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- [实用新型]一种环保型高中生用化学实验桌-CN201720491818.7有效
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于涵
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于涵
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2017-05-04
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2017-12-01
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B01L9/02
- 本实用新型公开了一种环保型高中生用化学实验桌,包括第一工作箱,所述第一工作箱的顶端左侧安装有工作台板,所述支撑板的顶端安装有集烟罩,所述排烟筒的内部设有中心筒,所述中心筒的内部设有空腔,所述空腔的内壁安装有活性炭板该环保型高中生用化学实验桌,通过尼龙过滤网、滤筒和活性炭板的配合,使用的化学药液倒入水槽内通过连接管排入过滤水缸内,通过尼龙过滤网对药液中的未溶解或难溶解的粉末或颗粒进行过滤,溶解的药剂进入滤筒内对其化学药液进行充分的过滤
- 一种环保高中生化学实验
- [实用新型]硅片背面化学处理装置-CN200920214854.4无效
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仓凌盛
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上海华虹NEC电子有限公司
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2009-12-24
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2010-09-08
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H01L21/00
- 本实用新型公开了一种硅片背面化学处理装置,包括药液槽、药液处理泵、气动控制阀、喷嘴、处理腔;药液处理泵、气动控制阀依次串联于处理管路上;处理管路的一端连接药液槽,另一端连接喷嘴;喷嘴设置于处理腔上方;所述气动控制阀设有回吸控制单元本实用新型能够完全解决药液滴落的问题,减少由此造成的硅片损失。本实用新型可以将残留在喷嘴与气动控制阀之间管路内的药液抽回药液槽中,使得硅片在进行纯水清洗和干燥的过程中不会发生药液滴落的问题,能够完全避免在整个处理过程中由于喷嘴的动作造成的药液滴落到硅片背面的现象,
- 硅片背面化学处理装置
- [发明专利]晶圆清洁装置-CN202210755712.9在审
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孙宏;郑建辉;丁杰
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上海图灵智算量子科技有限公司
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2022-06-30
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2022-10-25
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B08B3/12
- 本发明公开了一种晶圆清洁装置,包括:箱体、超声清洗部、清洗槽及兆声清洗部,超声清洗部用于盛装清洗药液,晶圆浸入清洗药液;超声清洗部还用于生成超声波以清洁晶圆,清洗槽用于冲洗或干燥晶圆。清洗槽设于超声清洗部与兆声清洗部之间,兆声清洗部用于盛装清洗药液;兆声清洗部还用于生成兆声波以清洁晶圆。晶圆可以先置于超声清洗部,利用清洗药液浸润,以实现化学清洗;利用超声波有效去除颗粒较大的污染物,随后利用兆声清洗部对晶圆进一步清洗,清洗药液可以再次对晶圆进行化学清洗,兆声波可以进一步有效去除颗粒较小的污染物
- 清洁装置
- [发明专利]一种药学化学合成用提炼装置-CN202310244948.0在审
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徐佳
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江南大学附属医院
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2023-03-15
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2023-06-30
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B01F33/83
- 本发明涉及化学技术领域,公开了一种药学化学合成用提炼装置,包括立式布置的混合罐,混合罐的侧面安装有管道和送料漏斗,两者分别用于液体药液以及固体粉末的输入,混合罐的内部安装有驱动机构、壳体和用于加热药液的加热机构,驱动机构与壳体相连接,壳体的底部安装有摆动管,驱动机构用于驱使壳体自转以及壳体沿混合罐的中轴线公转;通过驱动机构驱使摆动管在混合罐内转动,并在转动过程中通过吸料组件将药液吸入到摆动管内部,随后利用联动机构和碎料机构对进入到摆动管内部内的结团物进行粉碎,当结团物经过粉碎之后,药液从摆动管内部排出,并通过排出时产生的冲击力激起混合罐底部的沉积物,从而避免结团物和沉积物影响药液的混合。
- 一种药学化学合成提炼装置
- [实用新型]水膜式恒温反应器-CN201320470967.7有效
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陆钢;刘鹏;崔海波
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东莞道汇环保科技有限公司
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2013-08-02
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2014-04-02
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B01J19/00
- 本实用新型涉及恒温反应装置技术领域,特别是一种水膜式恒温反应器;包括反应槽和药液加注器,药液加注器通过加药液管与反应槽相连接,加药液管上设置有计量泵,反应槽的底部设置有排药液阀门,反应槽内均匀设置有若干个薄板状冷却片,冷却片依次蛇行连接,进冷却水管和出冷却水管分别与位于首端和尾端的冷却片相连接,进冷却水管和出冷却水管与一冷却器的出水口和进水口相连接;通过在反应槽中设置冷却片,冷却片内通入循环冷却介质,这样化学放热反应产生的热量就会与冷却片内的冷却介质产生热交换,并被冷却介质带走,从而使反应槽内的反应液的温度保持在一定的范围内,达到化学反应所需要的恒温环境的要求。
- 水膜式恒温反应器
- [发明专利]垂直设备-CN202110720946.5在审
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吴凝香
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超捷半导体设备(深圳)有限公司
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2021-06-28
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2021-08-20
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H05K3/00
- 本发明涉及电路板技术领域,尤其涉及一种垂直设备,包括定位夹具、上料装置、化学处理装置、药液供应装置、清洁装置、下料装置及磁力传输装置,所述上料装置、化学处理装置、清洁装置及下料装置顺次设置,所述定位夹具用于对电路板进行夹持,所述磁力传输装置用于带动上料装置、定位夹具及下料装置运动,所述上料装置将定位夹具通过磁力传输装置移送至化学处理装置处,所述化学处理装置对定位夹具上的电路板进行化学处理后磁力传输装置将定位夹具移至清洁装置处,清洁装置对电路板进行清洁后磁力传输装置将定位夹具移至下料装置处,下料装置通过磁力传输装置将定位夹具移出,所述药液供应装置用于供液。
- 垂直设备
- [实用新型]垂直设备-CN202121461569.X有效
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吴凝香
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超捷半导体设备(深圳)有限公司
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2021-06-28
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2023-06-23
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H05K3/00
- 本实用新型涉及电路板技术领域,尤其涉及一种垂直设备,包括定位夹具、上料装置、化学处理装置、药液供应装置、清洁装置、下料装置及磁力传输装置,所述上料装置、化学处理装置、清洁装置及下料装置顺次设置,所述定位夹具用于对电路板进行夹持,所述磁力传输装置用于带动上料装置、定位夹具及下料装置运动,所述上料装置将定位夹具通过磁力传输装置移送至化学处理装置处,所述化学处理装置对定位夹具上的电路板进行化学处理后磁力传输装置将定位夹具移至清洁装置处,清洁装置对电路板进行清洁后磁力传输装置将定位夹具移至下料装置处,下料装置通过磁力传输装置将定位夹具移出,所述药液供应装置用于供液。
- 垂直设备
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