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[发明专利]发泡底层-CN201510551713.1在审
发明人：蒋学功 -专利权人：苏州新区佳合塑胶有限公司
申请日： 2015-09-02 - 公布日： 2015-12-16 - 主分类号： C08L27/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种发泡底层，原料组成为：PVC-SG4为80份，未发泡PVC回收料20份，DOP为35-45份，环氧脂2-4份，复合稳定剂1.5-2.5份，硬脂酸钡0.6-1份，硬脂酸铝0.6-1份，EC本发明提供的发泡底层中，配方中以PVC-SG4H和未发泡PVC回收料为主要原料，配以DOP、环氧脂及其他辅助原料加工而成，降低了成本，调高了制品的稳定性，具有一定的耐磨性、抗冲击性、抗伸强度、抗撕裂性、
发泡底层

[外观设计]底层地板-CN201730061605.6有效
发明人：丹尼斯·博尔丁 -专利权人：进程配置公司
申请日： 2017-03-06 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： 25-02 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称底层地板。2．本外观设计产品的用途本外观设计产品用作底层地板。3．本外观设计产品的设计要点图中所示产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片立体图1。
底层地板

[外观设计]底层板-CN202230332274.6有效
发明人：李亚龙;李峰;王二辉 -专利权人：鹤壁安易捷智能制造有限公司
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： 12-16 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：底层板。2.本外观设计产品的用途：用于运输车的底层板,用三个规格的多块板拼接成车底板。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
底层

[发明专利]含硅底层-CN201810844231.9在审
发明人： L·崔;P·J·拉博姆;J·F·卡梅伦;C·A·卡特勒;山田晋太郎;S·M·科利;L-S·科 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： C09D183/04 文献下载
摘要：提供了采用湿式可剥离底层组合物制造电子装置的方法，所述湿式可剥离底层组合物包含一种或多种具有有机聚合物链的缩合聚合物，所述有机聚合物链具有含有酸性质子并且在水中的pKa为‑5到13的侧位结合部分并且具有侧位结合的硅氧烷部分
有机聚合物链底层组合物可剥离侧位湿式缩合聚合物电子装置酸性质子硅氧烷制造

[发明专利]含硅底层-CN201710741024.6在审
发明人： C·A·卡特勒;S·M·科利;O·昂加依;C·P·沙利文;P·J·拉博姆;L·崔;S·山田;M·李;J·F·卡梅伦 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供包含一种或多种包含含Si‑O键的主链的含硅聚合物、一种或多种有机掺合物聚合物和固化催化剂的可湿剥离底层组合物。这些组合物适用于制造各种电子装置。
底层

[发明专利]含硅底层-CN201710744762.6在审
发明人：崔莉;C·A·卡特勒;S·M·科利;O·昂加依;C·P·沙利文;P·J·拉博姆;山田晋太郎;李明琦;J·F·卡梅伦 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2017-08-25 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供包含一种或多种包含含Si‑O键的主链的含硅聚合物、一种或多种有机掺合物聚合物和固化催化剂的可湿剥离底层组合物。这些组合物适用于制造多种电子装置。
底层

[发明专利]底层地板接头-CN201880085238.5在审
发明人： M·尼尔松 -专利权人：瓦林格创新股份有限公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： E04F15/02 文献下载
摘要：本发明提供一组基本上相同的底层地板镶板1、1′、1″，其包括构造成被胶粘的接头。该接头包括位于第一镶板1′的第一边缘5a处的榫舌13和位于第二镶板1″的第二边缘5b处的榫舌凹槽10。
底层地板接头

[发明专利]底层-覆盖相关-CN201911076051.1在审
发明人： H·N·奇塔利亚;A·莫里 -专利权人：瞻博网络公司
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： G06F9/455 文献下载
摘要：本公开的实施例涉及底层‑覆盖相关。本公开描述了技术，这些技术包括在网络内收集底层流数据连同覆盖流数据，并且使数据相关，以使得能够洞察网络操作和性能。
底层覆盖相关

[发明专利]含硅底层-CN201811294466.1有效
发明人： C·A·卡特勒;崔莉;山田晋太郎;P·J·拉博姆;S·M·科莱;J·F·卡梅伦;D·格林 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：提供采用可湿法剥离的底层组合物制造电子器件的方法，所述组合物包含以下各项的缩合物和/或水解物：包含作为聚合单元的一种或多种具有可缩合含硅部分的第一不饱和单体的聚合物，其中所述可缩合含硅部分悬垂于所述聚合物主链上
底层

[发明专利]底层地板接头-CN201980091187.1有效
发明人： A·尼尔松;K·奎斯特 -专利权人：瓦林格创新股份有限公司
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2023-02-21 - 主分类号： E04F15/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种由基本相同的底层地板镶板(1，1’，1”)组成的镶板组，包括配置成被胶粘的接头，其中，接头包括在条状件(6)处的元件(7)和在相邻边缘处的元件凹槽，条状件从镶板(1)的边缘处的第一接头边缘
底层地板接头

[外观设计]柜子(底层架空）-CN201930374798.X有效
发明人：胡亮 -专利权人：南京旅游职业学院
申请日： 2019-07-15 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： 06-04 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：柜子(底层架空）。;2.本外观设计产品的用途：用于家庭用摆放物品。;3.本外观设计产品的设计要点：在于形状、图案与色彩的结合。;4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。
柜子(底层架空）

[发明专利]底层组合物和成像底层组合物的方法-CN201110462290.8在审
发明人： P·特雷福纳斯;P·D·胡斯塔德;C·皮埃尔 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司
申请日： 2011-09-30 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种形成图案的方法，包括照射包括酸敏共聚物和光酸产生剂的底层的一部分，该酸敏共聚物包括酸可分解基团、连接基团和官能团，该连接基团共价键合到基材的亲水表面，交联形成共聚物交联，或者既被共价键合到基材的表面，又交联形成共聚物交联，其中该酸可分解基团与由底层的被照射区域中的光酸产生剂所产生的酸发生反应，以在底层的表面上形成极性区域，该极性区域具有图案的形状和尺寸，在该底层的表面上形成自组装层，该自组装层包括嵌段共聚物该嵌段聚合物包括对该极性区域具有亲和性的第一嵌段和对该极性区域具有比第一嵌段小的亲和性的第二嵌段，其中该第一嵌段形成了对齐该极性区域的第一微区，并且该第二嵌段形成了邻近对齐该第一微区的第二微区，和移除该第一或第二微区以暴露出该底层的下层部分
底层组合成像方法

[发明专利]底层组合物和成像底层组合物的方法-CN201510125436.8有效
发明人： P·特雷福纳斯;P·D·胡斯塔德;C·皮埃尔 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司
申请日： 2011-09-30 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种形成图案的方法，包括通过照射光敏层的一部分，使在包括光酸产生剂的光敏层中产生的酸扩散进入底层的邻近部分中，该底层包括含有酸可分解基团、连接基团和官能团的酸敏共聚物，其中该光敏层配置在底层的表面上，扩散包括加热该底层和光敏层，底层中的酸敏共聚物的酸敏基团与所扩散的酸反应，以在底层的表面上形成极性区域，该极性区域具有图案的形状；去除光敏层；在该底层的表面上形成自组装层，该自组装层包括嵌段共聚物，该嵌段聚合物包括第一嵌段和第二嵌段，其中该第一嵌段形成对齐该极性区域的第一微区，并且该第二嵌段形成了邻近该第一微区对齐的第二微区，并移除该第一或第二微区以暴露出该底层的下层部分。
底层组合成像方法

[发明专利]底层组合物和成像底层组合物的方法-CN201110462291.2无效
发明人： P·特雷福纳斯;P·D·胡斯塔德;C·皮埃尔 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司
申请日： 2011-09-30 - 公布日： 2012-07-04 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种形成图案的方法，包括通过照射光敏层的一部分，使在包括光酸产生剂的光敏层中产生的酸扩散进入底层的邻近部分中，该底层包括含有酸可分解基团、连接基团和官能团的酸敏共聚物，其中该光敏层配置在底层的表面上，扩散包括加热该底层和光敏层，底层中的酸敏共聚物的酸敏基团与所扩散的酸反应，以在底层的表面上形成极性区域，该极性区域具有图案的形状；去除光敏层；在该底层的表面上形成自组装层，该自组装层包括嵌段共聚物，该嵌段聚合物包括第一嵌段和第二嵌段，其中该第一嵌段形成对齐该极性区域的第一微区，并且该第二嵌段形成了邻近该第一微区对齐的第二微区，并移除该第一或第二微区以暴露出该底层的下层部分。
底层组合成像方法

[发明专利]芳香族底层-CN201910698511.8在审
发明人：刘盛;J·F·卡梅伦;山田晋太郎 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2019-07-31 - 公布日： 2020-02-25 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：由具有两个2‑萘酚部分的单体形成的可固化均聚物在半导体制造工艺中可用作底层。
芳香族底层

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