投射曝光设备光学系统方法

[发明专利]基于掩模光刻技术和注塑成型制作衍射微光学元件的方法-CN201310394638.3有效
发明人：龚勇清;裴扬;龚艺川;李豪伟;熊联明;王庆;张巍巍;颜丽华 -专利权人：南昌航空大学
申请日： 2013-09-03 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基于掩模光刻技术和注塑成型制作衍射微光学元件的方法，使其制作朝着小型化、批量化、低成本和快速成型的方向发展。首先，利用制图软件制作出二元光栅、波带片等微光学元件的掩模图，再在镀铬玻璃板上制作出光刻掩模版。然后将铬掩模版应用于接触式光刻系统中，利用光刻工艺在涂有正性光刻胶的金属合金上制作出微光学元件图形，采用电化学刻蚀工艺对其进行刻蚀，使铬掩模版上的图形一一对应转印至金属合金基片上，这种刻有图形的金属合金即可作为注塑模上的活动模芯，可将上面的微光学元件利用注塑模转印至光学塑料上。该方法主要特点在于更换模芯方便，换上刻有不同图形的模芯就可制作出各种不同的衍射微光学元件。
基于光刻技术注塑成型制作衍射微光元件方法

[发明专利]超支化聚酯微光学光刻胶-CN200910214063.6无效
发明人：冯宗财 -专利权人：湛江师范学院
申请日： 2009-12-18 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种超支化聚酯微光学光刻胶，由超支化碱溶性感光聚合物，活性稀释剂、交联剂、光引发剂以及助剂等组成，超支化聚酯微光学光刻胶其感光性能、刻蚀性能、线性范围等可通过超支化聚合物结构、超支化聚合物分子末端的官能团及光刻胶配方进行调节本发明的光刻胶配制容易、理化性能可调性大，可用水性显影剂显影，因而使用中对环境影响小，同时光刻胶感光度、图像清晰度高，刻蚀深度大，并有独特的线性刻蚀性能。尤其适合微光学元件的光刻加工。
超支聚酯微光光刻

[实用新型]一种日夜两用微光时钟-CN201420128552.6有效
发明人：刘锁娣;周彩根;陆天奕;张俊 -专利权人：常州信息职业技术学院
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： G04B19/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种日夜两用微光时钟，包括钟面、日间刻度、夜间微光刻度、环形遮光分针、环形遮光时针、秒针和机芯；所述日间刻度设置在钟面的边缘；所述夜间微光刻度设置在钟面的中部；所述机芯设置在钟面的背面，并驱动环形遮光分针、环形遮光时针和秒针以钟面的中心为轴心转动；所述环形遮光分针的圆环面遮住夜间微光刻度的分针刻度，并且环形遮光分针的圆环面上设有分针指示孔；所述环形遮光时针的圆环面遮住夜间微光刻度的时针刻度
一种日夜两用微光时钟

[发明专利]照明光学装置、显微光刻投射系统及装置制造方法-CN201010155325.9有效
发明人： D·菲奥尔卡;M·德格恩特尔 -专利权人：卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2005-01-14 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种照明光学装置、显微光刻投射系统及装置制造方法。该照明光学装置包括：偏振调制光学元件，其由具有旋光性的光学材料制成，且其具有周向变化的厚度；其中所述照明光学装置是用于显微光刻投射系统的照明系统，并被构造以使在使用所述显微光刻投射系统期间，所述照明系统沿着从所述显微光刻投射系统的光源单元到掩模的路径引导光
照明光学装置显微光刻投射系统制造方法

[发明专利]具有对由掩模引起的成像像差的校正的操作投射曝光设备的方法-CN201180016812.X有效
发明人： J.罗夫 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2011-03-17 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及针对掩模适配微光刻的投射曝光设备的方法，该掩模具有在不同的结构方向具有不同节距和/或不同结构宽度的结构，其中通过微光刻的投射曝光设备的操纵器减小由掩模引起的波前像差。
具有引起成像校正操作投射曝光设备方法

[发明专利]微光刻投射曝光设备的光学系统以及降低图像位置误差的方法-CN201080069309.6有效
发明人： J.罗弗;J.T.纽曼;J.齐默尔曼;D.赫尔维格;D.于尔根斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-09-28 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种降低微光刻投射曝光设备中的图像位置误差的方法，该方法包含以下步骤：提供掩模(16)、光敏层(22)及微光刻投射曝光设备(10)，该微光刻投射曝光设备使用投射光将掩模(16)中所含特征(19)成像于光敏表面
微光投射曝光设备光学系统以及降低图像位置误差方法

[发明专利]用于集成电路光刻系统中的线阵光源扫描装置-CN01120600.4无效
发明人：徐端颐;齐国生;蒋培军;李庆祥;钱坤;范晓冬 -专利权人：清华大学
申请日： 2001-07-26 - 公布日： 2004-03-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于微细加工技术领域，包括由n个短波长微光源组成的线阵光源和对该光源实现小视场和近场技术的微型成像系统，所说的线阵光源由n个相邻微光源排成直线得到的，每个微光源的开关可进行独立控制。本发明提高了系统光刻分辨率，可实现集成电路最小尺寸的图形光刻制作。并实现了宽度扫描，扫描线宽可以在扫描光刻过程中根据实际需要随时调整，大大提高了加工速度。
用于集成电路光刻系统中的光源扫描装置

[发明专利]特征化微光刻的掩模的方法与装置-CN201810729197.0有效
发明人： H.塞茨;U.布特格雷特;T.塞勒;T.弗兰克;U.马特吉卡;M.德冈瑟;R.比尔克纳;D.格劳 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本发明关于特征化微光刻的掩模的方法及装置。在根据本发明的方法中，预期用于微光刻投射曝光设备中的光刻工艺的掩模的结构由照明光学单元(610)照明，其中掩模(621)由成像光学单元(630)成像在检测器单元(640)上，其中由检测器单元(640)所记录的图像数据在评估单元在此情况下，为模拟针对在微光刻投射曝光设备中的光刻工艺所预定义的照明设定，在多个单独成像中进行掩模(621)到检测器单元(640)上的成像，其中多个单独成像在照明光学单元(610)中所设定的照明设定方面彼此不同或在成像光学单元
特征微光方法装置

[发明专利]一种微光学元件的复制方法-CN01133734.6无效
发明人：邓启凌;杜春雷 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2001-12-24 - 公布日： 2003-07-09 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种微光学元件的复制方法，涉及微光学元件的复制技术。该方法采用正性光刻材料(或负性光刻材料)作母板，光敏胶、硅橡胶等材料为复制过程的中间传递板，可复制出与母板凸凹面形相同或相反的微光学元件，故具有较大的灵活性和适用范围。本发明中间过程的传递板可长时间保存及重复使用，复制成本低，复制件的光学性能良好，单元尺寸不受限制，可用于大批量复制价廉的微光学元件。
一种微光元件复制方法

[发明专利]使用偏振光的微光刻曝光装置及具有凹面主镜和凹面辅镜的微光刻投射系统-CN200680015147.1无效
发明人：汉斯－于尔根·曼 -专利权人：卡尔·蔡司SMT股份公司
申请日： 2006-04-27 - 公布日： 2008-04-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种微光刻投射曝光装置，其使用的波长≤100nm，尤其是用于EUV光刻的波长＜50nm，优选地＜20nm，该微光刻投射曝光装置具有：照明系统，该照明系统使用限定的偏振状态的光来照亮物体平面中的场
使用偏振光微光曝光装置具有凹面投射系统

[发明专利]一种基于微小孔隙衍射的甚微光学透镜及其制造方法-CN200610111317.8无效
发明人：孙志军 -专利权人：厦门大学
申请日： 2006-08-21 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：一种基于微小孔隙衍射的甚微光学透镜及其制造方法，涉及一种光学透镜，尤其是涉及一种具有聚焦和准直功能的波长级大小甚微光学透镜及制法。提供一种在微光学领域实现聚焦和(或)准直功能的只具有波长级尺寸大小的基于微小孔隙衍射的甚微光学透镜及制造方法。设有金属膜，金属膜上设有至少1个通孔，在金属膜底面设有支撑台。制造时在透明介质衬底上用光刻法形成要作孔隙结构的厚光刻胶反图案；在衬底上从上往下淀积金属膜；去掉光刻胶，在衬底上制作成金属孔隙或金属孔隙阵列。可实现透镜元件小型化、器件间能量转换的高效化及其它利用微光束进行操作的用途。
一种基于微小孔隙衍射甚微光学透镜及其制造方法

[发明专利]用于显微光刻投影系统的远心性校正器-CN200980126128.X有效
发明人： J·D·康纳尔;J·D·玛拉齐;P·F·米开罗斯基;J·E·韦伯 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2009-06-25 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种远心性校正器被纳入到显微光刻投影系统中，以在该显微光刻投影系统的输出处实现远心性目标。该远心性校正器位于该投影系统的照明装置与投影透镜之间，优选正好在用于控制照射掩模板的光的角分布的掩模板之前。
用于显微光刻投影系统心性校正

[发明专利]用于光刻的1.5D SLM-CN201180022494.8有效
发明人： T.桑德斯特洛姆 -专利权人：麦克罗尼克迈达塔有限责任公司
申请日： 2011-03-04 - 公布日： 2013-03-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种改进的微光刻书写器，其在工件的表面上扫描调制图案。公开的SLM采用连续或准连续的辐射源工作在衍射模式中。微光刻书写器使用长且窄的SLM，并利用沿着SLM的窄轴的衍射效应来改进沿着该轴的书写特性。
用于光刻 1.5 slm

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