专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]导电层叠-CN201680005530.2有效
  • 荻窪真也 - 富士胶片株式会社
  • 2016-01-14 - 2019-02-12 - B32B27/18
  • 本发明提供一种能够抑制皱纹或裂点的产生,操作性良好,能够抑制产率的下降,并且能够抑制光学特性的下降的导电层叠。本发明的导电层叠具备:导电膜,具有厚度小于70μm的绝缘基板与形成于绝缘基板的至少一个面上的导电部;第1保护膜,以能够剥离的方式贴附于导电膜的第1面侧;及第2保护膜,以能够剥离的方式贴附于导电膜的第1面的相反侧的面即第2面侧,第1保护膜的厚度t1为75μm以上,相对于导电膜,以180°剥离第1保护膜时的剥离力F1大于以180°剥离第2保护膜时的剥离力F2,且为0.5N/25mm以下。
  • 导电层叠
  • [发明专利]导电层叠的制造方法、层叠导电层叠-CN201780018488.2有效
  • 东耕平;笠原健裕;村井大午 - 富士胶片株式会社
  • 2017-03-09 - 2020-06-02 - C23C18/20
  • 本发明的课题在于提供一种能够在与图案状被镀层对应的位置形成低电阻的金属层的导电层叠的制造方法、层叠导电层叠。本发明的导电层叠的制造方法具有:使用规定的被镀层形成用组合物,在基材上形成被镀层形成用层的工序;对被镀层形成用层以图案状实施曝光处理及显影处理,而形成包含线宽小于3μm的部分的图案状被镀层的工序;使用含有镀覆催化剂或其前的碱性的镀覆催化剂赋予液,将镀覆催化剂或其前赋予到图案状被镀层的工序;及使用含有氨基羧酸类的镀覆液,对赋予有镀覆催化剂或其前的图案状被镀层进行镀覆处理,而在图案状被镀层上形成金属层的工序。
  • 导电性层叠制造方法
  • [发明专利]氧化物超导电线材的制造方法及超导电线圈的制造方法-CN201680002370.6在审
  • 大杉正树 - 株式会社藤仓
  • 2016-11-08 - 2018-04-17 - H01B13/00
  • 一种氧化物超导电线材的制造方法,准备超导电层叠,弯折带状的稳定化材料而划分为上述稳定化材料覆盖上述超导电层叠的厚度方向的单面的第1部分和上述稳定化材料覆盖上述超导电层叠的宽度方向的两侧的侧面的第2部分,在上述超导电层叠的周围配置上述稳定化材料,使用成型夹具使上述第1部分的宽度成为比上述超导电层叠的宽度更宽,将上述稳定化材料覆盖于上述超导电层叠,将上述超导电层叠和上述稳定化材料接合,使上述第2部分与上述超导电层叠之间的接合材料的厚度形成为厚于上述第1部分与上述超导电层叠之间的接合材料的厚度。
  • 氧化物导电线材制造方法线圈
  • [发明专利]层叠电容器的制造方法-CN201510848818.3有效
  • 月田祐树;正井裕士 - 株式会社村田制作所
  • 2015-11-27 - 2019-08-06 - H01G4/12
  • 本发明的层叠电容器的制造方法,具备:层叠工序(S4),使不足50层的导电层各自位于第1配置或第2配置以使得从层叠方向观察导电层位于第1配置以及和该第1配置不同的第2配置,并与电介质层交替地进行层叠,由此形成夹着电介质层相邻的至少一对导电层都位于第1配置或都位于第2配置的层叠;延伸工序(S5),对层叠加压来使导电层在与上述层叠方向正交的方向上延伸;弯曲工序(S6),对层叠加压来使导电层在上述层叠方向上弯曲;和外部电极形成工序(S10),在层叠的表面分别形成第1以及第2外部电极,使第1外部电极与导电层当中位于第1配置的导电层连接,且第2外部电极与导电层当中位于第2配置的导电层连接。
  • 层叠电容器及其制造方法
  • [发明专利]磁存储装置及磁存储装置的制造方法-CN202210215224.9在审
  • 吉野健一 - 铠侠股份有限公司
  • 2022-03-07 - 2022-09-20 - H01L43/02
  • 一实施方式的磁存储装置具备沿第1方向延伸的第1导电及第2导电、在第1导电及第2导电的上方沿第2方向延伸的第3导电及第4导电、以及在第1导电与第3导电之间、第1导电与第4导电之间及第2导电与第3导电之间分别设置的第1层叠、第2层叠及第3层叠。第1层叠、第2层叠及第3层叠各自的截面形状是圆形状,从第1层叠与第3层叠之间的第1部分的上表面到第1面为止的高度及从第2层叠与第3层叠之间的第2部分的上表面到第1面为止的高度是第1高度的90
  • 存储装置制造方法
  • [发明专利]层叠及保护膜-CN201611186540.9有效
  • 户高昌也;星野弘气;大類知生;所司悟 - 琳得科株式会社
  • 2016-12-21 - 2020-08-11 - H01B5/14
  • 本发明提供一种以低成本且简略的工序能够得到依照尺寸形成图案化透明导电膜而成的薄型的透明导电性膜的层叠、在该层叠的透明导电层叠侧上层叠透明导电膜而成的层叠、及用于构成这些层叠的保护膜。一种含有透明导电层叠用膜、保护膜的层叠等,保护膜在具有基材、层叠在该基材的一个面上的粘着剂层的同时,将层叠在规定的环境下进行加热时的保护膜相对于透明导电层叠用膜的粘着力P1设为20~400mN/25mm范围内的数值,且,将层叠在规定的环境下进行加热之后、在规定的环境下进行静置时的保护膜相对于透明导电层叠用膜的粘着力P2
  • 层叠保护膜
  • [发明专利]导电层叠-CN200880107651.3无效
  • 森野正行;竹本和矢;宫泽英明;富田伦央;森本保;日野有一 - 旭硝子株式会社
  • 2008-09-18 - 2010-08-11 - H05K9/00
  • 本发明提供透射·反射带宽、导电性(电磁波屏蔽性)、可见光透射性、防可见光反射性、近红外线屏蔽性及耐湿性良好的导电层叠,使用了该导电层叠的等离子显示器用电磁波屏蔽体等。该导电层叠是包括基体(21)和形成于基体(21)上的导电膜(22)的导电层叠(20),其特征在于,导电膜(22)是从基体(21)侧开始依次交替层叠合计2n+1层[n为1~12的整数]的高折射率层(23a~23e)和金属层(24a~24d)、且在离基体(21)最远的位置还具备碳氢化合物层(25)的多层构造,高折射率层(23a~23e)的折射率为1.5~2.7,碳氢化合物层(25)含有碳原子和氢原子且氢原子含量为
  • 导电性层叠
  • [发明专利]导电层叠以及导电层叠-CN202110214671.8在审
  • 白石奈奈;山上晃;宫田义彦 - DIC株式会社
  • 2021-02-25 - 2021-09-14 - B32B15/20
  • 本发明鉴于现有技术中的实际情况而完成,目的在于提供总厚度小且为薄型,并且能够实现导电性和电磁波屏蔽性以及表面的绝缘性和黑色性的各特性的兼顾的导电层叠以及导电层叠带。本发明提供一种导电层叠,包含:具有对置的第一主面及第二主面的导电层;设置于上述导电层的上述第一主面上的黑色粘合剂层;以及设置于上述黑色粘合剂层上的绝缘部,上述导电层为金属箔,上述绝缘部具有绝缘性树脂层及黑色油墨层,位于上述导电层的上述第一主面侧的上述导电层叠的表面的由CIE L*a*b*表色系规定的明度L*为20以上且27以下,色度a*为‑2以上且2以下,色度b*为‑2以上且2以下。
  • 导电性层叠以及

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