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- [发明专利]等离子处理装置-CN202080006807.X在审
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许振斌;田村仁
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株式会社日立高新技术
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2020-04-30
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2022-01-04
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H01J37/32
- 为了能不仅解决蚀刻处理的面内均匀性还解决充电损坏的减低这样的课题而进行自由度高的等离子密度分布控制,等离子处理装置在内部具备对基板进行等离子处理的等离子处理室,并具备:能将该等离子处理室的内部排气成真空的真空腔;和具备微波源和圆形波导管并将从微波源振荡的微波电力经由圆形波导管提供到真空腔的微波电力提供部,在该等离子处理装置中,微波电力提供部在圆形波导管与真空腔之间配置与圆形波导管在同轴上同心状配置且内部具有不同介电常数的多个波导管而构成。
- 等离子处理装置
- [发明专利]等离子处理装置-CN202180004749.1在审
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许振斌;田村仁
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株式会社日立高新技术
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2021-01-21
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2022-09-27
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H05H1/46
- 等离子处理装置具备:对样品进行等离子处理的处理室;供给用于生成等离子的微波的高频电力的高频电源;传输微波的矩形波导管;与矩形波导管连接并向处理室传输微波的圆形波导管;和载置样品的样品台,在该等离子处理装置中,矩形波导管具备:上下分隔形成的上部矩形波导管以及下部矩形波导管;和阻断从高频电源供给的微波的高频电力且配置有电介质的阻断部。圆形波导管具备:与上部矩形波导管连接且形成于内部的内侧波导管;和与下部矩形波导管连接且形成于内侧波导管的外侧的外侧波导管。阻断部的宽度比阻断部以外的矩形波导管的宽度窄。
- 等离子处理装置
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