“形成物”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5729434个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]带状物形成装置-CN201811130012.0在审
发明人：奥野将人;越康真 -专利权人：迅普精工株式会社
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： D21F7/00 文献下载
摘要：本发明提供带状物形成装置，其具备：带状物形成部(2)，用从原料供给部供给的原料形成带状物(100)；输送部(22)，输送带状物；管理对象旋转体(25a)，设置在输送部(22)输送的带状物的输送路径上；检测部(33)，检测带状物(100)缠绕在管理对象旋转体(25a)上的缠绕事态；以及控制部，对各部分进行控制，控制部收到检测部(33)检测到缠绕事态的检测结果后，停止原料供给部对带状物形成部(22)的原料供给
带状物缠绕管理对象形成装置形成部旋转体状物检测输送带停止原料供给原料供给部检测结果输送路径原料供给检测带

[发明专利]图像形成装置、图像形成方法以及图像形成物-CN201380049033.9有效
发明人：福井民雄;青池正明 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2013-03-18 - 公布日： 2015-05-27 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：在喷墨打印机(1)中，在基材(9)的搬运方向上排列的2个任意的油墨喷出部(头组件(42))中，在将该搬运方向的上游侧及下游侧的油墨喷出部分别作为第一油墨喷出部及第二油墨喷出部时，利用第一油墨喷出部喷出第一油墨，该第一油墨的附着于基材(9)的液滴的表面张力会随着时间下降。另外，利用第二油墨喷出部喷出第二油墨，该第二油墨的液滴在附着到基材(9)时的表面张力与附着于与该液滴相邻的位置的第一油墨的液滴的表面张力大致相等。由此，使附着于相邻的位置的第一油墨的液滴以及第二油墨的液滴的表面张力大致一致，能够抑制在基材(9)上的第一油墨的区域与第二油墨的区域之间的边界处出现渗出、边界位置变动的问题。
图像形成装置方法以及

[发明专利]树脂体形成方法及其形成物-CN201610008858.1在审
发明人：大木淳 -专利权人：三悠瑞克株式会社
申请日： 2016-01-07 - 公布日： 2016-07-20 - 主分类号： B29C45/14 文献下载
摘要：本发明提供一种可抑制制造成本的树脂体形成方法。本发明所涉及的树脂体形成方法是在基板10上的多个位置从点胶机3吐出液状树脂L而形成树脂体R的树脂体形成方法；根据所述位置，可以调整上述点胶机3的吐出动作。
树脂体形成方及其形成

[发明专利]图像形成方法和图像形成物-CN201180047360.1有效
发明人：后藤宽 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2011-09-29 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： B41M5/00 文献下载
摘要：图像形成方法，其包括：对记录介质施加预处理液，和对喷墨油墨施加刺激以便将喷墨油墨喷射到已经施加了预处理液的记录介质上，以便在记录介质上形成图像，其中预处理液含有水溶性脂肪族有机酸、水溶性有机一元胺化合物、水溶性有机溶剂和水，并且喷墨油墨含有其中颜料用阴离子分散剂或非离子分散剂分散的水性颜料分散液、水溶性有机溶剂、基于阴离子离聚物的水性聚氨酯树脂、表面活性剂、渗透剂和水，并且其中相对于水溶性脂肪族有机酸中所含的酸基团，预处理液含有1摩尔当量或更高的水溶性有机一元胺化合物。
图像形成方法

[发明专利]图像形成方法和图像形成物-CN201080037164.1有效
发明人：后藤宽 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2010-08-10 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： B41M5/00 文献下载
摘要：一种图像形成方法，包括：将预处理液施加在涂层上，该涂层提供在记录介质的载体的至少一个表面上，将喷墨油墨喷射到已施加预处理液的涂层上，以形成图像，并且将后处理液施加或喷射在已喷射喷墨油墨的涂层上，以在涂层上形成透明保护层
图像形成方法

[发明专利]组成物、固化物、图像形成装置以及图像形成方法-CN201810755446.3有效
发明人：山田裕章 -专利权人：株式会社理光
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： C08F120/60 文献下载
摘要：本发明涉及组成物、固化物、图像形成装置以及图像形成方法，其目的在于，解决在选择聚合性单体作为分子量较大的单体时虽然不易产生聚合性单体特有的气味，但存在用活性能量射线照射时固化性能差、以及在使用照射波长395nm对此，本发明提供一种组成物，其中含有具有酯结构的聚合性丙烯酰胺化合物和酰基氧化膦系聚合引发剂，所述丙烯酰胺化合物的分子量为150以上200以下。
组成固化图像形成装置以及方法

[发明专利]结构物形成方法、结构物形成装置及存储介质-CN201680066969.6有效
发明人：西浦房夫 -专利权人：卡西欧计算机株式会社
申请日： 2016-10-28 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明的结构物形成方法包括第一工序及第二工序，所述第一工序包括：在包括会因加热而膨胀的膨胀层在内的介质的设有所述膨胀层的一侧即第一面上使用电磁波热量转换材料来形成作为细图案的第一图案的处理；之后朝向所述电磁波热量转换材料照射电磁波来使所述膨胀层的与所述第一图案对应的部分膨胀的处理，所述第二工序包括：在所述介质的与设有所述膨胀层的一侧相反的一侧即第二面上使用电磁波热量转换材料来形成包含比所述第一图案粗的图案的第二图案的处理；之后朝向所述电磁波热量转换材料照射电磁波来使所述膨胀层的与所述第二图案对应的部分膨胀的处理
电磁波结构物膨胀层图案热量转换材料照射膨胀加工介质形成装置粗的加热

[发明专利]被膜形成物及被膜形成物的制造方法-CN201080023865.X无效
发明人：岩堀恒一郎;中积诚 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-06-02 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种被膜形成物的制造方法，该制造方法是利用溅射法将含有靶的构成元素的被膜形成于基板的表面上而制造被膜形成物的方法，其中，将所述靶和所述基板的距离d设定为所述构成元素在溅射气体中的平均自由行程的
形成制造方法

[发明专利]柱状形成物用树脂组合物、附有柱状形成物的基板的制造方法和附有柱状形成物的基板-CN201580054034.1有效
发明人：千吉良敦子;俵屋诚治;酒井优 -专利权人：大日本印刷株式会社;三洋化成工业株式会社
申请日： 2015-11-09 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： G02F1/1339 文献下载
摘要：本发明的主要目的在于提供：能提高固体成分浓度，且涂布性、显影性良好的柱状形成物用树脂组合物等。本发明通过提供下述柱状形成物用树脂组合物，可以达成上述目的。本发明的柱状形成物用树脂组合物，是在具有基板和柱状形成物的附有柱状形成物的基板中，用于形成上述柱状形成物的柱状形成物用树脂组合物，上述柱状形成物形成于上述基板上，且使上述基板与作为电子元件时所使用的对置基板之间保持一定距离；其特征在于，含有单体(A)、聚合物(B)、和光聚合引发剂(C)，上述单体(A)的质量与上述聚合物(B)的质量比率为上述单体(A)的质量：上述聚合物(B)的质量＝70∶30～95∶5的范围内，作为上述单体
柱状形成树脂组合附有制造方法

[发明专利]形成下层膜的组合物、图案形成方法及形成图案的下层膜形成用共聚物-CN201780092950.3在审
发明人：服部贵美子;森田和代 -专利权人：王子控股株式会社
申请日： 2017-12-20 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：本发明提供一种形成下层膜的组合物，该形成下层膜的组合物的材料对有机溶剂的溶解度较高，可通过在大气下且相对低温的加热处理而形成难以破裂的下层膜，在形成有下层膜的情况下对于有机溶剂的涂布膜残留率较高。本发明是一种形成下层膜的组合物及图案形成方法，该形成下层膜的组合物包含共聚物及有机溶剂，共聚物具有聚合部a及聚合部b，聚合部a具有糖衍生物部，糖衍生物部为五碳糖衍生物部及六碳糖衍生物部中的至少一者，聚合部b不具有糖衍生物部，该形成下层膜的组合物为用于图案形成的下层膜形成用。
形成下层组合图案方法共聚物

[发明专利]形成组合物的方法以及由其形成的组合物-CN201980030953.3在审
发明人：特雷弗·比尔德 -专利权人：提卜斯研发有限公司
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： H01M4/04 文献下载
摘要：在一方面，一种制备组合物的方法，包括：形成包含聚合物和溶剂的溶剂混合物；将溶剂混合物与非溶剂沉淀以在原纤化聚合物基质中形成包含填料的组合物，其中该组合物是以颗粒的形式，并且溶剂和非溶剂中的至少之一包含填料；以及将组合物与溶剂和非溶剂分离以对组合物进行离析。在另一方面，一种多孔材料，其中填料颗粒通过聚合物机械地结合在一起，并且其中聚合物以细丝存在，该细丝跨填料颗粒之间的间隙空间粘附至填料颗粒并且连接填料颗粒。在另一方面，一种通过相转化产生的沉淀的聚合物溶液，其中可以机械地去除大部分液体。
形成组合方法以及

[发明专利]电极形成组合物-CN201980032580.3在审
发明人： M·A·斯伯阿菲科;S·布鲁斯奥;J·A·阿布斯勒梅;A·吉利姆;G·布里纳蒂 -专利权人：索尔维特殊聚合物意大利有限公司
申请日： 2019-05-16 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： H01M4/131 文献下载
摘要：本发明涉及一种包含共聚物偏二氟乙烯/氟烷基乙烯基醚的电极形成组合物；其制造方法；以及其制造用于高容量富镍锂离子电池的电极的用途。
电极形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN201980086354.3在审
发明人：柴山亘;仓本悠太郎;武田谕;志垣修平;石桥谦;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C08G77/22 文献下载
摘要：本发明的课题是提供适合作为能够形成兼具良好的EUV抗蚀剂密合性、和由于氟系蚀刻速率也高因此具有的良好的蚀刻加工性的含有Si的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含例如式(E1)所示的聚合物、和溶剂。
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN202080039710.9在审
发明人：柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2020-03-24 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： C08G77/26 文献下载
摘要：本发明的课题是提供适合作为可以形成兼具对EUV抗蚀剂的良好的密合性、与良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的、膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其特征在于，其包含选自水解性硅烷化合物、其水解物和其水解缩合物中的至少1种，以及溶剂，上述水解性硅烷化合物包含分子内具有氰基的下述式(1)所示的水解性硅烷。
形成组合

[发明专利]膜形成用组合物-CN202080038844.9在审
发明人：柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 -专利权人：日产化学株式会社
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C08G77/04 文献下载
摘要：本发明的课题是提供适合作为可以形成兼具对EUV抗蚀剂的良好的密合性、与良好的蚀刻加工性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的、膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含：在碱性水解催化剂的存在下生成的水解性硅烷化合物的水解缩合物(A)；在酸性水解催化剂的存在下生成的水解性硅烷化合物的水解缩合物(B)；以及溶剂。
形成组合

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条