专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]大范围移动磁浮平面工作-CN200710064152.8有效
  • 朱煜;曹家勇;张鸣;尹文生;汪劲松;段广洪;李广;闵伟 - 清华大学
  • 2007-03-02 - 2007-08-22 - G12B5/00
  • 大范围移动磁浮平面工作,涉及一种磁浮平面工作,特别是一种大范围移动磁浮平面工作,主要应用于制造设备与机器人领域。该工作包括基移动,所述移动由平台和设置于平台底部的移动电磁结构组成,在基顶部设置有平面永磁阵列,移动电磁结构由3个以上电枢单元组成,每个电枢单元包括电枢铁心、X相绕组和Y相绕组,X相绕组和Y由于所述移动移动范围不受移动台尺寸的限制,使得移动可以在平面尺寸远大于移动平面尺寸的基台上移动,从而大大增加了移动的相对行程,实现移动的大范围平移。
  • 范围移动平面工作台
  • [实用新型]一种数控机床的基座滑动机构-CN201721103713.6有效
  • 桂升军;桂升俊;王金龙 - 舒能数控机床有限公司
  • 2017-08-31 - 2018-05-15 - B23Q1/30
  • 本实用新型涉及一种数控机床的基座滑动机构,包括基座,在基座上设有水平面横向移动机构,水平面横向移动机构上方设有滑动座,滑动座上设有工作底座,工作底座内设有水平面纵向移动机构,水平面纵向移动机构上方设有工作,水平面横向移动机构包括设置在基座顶部的两个横向线轨,两个横向线轨之间设有横向丝杠控制机构,水平面纵向移动机构包括设置在工作底座内的两个纵向线轨,两个纵向线轨之间设有纵向丝杠控制机构,通过横向丝杠控制机构可以控制滑动座在水平面内横向移动,纵向丝杠控制机构可以控制工作在水平面内纵向移动,该机构达到了控制工作在水平面内横向和纵向移动的效果,而且采用丝杠控制机构,移动平稳。
  • 一种数控机床基座滑动机构
  • [实用新型]平面和立体两用雕刻机-CN201220026899.0有效
  • 黄海红;张斌华 - 黄海红;张斌华
  • 2012-01-20 - 2012-09-26 - B44B1/00
  • 本实用新型涉及的平面和立体两用雕刻机,包括有机架、龙门刀架和移动工作,所述龙门刀架由立柱、横梁和加工头构成,所述机架设置在龙门刀架的两个立柱内则,移动工作设置在机架上方,所述移动工作的前端固定设置有床头箱,移动工作的上面设置有尾座导轨,尾座设置在尾座导轨上,尾座上设置有数个螺旋顶杆,所述移动工作台上设置有平面加工,所述平面加工为桌型,平面加工的四个支撑腿通过螺栓固定在移动工作的台面上;在移动工作台面上加装平面加工,实现立体雕刻机的平面雕刻,在方便的取下平面加工又可以进行立体雕刻,可使一雕刻机在一个机器上完成立体和平面的两种雕刻工作,大大提高了设备的利用率,降低了生产成本。
  • 平面立体两用雕刻
  • [发明专利]用于定位物体的定位系统-CN202080013417.5在审
  • 伦斯·亨塞尔曼斯 - 荷兰联合仪器有限公司
  • 2020-02-07 - 2021-09-21 - G01B21/04
  • 用于定位物体的定位系统,其中定位系统包括堆叠载物系统,其中堆叠载物系统是在基准表面上可移动的,其中堆叠载物系统包括:驱动系统,用于驱动堆叠载物系统;第一载物,其布置成沿着与基准表面的平面平行的驱动平面被驱动;主载物,用于支撑物体,其中主载物台布置在被驱动的第一载物台上,以用于沿着驱动平面移动主载物;其中主载物系统包括旋转驱动系统,并且其中旋转驱动系统布置成用于围绕平行于与驱动平面垂直的平面外方向的轴线相对于第一载物旋转主载物;以及其中主载物相对于第一载物沿平面外方向是可移动的,并且其中主载物还包括支撑轴承,支撑轴承布置成沿平面外方向将主载物移动地支撑在基准表面上。
  • 用于定位物体系统
  • [实用新型]一种椭偏仪测量装置-CN202120013648.8有效
  • 黄爽;黎浩;王汉华;许海明 - 湖北光安伦芯片有限公司
  • 2021-01-05 - 2022-03-22 - G01N21/21
  • 本实用新型涉及一种椭偏仪测量装置,包括平面二维机械移动平台以及用于固定样品的样品,所述平面二维机械移动平台固定在椭偏仪的底座上,所述样品通过支座支撑在平面二维机械移动平台上,通过平面二维机械移动平台带动支座上的样品沿平面移动本实用新型采用平面二维机械移动平台代替镊子移动晶片,减少测量过程中人为移动晶片的次数,减少晶片表面破损与污染,提高良率,且其结构简单,在生产制造过程中便于操作。
  • 一种椭偏仪测量装置
  • [实用新型]料材自动堆叠机-CN201020517576.2有效
  • 叶柏男 - 添圣机械股份有限公司
  • 2010-09-06 - 2011-04-06 - B65H29/18
  • 本实用新型关于一种料材自动堆叠机,其主要是在基架的固定载台上设置一进料输送装置,用以接收加工后的平面料材,并朝基架一侧的出料区顺向输送,另通过一出料载送装置的移动自入料区的固定载台下方朝出料区方向顺向移动,承接自固定载输出的平面料材,待移动移动到达出料区后,移动再朝入料区逆向移动,同时使移动载台上的出料载送组件顺向输送平面料材,通过出料载送组件输送平面料材的顺向输送的速率实质等于移动逆向移动的速率,而使平面料材自动落在出料区的承载台上方依序整齐堆叠。
  • 自动堆叠
  • [实用新型]一种新型数控机床-CN201721111222.6有效
  • 桂升军;桂升俊;王金龙 - 舒能数控机床有限公司
  • 2017-08-31 - 2018-05-15 - B23Q1/01
  • 本实用新型涉及一种新型数控机床,包括机架,在机架的底部设有基座滑动机构,基座滑动机构的上方设有主轴箱,主轴箱通过主轴箱升降控制机构与机架连接,所述基座滑动机构包括基座,在基座上设有水平面横向移动机构,水平面横向移动机构上方设有滑动座,滑动座上设有工作底座,工作底座内设有水平面纵向移动机构,水平面纵向移动机构上方设有工作,该机构达到了控制工作在水平面内横向和纵向移动的效果,而且采用丝杠控制机构,移动平稳。
  • 一种新型数控机床
  • [发明专利]连续扫描XY平移-CN201180069188.X有效
  • M·C·普特曼;J·B·普特曼 - 毫微光电子影像公司
  • 2011-02-15 - 2014-03-05 - B23Q1/48
  • 一种XY平移包括主驱动机构和驱动总成。所述主驱动机构绕转动轴转动所述驱动总成。所述XY平移还包括载物,其在所述载物在限定平面外不转动的情况下在所述限定平面中自由绕轨道移动插销将所述驱动总成与所述载物相关联,使得所述驱动总成的转动移动产生所述载物在所述限定平面内的轨道移动。所述插销相对于所述转动轴的定位可调节,使得所述载物的轨道移动的直径可调节。
  • 连续扫描xy平移
  • [发明专利]一种全自动弯头内外壁抛光机-CN201410594003.2在审
  • 徐云凤;徐代杰 - 徐云凤
  • 2014-10-16 - 2016-08-24 - B24B29/02
  • 一种全自动弯头内外壁抛光机,由机床底座、平面工作、十字台面移动驱动装置、抛光架及调节装置组成。机床底座上设有平面工作,机床底座内安置传动电机,平面工作与机床底座连接处设有滑动装置,所述滑动装置连接传动电机,所述的传动电机与调节装置相连,所述的平面工作台上面的靠近外边缘处设有弯头夹具,弯头夹具上设有锁紧装置;纵向移动驱动装置上设有横向移动驱动装置,横向移动驱动装置在远离平面工作的一端设有横向电机;横向移动驱动装置另一端设有抛光架,抛光架内设有软轴,软轴一端与横向移动驱动装置相连,软轴另一端安装砂纸盘,砂纸盘的直径小于弯头夹具上的锁紧装置与平面工作之间的距离
  • 一种全自动弯头外壁抛光机
  • [实用新型]一种机械加工辅助平台-CN201621192990.4有效
  • 黄连宝;臧成阳;赵柯同 - 天津市汇通仪器设备公司
  • 2016-10-28 - 2017-07-14 - B23Q1/74
  • 本实用新型提出了一种机械加工辅助平台,包括底座、支撑架、主液压柱、副液压柱、小溜板、平面移动工作、旋转轴、回转工作、回转齿轮、平面轴承和回转顶针座,底座底部四周通过固定四个支撑架内的主液压柱放置地面上,底座通过小溜板和平面移动平台相对直线运动,平面移动平台中心位置通过旋转轴和回转工作相对旋转运动,在旋转轴同圆心处的回转工作平面移动工作之间设有环状平面轴承,回转工作的外边缘固定回转齿轮,与回转齿轮相互啮合的纵向旋转齿轮通过转轴连接在平面移动工作的上表面
  • 一种机械加工辅助平台

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