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- [实用新型]易修正磨削砂轮-CN202221607741.2有效
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肖攀;张松
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珠海市巨海科技有限公司
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2022-06-23
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2022-10-18
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B24D5/16
- 本实用新型提供一种易修正磨削砂轮,易修正磨削砂轮包括基体和磨削层,基体呈圆环柱形,磨削层设置在基体的某一端面上,磨削层中与基体接触的一面为底部基准面,磨削层的外端面包括外斜面和外平面,外斜面与外平面连接,外斜面与外平面分别与底部基准面相对设置,外斜面相对底部基准面倾斜设置,外平面与底部基准面平行设置,基于底部基准面,外平面高于外斜面,采用以上结构,外斜面和外平面的配合结构使得原有的磨削面上出现缺角,使磨削层更尖,在实际磨削过程中,更易切入待磨削体,初期磨削效果更好的同时,磨削层上外斜面的设置提前适应磨削层所要出现的磨损,从而减少磨削层的必需磨损量,修正时降低修正难度,使得磨削层更易于修正。
- 修正磨削砂轮
- [发明专利]晶片的制造方法-CN201880090100.4在审
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田中利幸;桥本靖行
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胜高股份有限公司
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2018-02-21
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2020-10-09
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H01L21/304
- 本发明的晶片的制造方法具备第1树脂粘贴磨削工序、第2树脂粘贴磨削工序及第3平面磨削工序,第1树脂粘贴磨削工序具备:第1涂层形成工序,在晶片的整个第二面形成第1涂层;第1平面磨削工序,以第1涂层抵接于工作台的基准面的方式载置晶片并且平面磨削晶片的第一面;以及第1涂层去除工序,去除第1涂层,第2树脂粘贴磨削工序具备:第2涂层形成工序,在整个第一面形成第2涂层;第2平面磨削工序,以第2涂层抵接于工作台的基准面的方式载置晶片并且平面磨削第二面;以及第2涂层去除工序,去除第2涂层,在第3平面磨削工序中,以最后进行平面磨削的面抵接于工作台的基准面的方式载置晶片,并且平面磨削晶片中的与抵接于基准面的面相反的一侧的面。
- 晶片制造方法
- [发明专利]检测磨削装置-CN201310048923.X有效
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郭建江;张建生;沈洪雷;俞霖
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常州工学院
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2013-02-07
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2013-05-22
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B24B49/12
- 本发明公开了一种检测磨削装置,其要点是:包括磨削机构和在线检测装置。当检测磨削装置的磨削机构的砂轮磨头对平面共轭凸轮的外轮廓进行磨削加工时,由凸轮内轮廓检测装置的第二激光测量头沿平面共轭凸轮的轴向做往复运动并对平面共轭凸轮内轮廓轴向上的轮廓线进行测量。当检测磨削装置的磨削机构的砂轮磨头对平面共轭凸轮的内轮廓进行磨削加工时,由凸轮外轮廓检测装置的第一激光测量头在平面共轭凸轮的轴向上做往复运动并对平面共轭凸轮外轮廓轴向上的轮廓线进行测量。当凸轮旋转一周,则检测磨削装置能同时对平面共轭凸轮的内外轮廓中的一个轮廓的尺寸在周向上进行在线检测和对平面共轭凸轮的内外轮廓中的另一个轮廓进行磨削。
- 检测磨削装置
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