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[发明专利]服务器系统及其备援管理方法-CN201310428350.3有效
发明人：叶俊杰;吴明升;徐欣荣;陈威志 -专利权人：纬颖科技服务股份有限公司
申请日： 2013-09-18 - 公布日： 2018-06-01 - 主分类号： G06F11/20 文献下载
摘要：所述服务器系统包括第一中央管理基板、第二中央管理基板、服务器及备援电路板。备援电路板包括通讯总线、共享存储装置、存储切换电路及备援切换模块。通讯总线沟通第一中央管理基板及第二中央管理基板。存储切换电路是受控于该第一中央管理基板或该第二中央管理基板将共享存储装置连接至第一中央管理基板或第二中央管理基板。第一中央管理基板或第二中央管理基板经备援切换模块输出控制信号以取得服务器的系统控制权。当一个中央管理电路板失效时，适当地由另一中央管理电路板接管服务器，从而避免因中央管理电路板在系统执行中失效，导致管理信息产生失真的问题发生。
中央管理基板电路板备援服务器系统共享存储装置服务器存储切换通讯总线电路系统控制权管理信息控制信号模块输出系统执行受控接管管理

[发明专利]光学器件及其制造方法-CN200510119393.9无效
发明人：立柳昌哉;南尾匡纪;冈本重树;冨士原洁 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2005-11-04 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： H01L23/488 文献下载
摘要：铜板制的框体(2)具有中央框板(2a)和自中央框板的两侧弯曲成的一对侧框板(2c)，柔性基板(3)具有覆盖中央框板的中央基板(3a)和覆盖自中央基板弯曲覆盖侧框板的弯曲基板(3b)，光学元件(4)装在中央框板上与光学元件连接的多个内部布线端子(9)配置在中央基板上，沿一对侧框板彼此对向的宽度(W)方向排列。连接外部设备用的多个外部布线端子(11)配置在弯曲基板上，并沿与宽度方向正交的长度(L)方向排列。
光学器件及其制造方法

[发明专利]基板承载台、基板处理装置及基板处理系统-CN201110185040.4有效
发明人：小田桐正弥;村木雄介;富士原仁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-06-28 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种可以分别独立且精密地进行基板的周缘部和中心部的温度管理、温度控制的基板承载台、基板处理装置及基板处理系统。本发明提供一种基板承载台，其供承载基板，且包含：周缘承载部件，承载所述基板的周缘部进行温度控制；中央承载部件，承载所述基板的中央部进行温度控制；支撑台，支撑所述周缘承载部件和所述中央承载部件；且，在所述周缘承载部件和所述中央承载部件之间形成有间隙，所述周缘承载部件和所述中央承载部件相互为非接触。
承载处理装置系统

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201710373089.X有效
发明人：尾辻正幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-05-24 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法，不仅能将基板的上表面中央部与相对面之间，还能将基板的上表面外周部与相对面之间使用处理液良好地填满，由此能够对基板的上表面实施均匀的处理液处理，该装置包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平，一边使基板以通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线为轴旋转；相对构件，具有与基板的上表面相对的相对面；处理液喷出单元，包括中央部喷出口和外周部喷出口，中央部喷出口在相对面与基板的上表面中央部相对地开口，外周部喷出口在相对面与基板的上表面外周部相对地开口，从中央部喷出口喷出处理液来向基板与相对面之间供给处理液，并且，从外周部喷出口喷出处理液来向基板与相对面之间补充处理液。
处理装置方法

[发明专利]基板搬运方法及基板处理装置-CN201710699417.5有效
发明人：冈田吉文 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2014-11-21 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置中的基板搬运方法，该基板处理装置具有中转部、能够从该中转部搬出基板或向该中转部搬入基板的中央机械手、能够供该中央机械手搬入搬出基板的多个处理单元，该基板搬运方法具有：决定中转部能够同时保持的基板的张数的工序、决定中央机械手能够同时搬运的基板的张数的工序、基于用于决定基板处理装置内部的各个基板的搬运内容的流程规则信息来决定多个处理单元中能够进行并行的处理的处理单元的数量的工序、制作汇总了中央机械手的动作时间表、各处理单元的基板处理时间表的时间表数据的工序、根据时间表数据进行中转部及多个处理单元与中央机械手之间的基板的交接动作和基板处理装置整体的基板处理动作的工序。
搬运方法处理装置

[发明专利]使用LED作为光源的照明器具-CN200910167577.0有效
发明人：樋口一斎;森山厳与;桥本纯男;神代真一 -专利权人：东芝照明技术株式会社
申请日： 2009-08-26 - 公布日： 2010-03-03 - 主分类号： F21S2/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种筒灯(1)，其具备本体(2)、基板(4)、多个LED(10)、反射体(6)、中央支柱(2b)、中央螺丝(11)、以及周围螺丝(12)。本体(2)具有导热性，且凹设在安装部(24)上。基板(4)装设在安装部(24)上。LED10封装在基板(4)上。反射体(6)夹持着基板(4)而安装在本体(2)上，反射从LED(10)出射的光来进行配光控制。中央支柱(2b)对应于基板(4)的中央部而形成在安装部(24)上。中央螺丝(11)从反射体(6)侧将基板(4)的中央部固定在中央支柱(2b)上。周围螺丝(12)准备着多个，通过从本体(2)侧拉近反射体(6)而将基板(4)固定在本体上。
使用 led 作为光源照明器具

[发明专利]基板保持装置-CN201680086344.6在审
发明人：米泽信宏 -专利权人：堺显示器制品株式会社
申请日： 2016-05-31 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： G09F9/00 文献下载
摘要：提供一种能够在不产生扭曲的情况下使基板弯曲的基板保持装置。用于吸附保持基板的基板保持装置包括：中央框架，所述中央框架包括吸附基板的吸附体；一对侧部框架，所述侧部框架分别设置在中央框架的两个外侧，中央框架位于其间，各自包括吸附基板的吸附体；以及连接部分，所述连接部分将中央框架和各个侧部框架连接，以便能够使二者围绕互相平行的轴进行回转，所述侧部框架包括滑动部分，该滑动部分在接近和远离中央框架的方向上滑动，在该滑动部分设置有所述侧部框架具有的吸附体。
中央框架侧部框架滑动基板保持装置吸附体吸附基板吸附保持基板互相平行基板弯曲回转扭曲

[实用新型]一种玻璃基板中央印刷排列装置-CN201220220335.0有效
发明人：柳在均 -专利权人：莱茵茜斯田（天津）科技有限公司
申请日： 2012-05-16 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： B41F17/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及手机、PMP、MP3等电器、电子通讯器材的薄膜显示设备技术领域，具体是提供一种玻璃基板中央印刷排列装置。本实用新型的一种玻璃基板中央印刷排列装置，利用与玻璃基板的4面接触各组整列针，采用把玻璃基板集合到中央的中央排列方式，可以把玻璃基板放到印刷位置的公差范围内，在玻璃基板的正中央正确印刷，从而排除印刷残品等问题
一种玻璃中央印刷排列装置

[实用新型]一种带磁性转子-CN201922490427.5有效
发明人：季红生;叶品华;朱一忱 -专利权人：华生管道科技有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G01F1/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种带磁性转子，包括基座和设置在基座内的至少个磁钢；基座包括位于中央设有前后向中央通孔的中央轴套，基座还包括绕中央轴套均匀角度间隔设置的数量与磁钢的数量一致的基板，基板内设有封闭的磁钢孔，基板内侧面设有开口槽而基板的内侧与中央轴套之间存在供介质流过的空间；磁钢封闭设置在相应的基板的磁钢孔内。
一种磁性转子

[发明专利]基板保持架、基板贴合装置以及基板贴合方法-CN202080033276.3在审
发明人：三石创;菅谷功;釜下敦;冈田政志;福田稔;前田荣裕 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2020-05-07 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：基板保持架具备：中央支承部，其支承基板的中央部；以及外周支承部，其配置在中央支承部的外侧，支承中央部的外侧的外周部，外周支承部将外周部支承为：外周部的至少一部分区域朝向基板保持架以比中央部大的曲率弯曲。
保持贴合装置以及方法

[实用新型]一种用于反应釜的搅拌叶轮-CN201320637769.5有效
发明人：张忠新 -专利权人：无锡市恒达水上装备有限公司
申请日： 2013-10-16 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： B01F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于反应釜的搅拌叶轮，搅拌叶轮固定在反应釜中心的旋转轴上，包括圆形的中央基板和均布固定在中央基板圆周的叶片；叶片为矩形薄板，其长度方向的一端以其宽度方向的中部嵌入中央基板；叶片与中央基板非垂直，其夹角为30°～60°；中央基板的端面设有固定于旋转轴的固定装置，固定装置中心开设有带键槽的轴孔；中央基板的端面还设有导流孔。
一种用于反应搅拌叶轮

[发明专利]基板处理装置、气体供给装置、基板墀理方法和存储介质-CN200710182130.1有效
发明人：益田法生 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-08-15 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、气体供给装置、基板处理方法和存储介质，其中基板处理装置的形成有向基板供给气体的气体吐出孔的喷淋头的内部被分割为向基板中央区域供给气体的中央区域和向基板周缘区域供给气体的周缘区域，从各区域向基板供给已调整流量的相同的处理气体。这时，设定从气体供给装置的中央区域的中心到该中央区域中所包含的最外侧的气体吐出孔的距离为基板半径的53％以上。此外，还向周缘区域加以添加气体。从而每次向基板供给气体后进行基板的处理时，都能够提高基板处理的面内均匀性。
处理装置气体供给基板墀方法存储介质

[实用新型]发光键盘-CN201720875702.3有效
发明人：曾政富 -专利权人：群光电子(苏州)有限公司
申请日： 2017-07-19 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： H01H13/83 文献下载
摘要：一种发光键盘，包括基板、多个按键、导光板、包覆件及反射层。基板包括上表面及下表面。多个按键设置于基板的上表面。导光板设于基板下方并包括相对的顶面与底面，顶面面向基板的下表面。包覆件设于基板下方且具有中央区及环周区，中央区对应覆盖导光板的底面，环周区环绕于中央区的外环周并设置于基板的下表面，使中央区与环周区形成封闭空间，导光板容置于封闭空间。反射层设于导光板的底面与包覆件的中央区之间，且反射层位于导光板的底面的垂直投影范围内。
发光键盘

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201410018293.6有效
发明人：藤井达也;远藤亨 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法以及采用该基板处理方法的基板处理装置。基板处理方法包括执行扫描工序（S3），一边从喷嘴喷出蚀刻液，一边以使蚀刻液着落于处于旋转状态的基板的着液位置从基板的主面周缘部向基板的主面中央部移动的方式，使喷嘴移动。然后，执行中央喷出工序（S4），在使着液位置位于基板的主面中央部的状态下，持续向基板的主面供给蚀刻液。就扫描工序（S3）中的着液位置的移动速度而言，根据在着液位置位于基板的主面中央部的状态下向基板供给蚀刻液的供给条件来决定。
处理方法以及装置

[发明专利]影像感测模块及其制造方法-CN200610139630.2无效
发明人：王圣元 -专利权人：日月光半导体制造股份有限公司
申请日： 2006-09-22 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：一种影像感测模块，至少包括上表面具有中央凸起部的一基板，设置在中央凸起部上并且电性耦合至基板的一光感测芯片，以及设置在基板上表面的中央凸起部以外位置的一镜片模块。该镜片模块具有一容置室以容纳光感测芯片，并且基板的中央凸起部套合于镜片模块的容置室的开口。
影像模块及其制造方法

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